Beam Formingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3271件
The method for forming a resist pattern includes, in the process of forming a resist pattern by a charged particle beam, a step of fabricating a conductor made of a conductive composition, consisting mainly of a conductive polymer, having a sulfonic acid group and/or a carboxyl group on a resist, and a step of removing the conductor, after irradiating it with a charged particle beam.例文帳に追加
荷電粒子線によるレジストパターン形成時にレジスト上にスルホン酸基および/またはカルボキシル基を有する導電性ポリマーを主成分とする導電性組成物からなる導電体を形成する工程と、荷電粒子線照射後に当該導電体を除去する工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁
This method for warping is constituted by supplying in a plurality of yarn feeding packages obtained by continuously winding yarns of various colors and kinds in longitudinal direction of the yarn while measuring each of lengths in considering patterns after weaving, to prescribed positions of a warping creel for performing the sectional warping and winding them on the sectional warping beam and then forming one fabric-forming beam.例文帳に追加
編成後の紋柄を考慮して、糸の長手方向に種々の色糸や糸種をそれぞれ所定長さに測長しながら連続的に巻成した複数の給糸パッケージを整経クリールの所定位置に供給して部分整経を行い部分整経ビームに巻取った後で、一個の製織ビームを形成する構成とした。 - 特許庁
The system comprises an electron beam accelerator 12 forming high energy electron beams 1 at 100MeV or more, a mirror potential generator 14 generating a static mirror potential in the direction of the formed high energy electron beam and forming a trap region 2, and an ion introducing device 16 for introducing cation of the objective element 3 into the trap region.例文帳に追加
100MeV以上の高エネルギー電子ビーム1を形成する電子ビーム加速器12と、形成した高エネルギー電子ビームのビーム方向に静電ミラーポテンシャルを発生させトラップ領域2を形成するミラーポテンシャル発生装置14と、目的元素3の陽イオンをトラップ領域に入射させるためのイオン入射装置16とを備える。 - 特許庁
The polarization illuminator includes a first optical element 200 for condensing an incident beam and forming a plurality of intermediate beams spatially separated from one another and a second optical element 300 for spatially separating each intermediate beam into two polarized beams and aligning the polarization directions of both polarized beams to obtain one kind of the polarized beam.例文帳に追加
入射光束を集光し互いに空間的に分離された複数の中間光束を形成するための第1の光学要素200と、中間光束を2つの偏光光束に空間的に分離し、両偏光光束の偏光方向を揃えられて一種類の偏光光束とする第2の光学要素300とを有している。 - 特許庁
This beam former includes a beam former software application module constructed for executing at least a partial beam forming process on digital data transmitted between a transducer alley and a calculation device, and a means to exchange signals and data between the transducer alley and the calculation device and to execute A/D or D/A converting.例文帳に追加
ビーム形成器は、トランスデューサアレイ・計算装置間で伝送されるディジタルデータに少なくとも部分的なビーム形成処理を行う計算装置による実行のために構成されるビーム形成器ソフトウエアアプリケーションモジュールと、トランスデューサアレイ・計算装置間で信号及びデータを交換しA/D又はD/A変換を行う手段とを含む。 - 特許庁
The lithography equipment used for pattern-forming a substrate comprises a lighting system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for imparting the cross-section of the projection beam with a pattern, and a substrate table for supporting the substrate at the time of exposure operation, and a projection system projects the patterned beam to a target part of the substrate.例文帳に追加
基板をパターン形成するために使用されるリソグラフィー装置において、放射の投影ビームを供給するための照明系と、投影ビームの断面にパターンを与えるための個別制御可能要素のアレイと、露光動作時に基板を支持するための基板テーブルとを具備し、投影系が、パターン形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する。 - 特許庁
