「Alignment accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

Since many glass substrates 3 are clamped in a state that the liquid-absorbent sheets in a wet condition are respectively interposed between the glass substrates, the adhesive strength between the glass substrates is high, thereby allowing the glass substrates to be prevented from getting out of alignment when processed, and processing accuracy to be improved.例文帳に追加

湿潤状態の液体吸収性シートを挟んだ状態で多数枚のガラス基板３がクランプされるので、ガラス基板間の密着力が高く、加工時におけるガラス基板のずれを防止でき、加工精度を高めることができる。 - 特許庁

Terminals 13 are connected and fixed by a regulating member 15, made of solder at a position shifted slightly to a side opposite to the tips of the terminals 13, with respect to a height of a mounting face 12a of a case 12 to the printed circuit board 21, under the condition of the accuracy of the alignment of the terminal 13 being secured.例文帳に追加

ターミナル13のアライメント精度を確保した状態で、ケース12のプリント回路基板21への取付面12ａの高さよりターミナル13の先端と反対側にわずかにずれた位置で、はんだからなる規制部材15によりターミナル13を連結固定する。 - 特許庁

To obtain a manufacturing device for electrooptical panel by which two substrates can be stuck to each other while the cell gap and alignment accuracy between the two substrates formed in a vacuum are maintained so as not to be spoiled by conveyance between processes and the like.例文帳に追加

真空中で形成された２つの基板間のセルギャップや位置合わせ精度を、工程間搬送などによって損なわれないように維持したまま、２つの基板を貼り合せることが可能な電気光学パネルの製造装置を得ること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a superjunction semiconductor by using a multistage epitaxial system, in which a silicon epitaxial growth rate after alignment marker formation is not made slower than that of a typical condition, deterioration of pattern form accuracy of the alignment marker is prevented, and auto doping from a low resistance arsenic-doped silicon substrate used to lower an on resistance of a superjunction semiconductor is prevented.例文帳に追加

アライメントマーカーの形成後に行うシリコンエピタキシャルの成長速度を、通常の条件より遅くすることなく、アライメントマーカーのパターン形状精度の低下を防ぎ、超接合半導体装置を低オン抵抗にするために用いられる低抵抗砒素ドープシリコン基板からのオートドーピングを防止する多段エピタキシャル方式による超接合半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Since a patterned light blocking film 102 is formed on the rear side of a substrate 101 and used as a photomask for forming a pattern of the gate electrode 103 and a pattern of the source and drain electrodes 108 on the front side of the substrate, the number of photomasks is reduced, and self-alignment between the gate electrode and the source and drain electrodes is carried out, thereby improving the alignment accuracy of these electrodes.例文帳に追加

パターニングされた遮光膜１０２を基板１０１裏面側に形成し、基板表面側に形成されるゲート電極１０３およびソース・ドレイン電極１０８のパターン形成用のフォトマスクとして共用することにより、フォトマスク数が低減されると共に、ゲート電極とソース・ドレイン電極の位置合わせが自己整合的に行われるため互いの合わせ精度が向上する。 - 特許庁

To provide an ink jet recording head which eliminates stagnancy at an ink flow or the like, can obtain a good ink discharge operation and high- quality gradation expression, and also can ease a layer alignment accuracy when layered thin plate parts are bound, or the like.例文帳に追加

インク流における淀み等の発生を解消し、良好なインク吐出動作及び高品位な階調表現が得られるものでありながらも、積層する薄板部品間における連結時の積層アライメント精度等を緩和できるインクジェット記録ヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the channel forming region of the semiconductor device is formed on substantially single crystal grain of a large grain size with excellent alignment accuracy, an electro-optical device and an electronic device which employ the semiconductor device, and the manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

