「研範」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

該装置は、一次状態調節シリンダ１５及び一次状態調節ピストン２５の直径を変化させ、さらに媒体の温度を制御することにより、研摩材媒体を所定の範囲の粘度内に管理し共用可能とする。例文帳に追加

The abrasive medium can be controlled at the viscosity in a prescribed range for common use by changing the diameters of a primary state adjusting cylinder 15 and a primary state adjusting piston 25 and controlling the temperature of the medium. - 特許庁

コモン電極層６２はスクリーン印刷手法にて形成され、またその上面８０の平坦部分は、表面粗さが所定範囲となるように研磨される。例文帳に追加

The common electrode layer 62 is formed by the screen printing method, and a flat part of the upper surface 80 thereof is polished so that the surface roughness is within a predetermined range. - 特許庁

抗体系療法を実施する広範囲にわたる研究が存在するが、異常なB細胞活性と関連する病気を治療するための改善された方法についての必要性が当分野に存在する。例文帳に追加

To provide improved methods for treating diseases associated with aberrant B-cell activity which is needed in the art, although there is extensive research carried out on antibody-based therapies. - 特許庁

すなわち、焼結による結晶粒子の９０％が２．４μｍ以下の範囲で形成され、砥粒による研磨面上での窒化珪素質結晶粒子の脱落は相対的に減少し、かつ脱落粒子径も小さくなる。例文帳に追加

Namely, 90% of the crystal particles by sintering is formed in a range of ≤2.4 μm and the dislodgment of the silicon nitride crystal particles on the polished surface by abrasive gains decreases relatively and the dislodged particle diameter diminishes as well. - 特許庁

研磨モードでは、ステアリングローラ５２の最大傾動角度を、画像形成時よりも小さく設定して、画像形成時よりも狭い傾動角度範囲で傾動させる。例文帳に追加

In the polishing mode, the maximal tilt angle of the steering roller 52 is set smaller than that in the image formation so as to tilt it in a narrower tilt angle range than that in the image formation. - 特許庁

（ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるカルボン酸化合物、（ｂ）コロイダルシリカ粒子、及び、（ｃ）複素環化合物、を含み、ｐＨが２．５〜４．５の範囲にある研磨液である。例文帳に追加

The polishing solution contains (a) carboxylic acid compound represented by formula (I), (b) colloidal silica particles and (c) heterocyclic compound, and its pH is within 2.5 to 4.5. - 特許庁

液体を噴射するので研磨熱によるＰＥＴの基材１００の変形を小さくでき、所定範囲のＲａ、Ｒｍａｘにより受容層１０３又は混在層１０４の接着力を確保する。例文帳に追加

Due to jetting of the fluid, the deformation of the substrate 100 of PET by abrasive heat is rendered small, and the adhesive force of the receptive layer 103 or the mixed layer 104 is secured by the specified range of Ra and Rmax. - 特許庁

また、本発明のＣＭＰ研磨液は、セリウム系砥粒と、分散剤と、ポリアクリル酸化合物と、界面活性剤と、ｐＨ調整剤と、リン酸化合物と、水とを含有し、リン酸化合物の含有量が所定範囲である。例文帳に追加

In addition, the CMP polishing liquid of the present invention contains cerium-based abrasive grains, a dispersant, a polyacrylic acid compound, a surfactant, a pH adjusting agent, a phosphate compound and water, and the content of the phosphate compound is in a prescribed range. - 特許庁

また、その炭化珪素の研磨液は、二酸化マンガンとして存在できる範囲の酸化還元電位とした水溶液中に二酸化マンガンの粒子が懸濁された物が好ましい。例文帳に追加

The polishing liquid for silicon carbide is preferably a suspension obtained by suspending manganese dioxide particles in an aqueous solution having an oxidation-reduction potential range allowing the existence as manganese dioxide. - 特許庁

発泡シート２は、研磨面Ｐから全体の厚さに対して５０％の厚み範囲に中空状の樹脂微粒子４が６０％以上局在するように含有されている。例文帳に追加

The foaming sheet 2 includes hollow resin particulates 4 so as to locally exists by 60% or more in a thickness range of 50% to the whole thickness from a polishing surface P. - 特許庁

円錐ころ又は凸面ころ用のワークに施すころ端面の研削加工の能率をよくし、かつ十分な精度に実施できるワークの対象範囲を広げる。例文帳に追加

To improve efficiency of cutting of a roller end surface applied to a workpiece for a tapered roller or convex roller; and enlarge a target range of the workpiece carried out with sufficient accuracy. - 特許庁