The lighting module M includes: a light beam transmission unit 1 for emitting light; a reflector R1 determined so as to create a plane including the light beam transmission unit 1, a first emitter and a hot spot limited by a control curve A contained in a plane forming a leading edge; and a lens L arranged on a reflector formed so as to break the first beam.例文帳に追加
照明モジュールMは、光を照射する送信機1と、送信機1及び第1のエミッタを含み、リーディングエッジを形成する平面に収容される制御曲線Aによって囲まれる輝点を含む平面を生成するように決定される反射器R1と、第1のビームがブレイクするよう形成する反射器に配置されるレンズLを備える。 - 特許庁
The timing at which the magnitude of the signal, which each beam detection sensor outputs when scanning, is replaced, is detected by logic circuits 51 to 54, the signal which the logic circuit outputs according to the scanning direction of the laser beam is selected, and the starting position of forming of a latent image by the laser beam and the scanning region of the deflection mirror are controlled on the basis of the time detected by the logic circuit.例文帳に追加
各ビーム検知センサがレーザビームの走査時に出力する信号の大きさが入れ替わるタイミングを論理回路51〜54で検出し、レーザビームの走査方向に応じて論理回路が出力する信号を選択して、論理回路で検出したタイミングに基づいてレーザビームによる潜像の形成開始位置と、偏向ミラーの走査範囲を制御する。 - 特許庁
To provide a joint for reinforcing a beam or a column more efficiently causing no increase in the weight of a building without carrying out welding in the building in regard to the joint for connecting a steel pipe forming the whole or a part of the beam or column of the building, and a metallic reinforcing member for reinforcing the beam or column.例文帳に追加
建物の梁又は柱の全体又は一部をなす鋼管と前記梁又は柱を補強するための金属製の補強部材とを繋ぐ継手であって、前記建物内で溶接を行うことなく、また前記建物の重量の増大を招くことなく、より効率的に前記梁又は柱を補強することができる継手を提供すること。 - 特許庁
To prevent a variation of a crystal state due to a change of a collecting beam shape (width of minor axis) of radiating laser beam caused from a heat lens effect of an objective lens produced when forming a belt polycrystal, by scanning a continually oscillating laser beam onto a desired area of an amorphous or granular polycrystal silicon film formed on an insulating substrate.例文帳に追加
絶縁基板上に形成された非晶質あるいは粒状多結晶シリコン膜の所望の領域に、連続発振レーザ光を走査して帯状多結晶領域を形成するに際の対物レンズの熱レンズ効果発生に伴う照射レーザ光の集光ビーム形(短軸幅)の変化による結晶状態の変動を防止する。 - 特許庁
A vehicle headlight device is provided with: a light source for forming a high-beam light distribution pattern including a region above a cut-off line of a low-beam light distribution pattern; and a headlight device control ECU for increasing or decreasing the illuminance of the high-beam light distribution pattern by controlling the light source based on information obtained from a vehicle detection device.例文帳に追加
車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含むハイビーム用配光パターンを形成可能な光源と、車両検知装置から得られた情報に基づいて、光源を制御してハイビーム用配光パターンの照度を増減せしめる前照灯装置制御ECUと、を備える。 - 特許庁
This pattern forming method includes a process wherein an electron beam emission element 10 having at least one pyramid part 18 whose surface is made of diamond is prepared; a process wherein an electron beam 19 is emitted from the pyramid part 18 to expose an electron beam sensitive resist layer 22 by applying a voltage; and a process wherein a portion of the resist layer 22 is removed to execute patterning.例文帳に追加
表面がダイヤモンドからなる少なくとも一つの錐体部18を有する電子線放出素子10を用意する工程と、電圧を印加して錐体部18から電子線19を放出させて、電子線感応性のレジスト層22を暴露する工程と、レジスト層22の一部を除去してパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁
The machining method comprises a first process (Step 1) of forming recesses by irradiating a laser beam on the surface of a workpiece, and a second process (Step 2) of melting the metallic particles, which have stuck to the recesses by spattering from the workpiece during the first process, by irradiating the low power laser beam lower than the laser beam in the first process.例文帳に追加