大粒径の略単結晶粒に半導体装置のチャネル形成領域がアライメント精度良く形成されている半導体装置、それを用いた電気光学装置と電子デバイス、及び半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Therefore, the recognition pattern can be picked up through the detection window, so that an alignment accuracy between the circuit forming body and electronic component can be improved and the electronic component can be also mounted in high density, permitting the improvement of productivity and reduction of cost.例文帳に追加

よって、上記検出用窓を通して上記認識用パターンを撮像できるので、上記回路形成体と上記電子部品との位置合わせ精度が上がり電子部品の高密度実装が可能となり、生産性の向上、コストダウンを図ることができる。 - 特許庁

To provide an alignment device for highly accurately and automatically aligning an inkjet head, substantially reducing setup time in coating while improving accuracy stability against external force and thereby eliminating head exchange time and position adjustment time after exchange.例文帳に追加

インクジェットヘッドのアライメントを高精度に自動で行うとともに、外力にたいする精度安定性を向上させつつ、塗工の際の段取り時間を大幅に減らすことができることで、ヘッド交換時間および交換後の位置調整時間をなくすアライメント装置を提供する。 - 特許庁

Since both free ends of the pipe frame 14, i.e., the rear end 15A and the lower end 18B, are fixed at respective different positions on the center pillar 19, no alignment of the rear end 15A with the lower end 18B is needed, thus the severeness of bending accuracy in a bending process or the like is eased.例文帳に追加

一方、パイプフレーム１４は、両方の自由端をそれぞれセンタピラーの別個の位置に固着しているから、パイプフレーム１４の後端１５Ａ、下端１８Ｂを互いに位置合わせする必要がなく、曲げ加工等の加工精度を緩和することができる。 - 特許庁

To provide a device and a method for exposure by which the deterioration of an image resolution and overlay accuracy can be prevented by suppressing the disturbance of a purging gas in a purging area, or preventing the occurrence of a difference in an apparent refractive index in a forward scanning path and a backward scanning path at the time of performing scanning projection alignment.例文帳に追加

パージ領域内におけるパージガスの乱れを抑制し、あるいはスキャン露光の際の、スキャニングの往路と復路における見かけの屈折率に差が生じることを防止し、解像度、あるいは重ね合わせ精度の劣化を防止することを目的とする。 - 特許庁

To provide a division exposure device and a division exposure method by which imposition can be efficiently carried out within an exposure substrate and excellent alignment accuracy is achieved in a division exposure device equipped with a lamp house, a reflection mirror, a camera unit, imaging lens and an exposure substrate.例文帳に追加

ランプハウスと、反射ミラーと、カメラユニットと、結像レンズと、露光基板とを備えた分割露光装置において、露光基板内に効率よく面付けができ、かつアライメント精度に優れた分割露光装置及び分割露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, by which occurrence of a void or a connection failure originating in an oxide film on a solder bump surface can be suppressed without using a flux agent while maintaining alignment accuracy and connectivity between solder bumps.例文帳に追加

半田バンプ同士の位置合せ精度や接続性を維持しつつ、フラックス剤を用いることなく、半田バンプ表面の酸化膜に起因するボイドや接続不良の発生を有効に抑制することを可能にした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photolithographic process allowing reduction of an alignment error of an exposure shot formed on a wafer using a method not increasing costs, improving the accuracy of superposition between upper and lower mask patterns even when exposure devices having different shot area sizes are used together.例文帳に追加

コスト上昇を招くことのない方法によってウェーハ上に形成される露光ショットの配列誤差を低減し、ショットエリアの大きさが異なる露光装置を混用しても上下のマスクパターンの重ね合わせ精度が向上できるフォトリソ工程を提供する。 - 特許庁

To form an alignment mark capable of improving superposition accuracy, and of reducing an exposure and superposition measurement processing time when a new pattern is formed by superposing a new pattern on a pattern formed by a double pattern to be exposed to light.例文帳に追加

ダブルパターンで形成されたパターンに新たなパターンを重ね合わせて露光して、新たなパターンを形成する際、重ね合わせ精度を向上させると共に、露光及び重ね合わせ計測処理時間を短縮することができるアライメントマークを形成できるようにする。 - 特許庁

