「CONTACT PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for producing limestone with delayed reactivity economically using a simple equipment in which granules of limestone are coated with a higher fatty acid causing delayed reaction on contact with water.例文帳に追加

生石灰の粗粒子の表面が高級脂肪酸により被覆され、水と接触したときの反応速度が遅い反応遅延性生石灰を、簡単な設備により経済的に製造することができる反応遅延性生石灰の製造方法を提供する。 - 特許庁

By examining the overlapping 30 of peak waveforms of the secondary electron profile 27 only for the pattern and the secondary electron profile 29 only for the foreign matters, positions where the foreign matters 25a comes in contact with the pattern 23 is detected and whether the foreign matters are critical to the process is determined.例文帳に追加

パターンのみの二次電子プロファイル２７と異物のみの二次電子プロファイル２９のピーク波形の重なり３０を見ることで、異物２５ａがパターン２３に接触している箇所を検出し、異物がプロセスにおいて致命的か否かを判断する。 - 特許庁

To avoid contact (bridge) of proximate solder by melting excessive solder at the early stage of melting of solder and pulling the melted excessive solder in a prescribed direction in a process of mounting a BGA (Ball Grid Array) package LSI (Large Scale Integration).例文帳に追加

ＢＧＡパッケージＬＳＩ実装工程において、はんだ溶融の初期に余剰はんだを溶融できるようにすると共に、溶融された余剰はんだを所定方向へ引っ張れるようにして近接はんだの接触（ブリッジ）を回避できるようにする。 - 特許庁

In normal times the protrusion 33 is kept protruded, but when the rotary knob 32 is rotated, the protrusion 33 makes contact with the engaging piece 34 to be locked in the process of the rotation, and therefore its further rotation is inhibited.例文帳に追加

通常時は、前記凸部３３が突出した状態に保持されており、回転摘子３２を回転したときは、回転途中で前記凸部３３が前記係止片３４に接触して係止されるため、それ以上の回転が制限される。 - 特許庁

The method for producing a pentafluoro allyl chloride includes a process of bringing a fluorocarbon compound represented by CF_2Cl-CF_2-CHF_2 to make into contact with a base to obtain a fluorovinyl compound represented by CF_2Cl-CF=CF_2.例文帳に追加

本発明は、ＣＦ_２Ｃｌ−ＣＦ_２−ＣＨＦ_２で示されるフルオロカーボン化合物と塩基とを接触させてＣＦ_２Ｃｌ−ＣＦ＝ＣＦ_２で示されるフルオロビニル化合物を得る工程を含むことを特徴とする５フッ化アリルクロライドの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method for efficiently regenerating a synthetic adsorbent the removing capacity of which is lowered without generating an organic solvent waste liquid, in a process for removing organic impurities by bringing a hydrogen peroxide aqueous solution into contact with the synthetic adsorbent.例文帳に追加

過酸化水素水溶液中を合成吸着剤に接触させて有機不純物を除去する工程において、除去能力が低下した合成吸着剤を効率よく再生し、且つ有機溶媒廃液を生じない方法を提供する。 - 特許庁

The forming method for the electrode layer for the solid oxide type fuel cell consisting of a mixture arranged in contact with a solid electrolyte layer 3 works with such a process that the composition is given a gradient in the layer direction by spraying a slurry prepared for each mixture composition.例文帳に追加

固体電解質層３に接して配置される混合物から成る固体酸化物形燃料電池用電極層の形成方法において、混合組成毎に作製したスラリーを噴霧することにより、層方向に配合組成比を傾斜させる。 - 特許庁

The base material part of the heat-resistant setter mainly comprises a porous ceramic and a support member composed of heat-resistant and abrasion-resistant materials is integrally installed, preferably in a molding process, at least to a part which comes into contact with another article when used.例文帳に追加

耐熱性セッターの基材部分を主として多孔性セラミックから構成し、少なくとも使用時に他物品と当接する部位に、耐熱性且つ耐摩耗性材料から成る支持部材を、好ましくは成型工程で一体的に、装着する。 - 特許庁

This method for waste gas treatment comprises a step of adding a halogen-type gas absorbing liquid to an adsorbent and a step of bringing a waste gas containing a halogen-type gas discharged from a semiconductor production process into contact with the adsorbent to remove the halogen-type gas from the waste gas.例文帳に追加