本発明の加工方法は、レーザ光を被加工物の表面に照射して凹部を形成する第1工程(ステップS1)と、前記第1工程よりも低出力のレーザ光を前記凹部に照射して、前記第1工程の際に前記被加工物から飛散して付着した金属粒を溶融する第2工程(ステップS2)とを有する加工方法である。 - 特許庁
To provide a method of forming a proper resist pattern by EB (electron beam) direct lithography and proper circuit pattern thereafter in a manufacturing process of semiconductor devices, etc., using the EB (electron beam) direct lithography, which coats the entire substrate uniformly with an EB (electron beam) direct lithography resist even in the presence of electrodes having a gold layer and wirings on the substrate.例文帳に追加
EB(電子線)直接描画を用いる半導体装置等の製造プロセスにおいて、基板上に金(Au)層を有する電極、配線が存在しても基板全体に均一にEB直接描画用レジストが塗布でき、EBの直接描画による良好なレジストパターン形成、その後の良好な回路パターンの形成を可能とした方法を提供する。 - 特許庁
In an optical system for forming a rectangular beam spot, an optical system that unifies longitudinal or lateral energy distribution of a rectangular beam spot on an irradiated surface is replaced by an optical element having a curved surface pattern on an injection side face of a laser beam and two reflective faces opposed to each other.例文帳に追加
本発明は、長方形状のビームスポットの形成用光学系において、被照射面における長方形状のビームスポットの長辺方向または短辺方向のエネルギー分布を均一化する光学系を、レーザビームの入射側面に曲面形状を有し、かつ向かい合う二つの反射面を有する光学素子に置き換えるものである。 - 特許庁
In an original plate exposure method for forming a latent image by irradiating a resist layer formed on a substrate with an exposure beam while the substrate 15 is rotated, when a space pattern is formed, the exposure beam is blanked (31) or the exposure beam is deflected to a latent image to be recorded next (33).例文帳に追加
基板15を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することのよって潜像を形成する原盤露光方法において、スペースパターンを形成する場合に、露光ビームをブランキングさせるか(31)、もしくは、次に記録すべき潜像へ露光ビームを偏向させるか(33)、の何れかを選択的に実行する。 - 特許庁
The light emission controller sets the period of occurrence of return light (APC/LD lighting prohibition section) and prohibits the performance of APC in the prohibition section by the coincidence of an incidence direction of an deflectively scanned beam with respect to the beam reflection surface of a scanning means with the normal direction of the beam reflection surface by reflection in the scanning means outside of an image forming period.例文帳に追加
画像形成期間外に走査手段における反射により偏向走査される光ビームの走査手段のビーム反射面に対する入射方向とビーム反射面の法線方向とが一致することにより戻り光が発生する期間(APC・LD点灯禁止区間)を設定し、当該区間におけるAPCの実行を禁止する。 - 特許庁
In the forming method of the three dimensional body comprising plural cured layers bonded to each other by exposing a continuous material layer to a curing stimulating beam, the amount of the curing stimulating beam during a term not-exposed is reduced to not more than 50% of a level at an exposure by changing a wave length of a selected curing stimulating beam.例文帳に追加
連続する材料層を硬化刺激ビームに露出することにより複数の密着した硬化層から成る3次元物体を造形する方法において、選択した硬化刺激ビームの波長を変換することによりビームの量を変化させ、非露出中は硬化刺激ビームの量を露出時の水準の50%以下に削減する。 - 特許庁
A communication device includes a light receiving unit which receives a light beam carrying information, a decoder which reads the information from the light beam, a retroreflector which reflects the light beam, and a response pattern forming unit which determines a response pattern based on the information and forms the response pattern by interrupting a portion of reflected light from the retroreflector.例文帳に追加