To realize an aligner which carries out alignment with high accuracy, according to the deformation of a substrate by irradiating a predetermined position of the substrate surface with light, and simultaneously detecting both of the actual position of a positioning mark preliminarily formed to coincide with the irradiation position and the irradiation position.例文帳に追加

基板表面の所定位置に照射光を照射し、予め照射位置に一致するように設けた位置決めマークの実際の位置と照射位置とを同時に検出して、基板の変形に応じた精度の高いアライメントを行なう露光装置を実現する。 - 特許庁

To provide a method of controlling position by which an ultra-fine pattern can be formed in a highly reproducible state with high accuracy when an auto-alignment mechanism is unusable or the fine adjustment of a sample holder is difficult after the holder is fixed in a lithography step performed in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程のリソグラフィー工程において、オートアライメント機構の使用が不可能な場合、またはサンプルホルダー固定後の微調整が困難な場合に極微細パターンを高精度で再現性良く形成できる位置制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transmissive screen with high resolution to be used for a rear projection type display, and to provide a method for molding top and back faces of a transmissive screen having excellent alignment accuracy between a lens unit and BS, less structural members and certain flexibility for selecting materials.例文帳に追加

本発明は、背面投射型ディスプレイに用いる高解像度の透過型スクリーンとレンズ部とＢＳのアライメント精度に優れ、構成部材が少なくかつ材料の選定に自由度のある透過型スクリーンの表裏両面成型法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus wherein the alignment of the position of the leading end of a sheet is performed with simple constitution, without affecting the rotational phase of a photoreceptor drum, and deviation of a transfer timing due to decentering of the photoreceptor drum is prevented, and an image transfer position accuracy is improved.例文帳に追加

簡単な構成で感光体ドラムの回転位相に影響することなく用紙先端の位置を合わせ、感光体ドラムの偏心による転写タイミングのズレを防止して画像の転写位置精度の向上を図った画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a die bonder and a die bonding method having a short tact time and a high alignment accuracy by reducing the impact of vibration generated by conveyance operation or airflow produced by a heat source on an image captured for the purpose of positioning a work or a wafer.例文帳に追加

搬送動作により発生する振動や熱源による気流の発生によって、ワークやウエハの位置決めのために撮像する画像が受ける影響を減少させ、タクトタイムが短く、位置合わせ精度が高いダイボンダおよびダイボンディング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus wherein the alignment of the position of the leading end of a sheet is performed using a simple constitution, without affecting the rotational phase of a photoreceptor drum, and the deviation of transfer timing due to decentering of the photoreceptor drum is prevented, and the image transfer position accuracy is improved.例文帳に追加

簡単な構成で感光体ドラムの回転位相に影響することなく用紙先端の位置を合わせ、感光体ドラムの偏心による転写タイミングのズレを防止して画像の転写位置精度の向上を図った画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can control a step between an element isolation area and an element area and secure alignment accuracy without adding any other step in the realization of an isolation trench according to STI(Shallow Trench Isolation) method, and a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

ＳＴＩ法による素子分離溝の実現に際し、何ら新たな工程を追加することなく、素子分離領域と素子領域との段差の抑制、並びに位置合せ精度の確保を併せ図ることのできる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The image of a mask pattern is formed accurately on a substrate by determining correspondence between a scanning direction regulated on a first coordinate system for controlling movement of first stages 10, 11 holding a mask 12 and a scanning direction regulated on a second coordinate system for controlling movement of a second stage 4 holding a substrate 5 thereby enhancing alignment accuracy of the mask and the substrate at the time of scanning alignment.例文帳に追加

マスク（１２）を保持する第１ステージ（１０，１１）の移動を制御するための第１座標系で規定される走査方向と、基板（５）を保持する第２ステージ（４）の移動を制御するための第２座標系で規定される走査方向との対応関係を求めることによって、走査露光時のマスクと基板とのアライメント精度を向上させて、マスクのパターンの像を正確に基板上に形成する。 - 特許庁