吸着剤にハロゲン系ガス吸収液を添加する段階と、半導体製造工程から排出されるハロゲン系ガスを含む排ガスを、該吸着剤と接触させる段階とからなり、該排ガスから該ハロゲン系ガスを除去する。 - 特許庁

The developing device (process part 5) includes: the development roller 56 configured to rotate while carrying the liquid toner obtained by mixing the toner particles with a carrier liquid; and a cleaning blade 58A configured to slide-contact with the development roller 56 to scrape off the liquid toner carried on the development roller 56.例文帳に追加

現像装置（プロセス部５）は、キャリア液にトナー粒子を混合させてなる液体トナーを担持しながら回転する現像ローラ５６と、現像ローラ５６と摺接して、現像ローラ５６上の液体トナーを掻き取るクリーニングブレード５８Ａと、を有している。 - 特許庁

In the next polishing process, polishing is performed by bringing a circumferential surface 1001A of a polishing blade 1001 into contact with a main surface 1'A and a pair of facing surfaces 1'C by the polishing blade 1001 arranged on a dicer and forming a nearly-cylindrical shape.例文帳に追加

次に研磨工程では、ダイサーに設けられた略円柱形状をなす研磨ブレード１００１により、主要面１´Ａ、一対の対向面１´Ｃに対して研磨ブレード１００１の周面１００１Ａを接触させて研磨を行う。 - 特許庁

The surface treatment method of a semiconductor-mounting conductive base material includes a roughening process of forming a roughened shape on a surface by bringing a chemical roughening liquid containing a corrosion suppression agent into contact with the semiconductor-mounting conductive base material.例文帳に追加

本発明は、半導体実装用導電基材に腐食抑制剤を含有する化学粗化液を接触させて表面に粗化形状を形成する粗化工程を有する半導体実装用導電基材の表面処理方法である。 - 特許庁

To provide a probe card production method improving the positioning accuracy of probe units having a contact probe formed on a substrate in a process of forming the probe units on a wiring substrate in accordance with an arrangement pattern of an electric circuit on an inspection substrate.例文帳に追加

コンタクトプローブが基板上に形成されたプローブユニットを検査基板上の電子回路の配置態様に合わせて配線基板上に形成する際のプローブユニット間の位置精度を向上させることができるプローブカードの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the same impurity ion introduction process, a p^- type semiconductor region 10 and a p^- type field limiting ring 11 are formed collectively in a gate wiring region GLA to contact a groove 5 with a gate extraction electrode 8 formed therein.例文帳に追加

同一の不純物イオン導入工程にて、ゲート配線領域ＧＬＡでｐ^−型半導体領域１０およびｐ^−型フィールドリミッティングリング１１をゲート引き出し電極８の形成された溝５と接するように一括して、形成する。 - 特許庁

The method of polymerizing olefin includes a process of bringing at least one kind of olefin into contact with a Ziegler-Natta type catalyst in the presence of a specified compound capable of producing a polymerization product having a relatively narrow molecular weight distribution to produce a polyolefin having a narrow molecular weight distribution.例文帳に追加

比較的狹い分子量分布を有する重合生成物を生成する特定の化合物の存在下において、少なくとも１種のオレフィンを、チーグラー・ナッタ型触媒と接触させることによって、分子量分布の狹いポリオレフィンを製造する。 - 特許庁

When the synthesis gas with high reducing power is brought into contact with an iron ore consisting mainly of iron oxide to reduce the iron oxide, reduced iron is made with high efficiency and the amount of CO_2 generated from the iron making process can be significantly reduced.例文帳に追加

さらに、還元性の高い合成ガスを、酸化鉄を主体とする鉄鉱石に接触させて還元することにより、高効率に還元鉄を製造すると共に、製鉄プロセスから発生するＣＯ_2量を大幅に削減できることを特徴とする。 - 特許庁

This contact 1 is formed through metal injection molding process using metal fine powder as a material, has a almost a rectangular base part 2 and a cantilever-shaped elastic arm 6, extending aslant upwardly from one end of the upper surface 4 of the base part 2 toward the other end.例文帳に追加

コンタクト１は、材料となる金属微粒子粉末を用いたメタルインジェクションモールド法で成形され、略矩形の基部２と、この基部２の上面４の一端側から、斜め上方に他端側に向けて延びる片持梁状の弾性アーム６を有する。 - 特許庁