通信装置は、情報を搬送する光線を受光する受光部と、光線から情報を読み取るデコード部と、光線を反射する再帰性反射体と、情報に基づいて応答パターンを決定し、再帰性反射体による反射光の一部を遮ることによって応答パターンを形成する応答パターン形成部とを備える。 - 特許庁
By a structure in which a pinhole 105 for beam forming is arranged in front of the deflection modulator 107, the fluctuation of the wavefront of the laser beam accumulated before being inputted to the deflection modulator 107 is dissolved, the fluctuation of the wavefront of the deflection modulator output light is reduced and the focusing performance of the laser beam after the objective lens is improved.例文帳に追加
偏向変調器107の前にビーム整形用のピンホール105を配置する構造にすることによって、偏向変調器107に入力されるまでに蓄積されたレーザ光の波面の乱れを解消し、偏向変調器出力光の波面の乱れを軽減させ、対物レンズ後のレーザ光の絞り性能を向上させる。 - 特許庁
To provide a satellite communication method for shortening beam switching processing caused in a mobile station and avoids missing of broadcast data reception at beam switching in the case of satellite broadcast from a base station to the mobile station via a communications satellite forming a multi-beam on ground and to provide the base station and the mobile station used for the method.例文帳に追加
地上にマルチビームを形成する通信衛星を介して基地局から移動局に対して衛星放送する際に、移動局において生じるビーム切替処理を短縮するとともに、ビーム切替時の放送データ受信欠落することのない衛星通信方法、及びその方法に用いる基地局及び移動局を得ることを目的とする。 - 特許庁
To provide a mask blank for charged particle beam exposure which improves the yield of mask manufacture, by removing selectively the eaves of a curvature adjustment layer generated when forming an opening by the wet etching method, in the manufacture of the mask for charged particle beam exposure using an SOI substrate with a curvature adjustment layer, and to provide a mask for charged particle beam exposure and a pattern exposure method.例文帳に追加
反り調整層を有したSOI基板を用いた荷電粒子線露光用マスクの製造にて、ウェットエッチング法により開口部形成を行った際に発生する反り調整層のひさしを選択的に除去し、マスク製造の歩留まりを向上させる荷電粒子線露光用マスクブランク、荷電粒子線露光用マスク、パターン露光方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus capable of avoiding the insufficiency of image density and the excess of image density of an entire print-out image caused by the adjustment of beam emitting intensity while suppressing the density irregularity in a main scanning direction of the print-out image by adjusting the beam emitting intensity.例文帳に追加
ビーム出射強度の調整によってプリントアウト画像の主走査方向における濃度ムラを抑えつつ、その調整に起因するプリントアウト画像全体の画像濃度不足や画像濃度過多を回避することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The joined part of the detection lens 16 and the beam forming prism 15 is joined with an adhesive having a refractive index which is the same as that of these elements and the laser beam passes through the joined face without being scattered and is condensed on the detector 17 of the front monitor.例文帳に追加
検出系レンズ16とビーム整形プリズム15の接合部分に関しては、これらと同じ屈折率の接着剤にて接合されているので、接合面でレーザ光は散乱されることなく透過し、前方モニタ用検出器17に集光する。 - 特許庁
Laser beam is reflected by the target plate 8 and the diffused beam thereof is formed into an image on the non-cooling image element 4 by the image forming lens 3 of an imaging camera and the formed image is read as an image signal from the non-cooling imaging element 4 by a signal processing part 5.例文帳に追加
レーザビームは目標板8で反射されてその拡散された光が撮像カメラの結像レンズ3によって非冷却撮像素子4上に結像され、信号処理部5によって非冷却撮像素子4から映像信号として読出される。 - 特許庁
To provide a roll-up type electron beam vapor deposition apparatus having an improved yield and productivity of a vapor deposition film by avoiding a problem of uneven heating due to geometric limitation of an electron beam and by stabilizing vaporization and forming a uniform vapor deposition film.例文帳に追加
電子ビームの幾何学的制約によって加熱が不均一になる問題を回避し、蒸発安定化及び蒸着膜の均一化を図ることで、蒸着フィルムの収率及び生産性が向上する巻取式電子ビーム蒸着装置を提供する。 - 特許庁