To provide meters mounted on a fuel tank of a vehicle or the like, which can be mounted on the fuel tank with high accuracy of alignment between a meter main body and a meter cover for covering the peripheral part by a simple fitting structure having a small number of fitting parts.例文帳に追加

車両等の燃料タンク上に設置されるメーターについて、メーター本体とその周辺部を覆うメーターカーバーとを、両者の位置合わせの精度が高く、しかも、少ない取付部品による簡単な取付構造によって燃料タンク上に設置できるようにする。 - 特許庁

To provide a multilayer suspension which makes it possible to drastically curtail the number of laser welding process steps, to greatly enhance alignment accuracy and to improve vibration characteristics and wind disturbance characteristics without an increase in a spring constant, a HGA and a method of manufacturing the HGA.例文帳に追加

レーザウェルディング工程数を大幅に削減できかつ位置合わせ精度を大幅に高めることができ、また、振動特性及び風乱特性を、ばね定数の増加なく向上させることができるマルチレイヤサスペンション、ＨＧＡ及びこのＨＧＡの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the degradation in the accuracy of optical axis alignment accompanying the curing shrinkage of optical adhesives when producing an adhesive structure of optical parts having a first optical part, second optical part and a mount and in which the first optical part is adhered to the mount.例文帳に追加

第一の光学部品、第二の光学部品およびマウントを備えており、第一の光学部品がマウントに対して接着されている光学部品の接着構造を製造する際に、光学接着剤の硬化収縮に伴う光軸合わせの精度の低下を防止する。 - 特許庁

The tile T has superior dimension accuracy so that when the tiles are arranged on the substrate 1 surface with their side faces abutting on each other, the tile wall W with superior joint alignment can be constructed in a prescribed position and there is no possibility that the tile T causes positional deviation even before hardening of the affixing adhesive.例文帳に追加

タイルＴは寸法精度が優れているから、互いに側面を突き合わせるようにして下地１表面に配列するだけで、目地通りの良いタイル壁Ｗを所定位置に構築することができ、張り付け用接着剤が硬化する以前でも、タイルＴが位置ずれを起こすおそれがない。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine and accurate pattern even on a substrate having high reflectivity, a substrate or the like in which a transparent film is interleaved by solving a problem (deterioration of a dimensional accuracy) due to halation or interference of a reflected light from the substrate and conducting an accurate mask alignment.例文帳に追加

基板からの反射光によるハレーションや干渉現象による問題（寸法精度劣化）を解決し、精度の高いマスクアライメントを行うことで、反射率の高い基板，透明膜が介在する基板等においても微細で高精度のパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device capable of providing a color image whose positional accuracy of four-color toner is enhanced and whose transfer ability is stable by fixing a turning roller turning a photoreceptor in a photoreceptor unit and realizing an alignment where positional relation is not changed.例文帳に追加

感光体ユニット内の感光体を回動させる回動ローラを固定し、位置関係を動くことのない位置出しを可能とすることでなるので、４色トナーの位置精度を上げられ転写性も安定したカラー画像を提供することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a lens unit capable of easily improving the alignment accuracy of an objective lens main body and a phase control element irrespective of a space between the objective lens main body and the phase control element or the optical axis inclination of them, thereby easily improving the image forming characteristics of the objective lens of a compatible type.例文帳に追加

本発明は、対物レンズ本体と位相制御素子との間隔や相互の光軸の傾きに関わらず、両者のアライメント精度を簡易に向上させることができ、結果として、互換タイプの対物レンズの結像特性を簡易に向上させることができるレンズユニットを提供すること。 - 特許庁

