「CONTACT PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

When forming an embedded contact in the semiconductor device composed by fabricating one or more semiconductor elements on a silicon substrate 101, an interlayer insulation film 109 is formed on the entire surface of a semiconductor element layer (first process).例文帳に追加

シリコン基板１０１上に１又は複数の半導体素子が作り込まれてなる半導体装置に埋め込みコンタクトを形成するにあたり、半導体素子層の全面に層間絶縁膜１０９を形成する（第１工程）。 - 特許庁

In an image forming process of forming toner images at a plurality of stations by receiving toner transferred from a photosensitive drum, the impedance of the transfer area is detected where the contact area between a transfer roller and a transfer belt is the largest.例文帳に追加

複数のステーションで感光ドラムからトナーの転写を受けてトナー像を形成する画像形成装プロセスで、転写領域のインピーダンス検知を、転写ローラーと転写ベルトの接触面積が最も大きいところで、行う。 - 特許庁

The treatment method includes a treatment process of a liquid for adjusting the fermentation residue liquid obtained by subjecting the organic waste to the methane fermentation and other anaerobic organic compound-containing liquid to pH ≤5.5 and bringing the liquids into contact with an oxidizing agent.例文帳に追加

有機性廃棄物をメタン発酵して得られる発酵残液およびその他の嫌気性有機化合物含有液をｐＨ５．５以下に調整するとともに酸化剤と接触させる液処理工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A metal film 111 is selectively formed on surfaces of the silicon 106, 107, the polysilicon 104A, 104B or the metal silicide 108A, 108B exposed from the contact hole by an electroless plating method (third process).例文帳に追加

そして、コンタクトホールから露出しているシリコン１０６、１０７、ポリシリコン１０４Ａ、１０４Ｂ、又は金属シリサイド１０８Ａ，１０８Ｂの表面に無電解めっき法により選択的に金属膜１１１を形成する（第３工程）。 - 特許庁

This manufacturing method of the dielectric element includes a process of removing a part of the dielectric film 3 by bringing the dielectric film 3 formed on the base metal film 1 and containing an oxide having Ti and Ba into contact with an etchant.例文帳に追加

卑金属膜１上に形成されたＴｉ及びＢａを有する酸化物を含む誘電体膜３をエッチング液に接触させることにより、誘電体膜３の一部を除去する工程を備える誘電体素子の製造方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its fabricating method in which a contact can be made easily in a diffusion layer located between gate electrodes of relatively narrow interval without short-circuiting the gate electrode even when a salicide process is employed.例文帳に追加

サリサイドプロセスを用いた場合でも、ゲート電極とショートすることなく、比較的間隔の狭いゲート電極の相互間に位置する拡散層に容易にコンタクトをとることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for purifying nitric oxide contains a process in which a raw gas containing nitric oxide, nitrogen dioxide, and water is contacted to sulfur dioxide in a gas-liquid contact vessel 1a and nitrogen dioxide is reduced to nitric oxide.例文帳に追加

本発明の一酸化窒素精製方法は、一酸化窒素、二酸化窒素および水分を含む原料ガスを、気液接触槽１ａにおいて二酸化硫黄と接触させ、二酸化窒素を一酸化窒素に還元させる工程を含む。 - 特許庁

The process for producing a battery separator comprises introducing sulfo groups into a sheet containing a fibrous sheet and bringing the sheet into contact with a mixture containing a fluorine gas and an oxygen-containing and/or sulfur-containing reactive gas.例文帳に追加

本発明の電池用セパレータの製造方法は、繊維シートを含むシートにスルホン酸基を導入した後、フッ素ガスと酸素原子及び／又は硫黄原子を含有する反応性ガスとを含む混合ガスと接触させる方法である。 - 特許庁

To provide a lubricant application device that allows a lubricant to smoothly move in a pressing direction as in press-contact with an application roller while keeping the lubricant in a predetermined posture, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus equipped with the lubricant application device.例文帳に追加

潤滑剤が、所定の姿勢を維持して塗布ローラに圧接したまま、加圧方向へのスムーズな移動が可能な潤滑剤塗布装置、この潤滑剤塗布装置を具えたプロセスカートリッジ、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Although provided with a non-contact type identification device 12 comprising the antenna 121 and a circuit element 123, the chip can eliminate a separate weight member to simplify its construction and a production process therefor.例文帳に追加