In performing working of copper foil of an upper layer and interlayer insulating layer for forming an interlayer conduction structure of a laminated wiring board by a copper direct method using a laser beam, the pulse height of a laser beam is set slightly higher and the pulse length is determined relatively longer.例文帳に追加
積層配線板における層間導通構造の形成のための上層の銅箔および層間絶縁層の加工を,レーザビームを用いた銅ダイレクト法により行うに当たり,レーザビームのパルス高を低めに設定するとともに,パルス長を比較的長めにとる。 - 特許庁
To provide a steel for electronic-beam welding with which a basic material and a heat-affective zone are suitable to construct the foundation part of a steel tower for wind-force electric generator near the sea, and a toughness for breakage in fused metal zone is suitably balanced; and an electronic-beam welding joint for forming this steel.例文帳に追加
洋上風力発電用鉄塔の基礎部分を建設するのに最適な、母材、熱影響部、及び、溶融金属部の破壊靱性値が適度にバランスした電子ビーム溶接用鋼材と、該鋼材に形成した電子ビーム溶接継手を提供する。 - 特許庁
To provide a vehicular illumination lighting fixture for forming an additional light distribution pattern against a light distribution pattern for a lower beam in which center luminosity of additional light distribution pattern is sufficiently elevated while its depth size is made smaller, when the light distribution pattern for a high beam is formed.例文帳に追加
ハイビーム用配光パターンを形成する際、ロービーム用配光パターンに対して付加される付加配光パターンを形成するための車両用照明灯具において、その奥行寸法を小さくした上で付加配光パターンの中心光度を十分高める。 - 特許庁
To obtain an optical beam scanner which can miniaturize the entire device can reduce the number of parts to reduce the cost by making the structure of the rotating shaft of a deflector hollow, and making the hollow part the optical path of an incident beam toward an image forming lens.例文帳に追加
偏向器の回転軸を中空構造にし、その中空部を結像レンズへ向かう入射ビームの光路としたことにより、装置全体を小型化することができると共に、部品数を減らしコストを低減させることができる光ビーム走査装置を得る。 - 特許庁
In the pallet 10a(10b), the welding part side end surfaces 28 of the surface walls 23 (regions forming a two-layered structure in cross section) of corner beam parts 14A and an intermediate beam part 14B constituting the regions exposed to the outside are constituted only of addition layers 20b.例文帳に追加
そして、パレット10a(10b)においては、外部に露出する部位を構成する隅桁部14A及び中間桁部14Bの表面壁23(断面二層構造をなす部位)の溶着部側端面28が付加層20bのみから構成されている。 - 特許庁
To provide a method of forming a fine pattern having the width and the diameter of the pattern of ≤100 nm and an excellent uniformity (uniformity in surface) in an ultra-fine manufacturing process using a high energy light beam of which the wavelength is 200 nm or smaller or an electron beam.例文帳に追加
波長200nm以下の高エネルギー光または電子線を用いた極微細加工プロセスにおいて、パターン幅や径が100nm以下でユニフォーミティー(面内均一性)などの点においても優れる微細パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To obtain an optical scanner and an image forming apparatus which yield a high-quality color image by adjusting and correcting the position of a beam spot to a specified position so that the beam spot may not be positionally deviated on a surface to be scanned because of the temperature rise of a scanning image-formation means.例文帳に追加
走査結像手段の温度上昇等により被走査面上でビームスポットの位置ずれが発生しないように、ビームスポット位置を所定の位置に調整、補正し、高画質のカラー画像を得ることができる光走査装置および画像形成装置を得る。 - 特許庁
In this transfer exposure method, mark patterns 87 and 88 for forming a mark detection beam are made on a mask in a deflection band 82 of an end part in the lengthwise direction of respective stripes, and marks 98 and 97 to be irradiated which are irradiated through scanning by a detection beam are made on a wafer.例文帳に追加