In more details, the apparatus comprises jetting superheated steam to directly bring raw ground soybean slurry into contact therewith in a short time with a heat jacket double boiling iron pot with a sealing type stirrer and an aspirator, and furthermore, setting a ripening process at a final stage.例文帳に追加

生呉汁を密閉式で攪拌機と吸引装置付き加熱ジャケット二重煮沸釜の装置にて、過熱蒸気を噴射させて短時間に直接に接して、さらに最終段階で熟成工程を設けることができる製造装置である。 - 特許庁

In the process of making the inclined surface 51a of the protrusion 51 slide in contact with the undersurface 87a of the protrusion 87 provided on the rotation preventor, an antipositional deviation pin 85 is inserted into an insertion hole 50, and the tip of the protrusion 51 into a receiving groove 88.例文帳に追加

突起５１の傾斜面５１ａが回動防止装置に設けられた突起８７の下面８７ａに摺接される過程で、位置ズレ防止ピン８５が挿入孔５０に、突起５１の先端が受入溝８８にそれぞれ挿入される。 - 特許庁

The method for producing the purified tea extract includes a process for bringing a tea extract into contact with at least 4-pKa weakly acid or OH-type anion exchange resin which has a gel type backbone, and an ion exchange capacity of 1.1-3 meq/mL.例文帳に追加

母体構造がゲル型であり、イオン交換容量が１．１〜３ｍｅｑ／ｍＬであり、かつｐＫａ４以上の弱酸型又はＯＨ型のアニオン交換樹脂に、茶抽出物を接触させる工程を有する、精製茶抽出物の製造方法。 - 特許庁

The spacing member (48b1) is constituted to move from a non-release position where the contact between the image carrier (42) and the developing roller is not released to the release position in such a state that the cover (48) is attached to the process case (41) and covers the image carrier (42).例文帳に追加

離間部材（４８ｂ１）は、カバー（４８）がプロセスケース（４１）に装着されて像担持体（４２）を覆った状態にて、像担持体（４２）と現像ローラとの当接を解除しない非解除位置から上述の解除位置に移動可能に構成されている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which fluorides being produced when oxides on the metal surface are removed after forming a contact hole can be removed and production of TiOH can be prevented, and to provide a process for fabricating a semiconductor device.例文帳に追加

コンタクトホール形成後における、金属表面の酸化物除去の際に生じるフッ化物の除去を可能にすることと、ＴｉＯＨが生成されるのを防ぐ半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a semiconductor element wherein a plurality of contact holes are formed at the same time in one etching process without causing excessive etching and yield and productivity are excellent, a method of manufacturing the same, and a display device.例文帳に追加

過剰なエッチングを生じることなく、同一のエッチング行程において、複数のコンタクトホールを同時に形成することができ、歩留まりおよび生産性に優れた半導体素子およびその製造方法並びに表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In order to recover crystallinity of a semiconductor film after a doping process, activate impurity elements, and reduce contact resistances after the formation of a wiring, a laser beam is irradiated from the backside of the substrate after the formation of a wiring.例文帳に追加

本発明は、ドーピング処理後の半導体膜の結晶性の回復、不純物元素の活性化および配線形成後のコンタクト抵抗の低減を行なうために、配線形成後に基板の裏面側からレーザ光を照射することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor element in which the process time can be shortened by performing a series of pretreatment steps for depositing a subsequent film after making contact holes on a semiconductor substrate in a clustered plasma system.例文帳に追加

半導体基板上にコンタクトホールを形成した後、後続膜を蒸着するまでの一連の前処理工程をクラスター化されたプラズマ装置で行うことによって工程時間を短縮できる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the polishing sheet including a process for forming a groove on the surface of the polishing sheet by using a cutting edge for cutting, a part in contact with the polishing sheet in the cutting edge for cutting is made of nonmetal.例文帳に追加

切削用切刃を用いて研磨シート表面に溝を形成する工程を含む研磨シートの製造方法であって、前記切削用切刃の研磨シートと接触する部分が非金属であることを特徴とする研磨シートの製造方法。 - 特許庁

The fart introduced from a gas introduction pipe 32 inside the gas-liquid contact tower 11 and containing the sulfuric compound such as hydrogen sulfide and the organic matter such as ethanol as the odorous component contacts the acidic liquid in the process of coming up the absorption chamber 12.例文帳に追加