そして、その検出した温度の時間的な変化傾向に基づき研磨期間中における少なくとも２つの異なる時間範囲を設定する（ステップＳ２）。例文帳に追加

At least two different time ranges are set in the period of polishing according to the trend of temporal change in the detected temperature (S2). - 特許庁

このように、モース硬度および粒度を特定範囲に限定することにより、徐冷製鋼スラグを素材とするブラスト処理用研削材を提供することができる。例文帳に追加

By limiting the Mohs hardness and grain size in specific ranges, the abrasive for blast processing in which the slowly-cooled steel slag is used as a material can be provided. - 特許庁

化学的もしくは生化学的薬剤／薬剤相互作用研究を含む、広範囲のアッセイの可能性のために、自己会合単層でのコロイド誘導のための新しい技術を提供する。例文帳に追加

To provide a novel technique for derivatizing a colloid, with a self-assembled monolayer for the capability of a wide variety of assays including chemical or biochemical agent/agent interaction studies. - 特許庁

現行の「ＵＬＥ」ガラスに可能なよりも広い温度範囲に亘り安定な熱膨張を有し、表面粗さ要件を満たすように研磨できる低熱膨張ガラスを提供する。例文帳に追加

To provide a low thermal expansion glass which has stable thermal expansion in a temperature range wider than that in the present ULE glass and can be polished so as to satisfy surface roughness requirements. - 特許庁

また、上記プラネタリー機構は、加工物Ｗの自転軸芯Ｏ2の公転軌跡Ｃ1が回転砥石５の研削範囲内に納まるように公転半径Ｅを設定する。例文帳に追加

The planetary mechanism has a revolution radius E set so that the revolution track C_1 of the rotation spindle center O_2 of the workpiece W is within the grinding rage of the rotary grinding wheel 5. - 特許庁

粒子固定層２の表面３の平均表面粗度は０．０２〜０．２２μｍの範囲にあり、この粒子固定層２の表面３に研磨層４が形成される。例文帳に追加

The surface 3 of the grain bonding layer 2 has a mean surface roughness in a range of 0.02 to 0.22 μm, and the abrasive layer 4 is formed on the surface 3 of the grain bonding layer 2. - 特許庁

研磨粒子として、粒径が１〜５０ｎｍの範囲にある単結晶ダイヤモンド粒子、多結晶ダイヤモンド粒子、又はこれら単結晶及び多結晶ダイヤモンド粒子からなるクラスター粒子が使用される。例文帳に追加

As the abrasive particle, single crystalline diamond particles, the diameters of which are in the range of 1 to 50 nm, poly crystalline diamond particles or a cluster particles consisting of the single crystalline and poly crystalline diamond particles are used. - 特許庁

バックパッド６の樹脂層の圧縮率が６〜２５％であり、かつ、樹脂層の圧縮率と研磨パッド２の圧縮弾性率との積が６００〜２１００の範囲にある。例文帳に追加

The compression rate of the resin layer of the back pad 6 is 6-25%, and the product of the compression rate of the resin layer and the compression modulus of the polishing pad 2 is in the range of 600-2,100. - 特許庁

金属粒子の粒径は被膜２３の厚みよりも大きく（例えば１０〜１００μｍの範囲）、皮膜２３の表面は研磨加工により平滑面となっている。例文帳に追加

The size of the metallic grain is greater than the thickness of the film 23 (for example, in the range of 10 to 100 μm), and the front surfaces of the films 23 are flat surfaces by polishing work. - 特許庁

クレーン等で上部から吊るための作業や、一回の帯状ガイドレールの設置毎に作業可能な範囲を広くすることができる切断・研掃装置を提供する。例文帳に追加

To provide a cutting/abrasive sweeping device which can make a range of an available work space broaden in every suspension work from upper part by such as a crane or at the time of setting a strip-shaped guide rail. - 特許庁

研磨部材で表面を粗面化した感光体を用いて、従来よりも許容範囲の広いクリーニングシステムを達成できる製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a production method which can achieve a cleaning system with an allowable range wider than the conventional one using a photoreceptor having a surface roughened with a polishing member. - 特許庁

積層部１２となるグリーンチップとセラミック側面層１３，１４との界面３０，３１と、未焼成の部品本体２の外表面との交線３２が、面取り部１９の曲面形成範囲内に位置するように研磨する。例文帳に追加

Polishing is performed so that the line of intersection 32 between the interfaces 30, 31 of a green chip becoming a lamination 12 and ceramic side surface layers 13, 14, and the outer surface of an unfired component body 2 is located in the curved surface formation range of a chamfered portion 19. - 特許庁