各ストライプの長手方向端部の偏向帯82、102について、マスク上(図2)にはマーク検出ビーム形成用のマークパターン87、88を設け、ウエハ上(図3)には該検出ビームによって走査的に照射される被照射マーク98、97を設ける。 - 特許庁
To provide a resist pattern forming method in which stored energy distribution in a resist film is generated in electron beam lithography while taking influence of front scatter and back scatter of electron beam scatter into consideration, and the energy distribution is applied to optimization of exposure conditions and a pattern size.例文帳に追加
電子線リソグラフィにおいて、電子線散乱による前方散乱と後方散乱の影響を考慮したレジスト膜中の蓄積エネルギー分布を作成し、露光条件やパターンサイズの最適化に適用し、レジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide an objective lens constituted by integrating a dioptric system and a diffraction optical device, condensing an ultraviolet laser beam and a visible laser beam having specified wavelength together and radiating and forming a light spot on a surface to be irradiated with high transmissivity without causing chromatic aberration respectively.例文帳に追加
屈折光学系と回折光学素子とを一体として、紫外線レーザ光と特定波長の可視光レーザとを共に集光して被照射面上に光スポットをそれぞれ色収差なく高い透過率で照射形成できる対物レンズを提供する。 - 特許庁
To provide a focused ion beam forming device in which downsizing is realized by integrating an accelerator and a focusing lens system and the reduction ratio of the total device is maximized by making the accelerating tube of the accelerator as a part of the focusing lens system to form a nano beam.例文帳に追加
集束イオンビーム形成装置において、加速器と集束レンズ系を一体化とすることにより小型化を実現するとともに、加速器の加速管も集束レンズ系の一部とすることで装置全体の縮小率も最大化することで、ナノビームを形成する。 - 特許庁
In the printer mechanism 10 of the image forming apparatus 1, a polygon mirror 182 rotated by a polygon motor 183 reflects a laser beam from a laser diode 181 being a light source, thereby scanning the circumferential surface 11a of a photoreceptor drum 11 with the laser beam.例文帳に追加
画像形成装置1のプリンタ機構10では、ポリゴンモータ183により回転させられているポリゴンミラー182が、光源であるレーザダイオード181からのレーザ光を反射することにより、感光ドラム11の円周面11aをレーザ光で走査している。 - 特許庁
To join the end of a beam to the side of a capital with bolts without depending on welding at site and to install a floor material on the top of the beam without forming notches for clearing the bolts and the capital at the floor material.例文帳に追加
柱頭部の側面への梁端の接合を現場溶接によらずにボルト接合で行うことができ、しかも、床材に対して柱頭部やボルトを逃がすための切欠きを形成しなくとも床材をそのまま梁の天面に設置することができるようにする。 - 特許庁
To provide an antenna system and an antenna system operating method capable of forming and controlling FA beam widths in a sector to various forms by making the vertical/horizontal half-power beam widths and tilting angles of each FA in the sector respectively independently variable.例文帳に追加
セクタ内の各FAの水平/垂直電力半値幅及びチルト角をそれぞれ独立に可変させることができるようにすることによって、セクタ内のFAのビーム幅を多様な形態に形成及び制御できるアンテナシステム及びアンテナシステム運用方法を提供する。 - 特許庁
The method also includes: receiving the first secondary charged particle beam and the second secondary charged particle beam at a detector configured to generate a signal in response to the beams; and forming an image of the first and the second regions in response to the signal.例文帳に追加
また、この方法は、第1の二次荷電粒子ビーム及び第2の二次荷電粒子ビームを、それに応答して信号を発生するように構成された検出器で受け取り、その信号に応答して第1領域及び第2領域の像を形成することも含む。 - 特許庁
A case portion 5 is formed in a space surrounded by upper and lower flanges 2b and 2a and a web 2c in a beam 2 as a steel member forming a frame, and a heat storage material 8 made of a material having lower thermal conductivity than the beam 2 is filled into the case portion 5.例文帳に追加
フレームを構成する鉄骨部材である梁2には、上下のフランジ2b,2aとウェブ2cとによって囲まれる空間にケース部5を形成し、このケース部5内に、梁2よりも熱伝導率の低い材料からなる蓄熱材8を充填する構成とした。 - 特許庁