ガス導入管３２から気液接触塔１１内に導入され、硫化水素のような硫黄化合物とエタノールのような有機物とを臭気成分として含む臭気ガスは、吸収室１２を上昇する過程で酸性液と接触する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, along with a process cartridge, capable of suppressing chipping of an elastic layer of a developing roller with an inexpensive constitution to thereby suppress the occurrence of a failure due to a cleaning blade, concerning the image forming apparatus employing a contact developing system.例文帳に追加

接触現像方式を採用する画像形成装置において、安価な構成によって現像ローラの弾性層の削れを抑え、クリーニングブレードによる不具合の発生を抑制することが可能な画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To prevent an image carrier from being in contact with a developing roller when receiving an impact due to falling or the like, before use, without the need of excessive work and with a simple constitution, regarding a process cartridge configured to have a prescribed gap between the image carrier and the developing roller.例文帳に追加

像担持体と現像ローラの間に所定量の隙間を有する構成において、余計な作業を必要とせず、簡単な構成で、使用前に落下等による衝撃が加わって像担持体と現像ローラが当接することを抑制する。 - 特許庁

To provide a switching device with a touch detection function which can detect contact of the user's finger with an operating member reliably, can ensure good assemblability in manufacturing process and excellent durability by eliminating the soldering point, and can reduce design constraints.例文帳に追加

使用者の手指が操作部材に接触したことを確実に検出でき、半田付け箇所がなく製造過程における組み付け性が良いとともに耐久性に優れ、更に、意匠の制約の少ないタッチ検出機能付きスイッチ装置を提供する。 - 特許庁

Therefore, even when contact layers 12 formed on the side faces of the slits 4 have thin thicknesses, the erosion of a semiconductor substrate 1 by a metal halide gas can be prevented in a succeeding process of forming a buried metallic layer 13.例文帳に追加

したがって、スリット４側面に形成される密着層１２の膜厚が薄い場合であっても、後工程の埋め込み金属層１３の形成工程における、金属ハロゲン化物ガスによる半導体基体１の侵食部の発生が防止される。 - 特許庁

The method for producing the gene transfer agent, including a process for performing a photo-irradiation living polymerization in a solution, is characterized by performing the photo-irradiation in a state that a photo-irradiation means whose solution contact surface comprises a light-transmissible resin is soaked in the solution.例文帳に追加

溶液中での光照射リビング重合を行う工程を含む遺伝子導入剤の製造方法において、接液面が光透過性の樹脂で構成された光照射手段を該溶液に浸漬させて光照射を行う。 - 特許庁

To reduce communication trouble in a project by estimating a task or a milestone to be directly/indirectly affected by the change of a process, and automatically making a proper contact with a stakeholder related with the estimated task or milestone.例文帳に追加

工程の変更によって直接的・間接的に影響を受けるタスクやマイルストンを推定し、これらに関係するステークホルダに対して自動的に適切な連絡を行うことにあり、これによりプロジェクトにおけるコミュニケーショントラブルを削減する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device that improves the contact resistance characteristics of a gate by increasing the area of an active region contacting the gate and increases the channel width in a process of forming a vertical transistor, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

垂直型トランジスタを形成する過程において、ゲートと接触する活性領域の面積を増加させてゲートの接触抵抗特性を改善し、チャネル幅を増加させる半導体メモリ素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A both-sided printed wiring board in which a contact mark with a member on the process is eliminated and defects, e.g. residual copper, short circuit, disconnection, and the like, are suppressed can be provided by utilizing the optical memory properties of the photosensitive material of the invention for producing a printed wiring board.例文帳に追加

また、また、本発明のプリント配線板製造用の感光体の有する光メモリー性を利用することにより、プロセス上の部材との接触跡がなく、残銅、短絡、断線等の欠陥が少ない両面プリント配線基板を提供できる。 - 特許庁

This method for producing the patterned honeycomb-formed porous material comprises a process of bringing the honeycomb-formed porous material consisting of a non-water soluble polymer in contact with a mold having a pattern consisting of a relief and/or slit to transfer printing the pattern on the honeycomb-formed porous material.例文帳に追加