To provide a printing method and a printer that enable printing with high positional accuracy at a level usable for manufacturing TFT substrates or the like and facilitates alignment work both between a printing plate and a blanket and between a blanket and a substrate while enabling to obtain superior ink-pattern reproducibility.例文帳に追加

良好なインキパターン再現性が得られると共に、印刷版−ブランケット間とブランケット−基板間の双方のアライメント作業が容易で、ＴＦＴ基板等の作製に使用できる程度の高い位置精度で印刷を行える印刷方法と印刷装置を提供する。 - 特許庁

To provide a color liquid crystal display element which is free from color drifts of respective color patterns of color filters without executing high- accuracy alignment, is free from the display unevenness occurring in the ruggedness of filter surfaces and is small in size, light in weight and low in electric power consumption and a method for manufacturing a substrate for the element.例文帳に追加

高精度な位置合せを行わずにカラーフィルタの各色パターンの色ずれが無く、フィルタ表面の凹凸に起因する表示むらが無く、さらに小型・軽量・低消費電力なカラー液晶表示素子および該素子用基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin stamper capable of enhancing workability without generating a defect in a pattern part of the stamper, to provide an imprint device which allows alignment with high accuracy using the stamper and to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium of high quality using the imprint device.例文帳に追加

スタンパのパターン部に欠陥を生じることなく作業性を向上させる樹脂スタンパ、そのスタンパを用いて高精度な位置合わせを行うことのできるインプリント装置、およびそのインプリント装置を用いた高品質な磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a first impurity region, provided by introducing first impurities and second impurities, and a second impurity region, provided by introducing only the second impurities, in a self-alignment manner, and to form the first impurity region and the second impurity region adjacently at a high accuracy.例文帳に追加

第１不純物と第２不純物とを導入してなる第１不純物領域と、第２不純物のみを導入してなる第２不純物領域とを自己整合的に形成し、第１不純物領域と第２不純物領域とを高精度に隣接して形成する。 - 特許庁

By using an alignment sheet 319 to arrange an LED bear chip 315, which is a light-emitting unit of the packaged LED 311, in the same posture and at an equal interval, a plurality of packaged LED 311 can be easily and collectively mounted on an electrode substrate 313 with high accuracy.例文帳に追加

パッケージＬＥＤ３１１の発光部であるＬＥＤベアチップ３１５を同じ姿勢で、かつ等間隔に配置するためにアライメントシート３１９を用いることで、複数のパッケージＬＥＤ３１１を高精度かつ容易に電極基板３１３に一括実装することができる。 - 特許庁

This evaluation method is used to evaluate misalignment of a bonding which is carried out to bond an integrated circuit chip to a board (multi-chip module, dissimilar integrated circuit chip or the like) in a flip-chip connection manner, where the resistance of a fine wire resistor is evaluated, and an alignment accuracy is obtained resting on a change in resistance.例文帳に追加

本発明では、集積回路チップと基板（マルチチップモジュール、異種の集積回路チップなど）をフリップチップ接続した際のアライメントずれを評価する方法として、細線抵抗の抵抗値を評価することにより、その抵抗値の変化から、アライメント精度を求める。 - 特許庁

In addition, the substrate processing apparatus 1 has a carrying region and a processing region having different required accuracy, an x-directional movement supporting apparatus 5 is provided over the carrying region and the processing region, an alignment supporting apparatus 7 is provided in the carrying region, and the processing supporting apparatus 9 is provided in the processing region.例文帳に追加

また、基板加工装置１は、要求精度が異なる搬送領域及び加工領域を有し、搬送領域及び加工領域に渡ってＸ方向移動支持装置５が設けられ、搬送領域にアライメント支持装置７が設けられ、加工領域に加工支持装置９が設けられる。 - 特許庁

Since the reflection of the irradiation light in the mark body region 15 is remarkably suppressed, contrast is prevented from being easily degraded by interference by a thin film or the like even when the alignment mark 11 is covered with an optically-transparent film, and degradation of the image recognition accuracy can be suppressed.例文帳に追加