According to the electro-photographic image forming device, whenever a plurality of laser beams emitted from a multi-beam laser of a laser scan unit 3 scan the same scanning line, the multi-beam laser is driven by a controller 21 from alternate driving of laser driving signals LDRV_A, LDRV_B.例文帳に追加
レーザスキャンユニット3におけるマルチビームレーザからそれぞれ出射された複数のレーザ光を同一の走査線上に走査するごとに、このマルチビームレーザは、コントローラ21により、レーザ駆動信号LDRV_A、LDRV_Bに基づき交互に駆動される。 - 特許庁
To constitute a dust-proof glass provided to an optical writing unit used for an image forming apparatus so that foreign matter such as dust does not stick to a laser beam projection hole of the dust-proof glass and foreign matter such as dust can easily be cleaned even if it sticks, to the laser beam projection hole of the dustproof glass.例文帳に追加
画像形成装置に用いられる光書込ユニットに設けられた防塵ガラスにおいて、防塵ガラスのレーザービーム射出口にホコリ等の異物が付着しないようにし、ホコリ等の異物が付着しても簡便にクリーニングができるようにしたこと。 - 特許庁
To obtain an active beam-hardening type composition that has a low viscosity, high sensitivity and can form a coating film of high hardness under a variety of printing conditions and an active beam-hardening type ink using the same, to provide a method for forming images and an inkjet recorder.例文帳に追加
低粘度かつ高感度で、高い硬度の塗膜を様々な印字環境下においても形成することが出来る活性光線硬化型組成物、とそれを用いた活性光線硬化型インク、画像形成方法、及びインクジェット記録装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming, using a simple procedure, a hologram material layer of interference fringes that does not have reduction in playback efficiency, even if the hologram material layer generating recording contraction in an optical recording medium is irradiated with a playback laser beam having wavelength which is identical to that of a recording laser beam.例文帳に追加
簡単な手順で、光記録媒体における、記録収縮を生じるホログラム材料層に、記録レーザビームと同一波長の再生レーザビームを照射しても再生効率の低下のない干渉縞のホログラム材料層を形成する方法を提供する。 - 特許庁
The optical detecting substrate 1 is manufactured by a process for forming a thin film, which changes the affinity with water by irradiation with an active energy beam, on the surface of the substrate and by a step for selectively irradiating the thin film with the active energy beam.例文帳に追加
光学検出用基板1は、基板1の表面上に、活性エネルギー線の照射により水との親和性が変化する薄膜を形成する工程と、該薄膜に対して活性エネルギー線を選択的に照射する工程を有する方法で製造できる。 - 特許庁
In the latter stage of firing for forming a wiring pattern by advancing firing of the film pattern 40 with heat generated through photothermal transformation caused by irradiation with laser beam 50, the film pattern 40 is irradiated with a laser beam 53 by using a laser (laser body 54) of low unit output cost.例文帳に追加
レーザ光50の照射による光熱変換で発生する熱で膜パターン40の焼成を進めて配線パターンを形成する焼成終期で、単位出力のコストが低いレーザ(レーザ本体54)を使ってレーザ光53を膜パターン40に照射する。 - 特許庁
Discharge electrodes 20a and 20b are driven by a motor 20d to rotate in a peripheral direction, and a laser beam is irradiated by a concave-forming energy beam irradiation device 50 on an oil level of materials filled in a liquid filler part 31 to form a concave part.例文帳に追加
モータ20dによって放電電極20a,20bが周方向に回転するよう駆動され、また、凹所形成用エネルギービーム照射機50からレーザビームが液体充填部31に充填された原料の液面に照射され凹所が形成される。 - 特許庁
To provide a method for forming a lap joint by which a high energy density beam is irradiated also from the side of a thick plate member when a lap joint is formed with two plate members having different thickness with a welding with the high energy density beam.例文帳に追加
本発明は、高密度エネルギービームによる溶接により、板厚の異なる2枚の板材で重ね継手を形成する際に、厚板材側からも高密度エネルギービームの照射を行うことができる重ね継手の形成方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
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