非水溶性ポリマーからなるハニカム状多孔質体にレリーフ及び／又はスリットからなるパターンを有する鋳型を接触させて該パターンをハニカム状多孔質体に転写することを含む、パターン化されたハニカム状多孔質体の製造方法。 - 特許庁

To provide a paper exfoliation mechanism, which can minimize the risk of damage on a photoreceptor surface by contact of a claw body, and preventing contamination of carried paper with toner adhered to the claw body as much as possible; and a process unit provided with the same.例文帳に追加

爪体の接触による感光体表面の傷付きの懸念を少なくすると共に、爪体に付着するトナーの搬送用紙に対する汚染を可及的に抑えることができる用紙剥離機構と、これを備えたプロセスユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a speed change operation equipment for manual speed change gears, which can cut-off the vibration in a speed change gear with a shift lever positioned at the neutral position or shift in position by constituting a speed change operation equipment so as to be brought into contact with any equipment in processes other than speed change process.例文帳に追加

変速過程以外では器具的接触がないように構成することによって中立またはシフトイン作動状態での変速機内部の振動を遮断することができるようにする手動変速機用変速操作器具を提供する。 - 特許庁

This invention concerns the detection of the funning speed of the thread without physical contact with the thread itself. Applying the specified process on false-twisting machine and measuring the running speed of the thread in false-twisting stage, enables estimation of the number of false-twists in the running thread Y. 例文帳に追加

本発明は、走行中の糸条の糸速度を非接触で測定する方法に関し、更には、該方法によって仮撚機上で加撚域の糸条の糸速度を測定することにより、仮撚機上の仮撚数を推定する方法に関する。 - 特許庁

The integrated circuit including a field plate resistance, on which a region increased so as to form a route of a metal conductor formed in the same layer as the metal layer forming a contact to the resistance is provided, is formed by a serial process step.例文帳に追加

抵抗への接触を形成する金属層と同じ層内に形成された金属導電体のルートを形成するための増加した領域を有するフィールドプレート抵抗を含む集積回路が、一連のプロセス工程で形成される。 - 特許庁

To provide a counter electrode for a photoelectric cell which is economical in manufacturing cost and in a manufacturing process, and has a high catalyst activity which is improved by an increased contact area with an electrolyte layer and provide a dye-sensitive type photoelectric cell provided with the above electrode.例文帳に追加

製造コスト及び製造工程の面で経済的であり、電解質層との増大した接触面積により改良された高い触媒活性を示す光電池用対向電極及びこれを採用した染料感応型光電池の提供。 - 特許庁

To provide a new rinsing liquid for manufacturing high-quality products by modifying the surface of a resist pattern to have ≥70° contact angle and rapidly and effectively preventing pattern collapse in a process of forming a resist pattern by lithography techniques.例文帳に追加

リソグラフィー技術によりレジストパターンを形成させる際、レジストパターンの表面を接触角７０度以上に改質してパターン倒れを迅速かつ効果的に防止して、高品質の製品を製造するための新規なリンス液を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device and the same obtained by the manufacturing method which can be applied to an SOI (Silicon On Insulation) structure and can control accurately the depths of the contact holes in a simple process.例文帳に追加

ＳＯＩ（Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｏｎ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）構造に適用でき、簡易なプロセスでコンタクトホールの深さを精度良く制御できる半導体装置の製造方法およびその製造方法によって得られた半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a CO_2 recovery method and a recovery apparatus capable of enhancing power generation efficiency by suppressing decline of transmission end efficiency, in a process for recovering CO_2 by bringing gasification gas of a fuel containing carbon into contact with absorption liquid.例文帳に追加

炭素を含む燃料のガス化ガスと吸収液を接触させてＣＯ_２を回収するプロセスにおいて、送電端効率の低下を抑制し発電効率を増加することが可能なＣＯ_２回収方法および回収装置を提供する。 - 特許庁

In the process of forming the contact plug, the substrate is held via a chuck on a stage in a chamber of a sputtering apparatus and en ESC voltage applied to the chuck is increased in three steps: a first voltage, a second voltage and a three voltage, in this order.例文帳に追加

コンタクトプラグを形成する工程では、スパッタ装置のチャンバー内のステージ上に、チャックを介して基板を保持し、チャックに印加するＥＳＣ電圧を第一の電圧、第二の電圧、第三の電圧と、この順に３段階のステップ状に増加させる。 - 特許庁