さらに、マーク本体領域１５での照射光の反射が大幅に抑制されるため、アライメントマーク１１を光透過性の膜が覆っている場合でも、薄膜による干渉等によってコントラストが低下しにくくなっており、画像認識精度の低下を抑制し得る。 - 特許庁

To provide an aligner capable of carrying out exposure at high accuracy, by carrying out a relative alignment between a projection position of an exposure pattern of a projection optical system and a detection position of a position detection optical system, without having to move the position detection optical system on a rear surface side.例文帳に追加

、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a microstructure element manufacturing device monolithically making a unique structure of easily securing the direction of selected regions, the accuracy of alignment, and reproducibility, alternately arranging quantum dots with changed characteristics in a proximate region, etc., and also to provide a microstructure element production method.例文帳に追加

選択領域の方位、位置合わせの精度、再現性が確保し易く、特性を変えた量子ドットを近接領域に交互に配列させるなどの特異な構造をモノリシックに作ることができる微細構造素子製造装置及び微細構造素子生産方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a dynamic pressure bearing and its manufacturing method causing little damage of dynamic pressure grooves even if a shaft is put in whirling operation of a conical mode, simplifying alignment accuracy for maintaining symmetry in performing electrolytic etching work and exhibiting high performance as the dynamic pressure bearing.例文帳に追加

例え軸が円錐モードの振れ回り動作があったとしても動圧溝の損傷が少なく、電解エッチング加工に際して対称性を維持するための位置合わせ精度を簡便化し、動圧軸受としても高性能を発揮することのできる動圧軸受及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve a problem in a conventional stereoscopic image display apparatus employing a parallax barrier that requires high alignment accuracy between the parallax barrier and a display device employing a liquid crystal display device or a plasma display device whose display position is mechanically fixed because the positional relation between the display device and the parallax barrier is important.例文帳に追加

パララックスバリアを用いた立体画像表示装置で、表示デバイスとパララックスバリアとの位置関係が重要で、表示デバイスには、表示位置が機械的に固定した液晶、プラズマディスプレイなどが利用されており、これらとパララックスバリアとの間では、高い位置決め精度を必要とする。 - 特許庁

A DC current is passed through a communication coil 210 from a control circuit 200, the communication coil 210 formed on two or more integrated circuit substrates 30, thereby turning the communication coil 210 itself into an electrical magnet and carrying out high-accuracy alignment by the magnetic attracting force and repulsive force between the mutually two communication coils.例文帳に追加

複数枚の集積回路基板３０に形成した通信用コイル２１０に、制御回路２００より直流電流を通電する事で、通信用コイル２１０自身を電磁石化し、通信用コイル２１０同士の磁気的引力及び斥力によって高精度の位置合わせを行う。 - 特許庁

To provide a photomask blank and a method for manufacturing a photomask, in which an alignment mark can be detected with high accuracy upon aligning by a drawing machine, regardless of the reflectance characteristics of a sei-transmitting film, and to provide a photomask using the above photomask blank.例文帳に追加

本発明は、半透過膜の反射率特性によらず、描画機による位置合わせの際に、アライメントマークの検出を精度高く行うことができるフォトマスクブランクス、フォトマスクブランクスの製造方法、および上記フォトマスクブランクスを用いたフォトマスクを提供することを主目的とする。 - 特許庁

The optical radio communication terminal decides the optimum optical axis adjusting method among a plurality of optical axis adjusting methods which are different in matching accuracy between transmission-side and reception-side optical axes according to the answer result so that transmission and reception can be carried out, and then informs an optical axis alignment control means 18 of the decision result.例文帳に追加

光無線通信端末は、その応答結果に応じて、送受信が実行可能となるように送信側及び受信側光軸間の合致精度の異なる複数の光軸調整方法の中から最適な光軸調整方法を判定し、その判定結果を光軸合わせ制御手段１８に通知する。 - 特許庁