ライトガイド（１）の出射端面（１ａ）を出射端面とライトガイドの中心軸（Ｃ）に直交する面（Ａ）とのなす角度（θ）を５度〜３５度の範囲となるよう、出射端面を斜研磨する。例文帳に追加

The light emitting end face (1a) of the light guide (1) is obliquely polished so that an angle (θ) formed by the emitting end face and a plane (A) orthogonally crossing the center axis (C) of the light guide lies in the range of 5-35°. - 特許庁

その後、この算出値が予め設定してある閾値の範囲内にあるか否かを判定することにより研摩したキャップチップ２０の先端部形状の良否を判定する。例文帳に追加

After that, acceptability of the tip profile of the ground cap chip 20 is decided depending on the judgement whether or not the calculated value is within the range of a predetermined threshold value. - 特許庁

屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、可視光に対する透明性が高く、且つ研磨加工やプレス成形を行い易い光学ガラス及び光学素子を提供する。例文帳に追加

To provide optical glass which has a low Abbe number (νd) even though the refractive index (nd) thereof is within a desired range, is highly transparent to visible light, and is also easily subjected to polishing and press forming, and to provide an optical element. - 特許庁

このように、反射ミラーを使用することにより、観測点を従来では不可能であった研磨定盤の中央部とすることができ、広い範囲のウェハ１の表面状態を観察することができる。例文帳に追加

The use of the reflecting mirror can thus set the observation point to the center part of the polishing surface plate, which was impossible for the conventional device, and observe the surface state of the wafer 1 in a wide range. - 特許庁

噴射直後の混合エアー中の研削材の濃度を５０〜２００ｇ／ｍ^3に設定し、さらには混合エアーの基板に対する衝突速度の最大値を４５〜７０ｍ／ｓの範囲に設定する。例文帳に追加

A density of grinder material in mixed air after blasting is set to 50-200 g/m3, and the maximum value in a collision speed of the mixed air to a substrate is set to the range of 45-70 m/s. - 特許庁

研磨テープとして、少なくともガラス基板の表面に押し付けられる表面部分が太さ０．１μｍ〜５．０μｍの範囲にある繊維からなる織布、不織布、植毛布又は起毛布からなるテープが使用される。例文帳に追加

As the polishing tape, a tape comprising woven fabric, nonwoven fabric, flocked fabric or raising fabric comprising fibers at least the surface part of which are pushed to the surface of the glass substrate and have 0.1 to 5.0 μm size is used. - 特許庁

板状形成物は５角形として、その外周辺を研摩材粒子を保持する範囲の厚みの薄刃状にして刃物に代わる切断具（刃のないカッタ−と言う）とした。例文帳に追加

The plate-like object is formed in pentagonal shape, and its outer peripheral side is formed in thin cutting edge shape with a thickness in a range of holding abrasive particles to form a cutting tool (a cutter without a cutting edge) in place of the cutter. - 特許庁

研磨材の飛散による悪影響をなくし、被処理物に対し広い範囲でバリ取りや異物除去を行うことができる湿式ブラスト装置を提供する。例文帳に追加

To provide a wet type blasting device which eliminates adverse effects due to scattering of a polishing agent and removes burrs and foreign matters in a wide range for a matter to be treated. - 特許庁

製品タイヤの表面に研磨跡を残すことなく、ＲＲＯの最大値を許容範囲内に充分に抑えることを容易に行うことができるグリーンタイヤの製造方法を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a method for producing a green tire which can easily control the maximum value of RRO within a tolerance without leaving a polishing trace on the surface of a finished tire. - 特許庁

そして、エアーマイクロ測定器６からの板厚信号ＳAMが示す板厚と基準板厚値との差が許容誤差範囲を超えていると、制御装置７が磁気ディスク基板Ｗの再加工を両面研削装置１に指示する。例文帳に追加

If the difference between the thickness shown by the thickness signal SAM from the air-micro-measuring instrument 6 and the reference thickness value exceeds a tolerance, the control device 7 instructs the re-machining of the magnetic disk substrate W to the both-face grinding device 1. - 特許庁

屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、研磨加工を行い易い光学ガラスと、これを用いた光学素子及び光学機器を得る。例文帳に追加

To obtain optical glass where polishing works are easily performed regardless of having a refractive index (n_d) and an Abbe's number (ν_d) within their predetermined ranges, an optical element using it and an optical device. - 特許庁

水系研削液中のｐＨを一定の範囲に維持することができ、加工装置の各部品の動作不良等を引き起こすことがないセラミック焼結体の加工方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a ceramic sintered body, in which a pH value of an aqueous grinding liquid is controlled to a specified range, and which hardly causes an operating failure etc. of each component of a manufacturing device. - 特許庁

ガラス板の主表面を研磨により、面内板厚み差を３μｍ以下、測定波長範囲０〜５ｍｍのうねり（ωａ値）を２ｎｍ以下に平滑化したことを特徴とするマイクロ化学チップ用ガラス基板である。例文帳に追加

The glass substrate for a microchemical chip has a major surface smoothed by polishing to have a thickness difference of the inside plane of ≤3 μm and an undulation (ωa value) of ≤2 nm in the measured wavelength range of 0-5 mm. - 特許庁

粒子の形状が板状で、粒子板面方向の平均粒子径が１０ｎｍから１，０００ｎｍの範囲にあり、かつ５０％以上の粒子が板厚方向に孔を有する金属酸化物粒子からなることを特徴とする研磨粒子。例文帳に追加

The abrasive particles are composed of metal oxide particles, having plate-like shape and 10-1,000 nm average particle diameter in a direction of particle plate surface, in which ≥50% particles have holes in a thickness direction of the plate. - 特許庁

中和されているカルボン酸と、酸化剤と、水と、を含有し、前記カルボン酸の一部が脂環族樹脂酸（Ａ）であり、ｐＨ値が７．５〜１２の範囲にある研磨用組成物。例文帳に追加

The present invention provides a polishing composition containing a neutralized carboxylic acid, an oxidizer and water, wherein a part of the carboxylic acid is an alicyclic resin acid (A) and the pH value is within a range of from 7.5 to 12. - 特許庁

これによれば、洗浄に伴うエッチングによって表面粗さが増してしまっても、それが、後に行われる鏡面研磨工程における取代の範囲内で生じる。例文帳に追加

Thereby, even when surface roughness increases by etching accompanying washing, the increase of the surface roughness generates in the range of machining allowance in the mirror-surface polishing step performed later. - 特許庁

屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、可視光に対する透明性が高く、且つ研磨加工やプレス成形を行い易い光学ガラス及び光学素子を提供する。例文帳に追加

To provide optical glass which has a low Abbe number (ν_d) even though the refractive index (n_d) thereof is within a desired range, is highly transparent to visible light, and is also easily subjected to polishing and press forming, and to provide an optical element. - 特許庁

中和されているカルボン酸と、酸化剤と、水と、を含有し、前記カルボン酸の一部が脂環族樹脂酸（Ａ）であり、ｐＨ値が７．５〜１２の範囲にある研磨用組成物。例文帳に追加

A polishing composition containing a neutralized carboxylic acid, an oxidizer and water, is disclosed, wherein a part of the carboxylic acid is an alicyclic resin acid (A) and the pH value is within a range of from 7.5 to 12. - 特許庁

電鋳薄刃砥石１０を回転させつつ刃先部１１の先端から２ｍｍ以下の範囲の研削領域１２にレーザ光を照射して熱処理し再結晶組織とする。例文帳に追加

A grinding region 12 extending inward to within 2 mm of a tip of the edge part 11 is irradiated with a laser for the heat treatment with the electroforming sharp-edged grinding wheel 10 rotated, so that a recrystallized structure is formed. - 特許庁

繊維により構成された不織布の繊維基材２に、Ａ硬度が７０〜１００の範囲内であるエポキシ樹脂３を塗布又は含浸させるか、又は不織布の繊維基材２表面にエポキシ基が含有されてなる研磨パッド１。例文帳に追加

The polishing pad 1 is made by applying or impregnating a nonwoven fabric base material 2 composed of fiber with an epoxy resin 3 with (A) hardness of 70 to 100, or by using the nonwoven fabric base material 2 where an epoxy group is contained in the its surface. - 特許庁

新たな物質の商業化を促進するため，エコノミーは，技術的な世代交代を奨励し，より広範囲なイノベーションを促進させ，既存の研究成果のより効率的な適用をもたらす政策を支援する。例文帳に追加

In order to facilitate commercialization of new materials, economies may support policies encouraging change in the technological generation, fostering broader innovation and resulting in more efficient application of the existing research outcomes. - 経済産業省

長期にわたるナノテクノロジー研究への広範囲な公的機関の関与と認知は，市場を支え，関連品の需要に貢献し，科学者の一定の流入を生み出す。例文帳に追加

Broader public involvement in and awareness of the nanotechnology research in the long-term supports markets, contributes to the demand for relevant goods as well as creates a steady inflow of researchers. - 経済産業省