従って、アンテナ１２１と回路素子１２３とを有して構成される非接触型の識別デバイス１２を備えていながら、別途の重り部材を不要とすることができ、構造の簡素化、製造工程の簡素化を図ることができる。 - 特許庁

To prevent loss in an SAC nitride film formed on an upper portion of a gate and improve the hump characteristics of a transistor in a planarizing process of an interlayer dielectric for subsequent formation of a contact plug, even if a surface roughness exists on a metal silicide layer.例文帳に追加

金属シリサイド層に表面粗さが存在しても、後続のコンタクトプラグの形成のための層間絶縁膜の平坦化工程の際、ゲートの上部に形成されたSAC窒化膜の損失を防止し、トランジスタのハンプ特性を改善すること。 - 特許庁

Subsequently, the solder is embedded to form a solder layer 8 to the aperture 5a where the close contact film 7 is provided under the condition that the solder layer 8 overflows to the upper part of the front surface of the resist mask 5 and the reflow process is conducted to the solder layer 8.例文帳に追加

続いて、密着膜７が設けられた開口部５ａに、レジストマスク５の表面よりも上方にはみ出す状態で、はんだを埋め込んではんだ層８を形成するとともに、はんだ層８のリフロー処理を行う。 - 特許庁

When a state in which the pixel area 608 is changed (step S15) or the pixel area is in contact with or moves outside the frame 606 is detected (step S16), a recording process by high speed continuous imaging is immediately started (step S18).例文帳に追加

そして、この画素領域６０８に変化が生じたか（ステップＳ１５）、或いは、枠６０６に接触したか若しくは越えたことを検出すると（ステップＳ１６）、直ちに高速連続撮影による記録処理を開始する（ステップＳ１８）。 - 特許庁

Consequently, the liquid crystal display device can prevent occurrence of damage and dust of terminals and damage or the like due to contact of the mechanical terminals, and can improve reliability of products by maintaining quality in a manufacturing process of the liquid crystal panel.例文帳に追加

これにより、機械的な端子同士の接触による端子部の傷やゴミの発生、損傷等を防止することができ、液晶パネルの製造工程における品質を維持して製品の信頼性を向上することができる。 - 特許庁

The conduction is ensured at all times even when the optical adjustment is completed finally, so that it is possible to ensure conduction without deteriorating the configuration of a mirror surface owing to a new contact in a final process such as mounting a conductive wire.例文帳に追加

最終的に光学調整が完了した段階においても常に導通がはかられているので、最終工程で導線を取り付けるなどの新たな接触でミラー面形状を劣化させる恐れなく、導通をとることができる。 - 特許庁

The astaxanthin-containing emulsified composition is obtained through the following process: bringing the astaxanthin into contact with supercritical-state carbon dioxide to eliminate smell components; dissolving the astaxanthin in edible oil and fat; adjusting the specific gravity of the oily part thereof with SAIB; and emulsifying the resultant together with an emulsifier, polyhydric alcohol and water.例文帳に追加

アスタキサンチンを超臨界状態の二酸化炭素と接触して臭気成分を除去し、食用油脂に溶解し、更にこの油性部をＳＡＩＢにて比重調整し、乳化剤、多価アルコール類、水と共に乳化する。 - 特許庁

To provide a charging member, a process cartridge and an electrophotographic apparatus which suppress a C set image generated when allowing a charging member and an electrophotographic photoreceptor to be continuously in contact with each other for a long period in the charging member of the electrophotographic apparatus.例文帳に追加

電子写真装置の帯電部材において、帯電部材と電子写真感光体を長期当接放置した場合に発生する、Ｃセット画像を抑制した帯電部材、プロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method for the printing plate comprises the process procedures to introduce a printing ink into the printed pattern groove 11, then bring the printing ink into contact with a material to be printed and thus print the material.例文帳に追加

本発明に係る印刷版の製造方法は、印刷パターン溝１１内に印刷インクを導入し、この印刷インクを被印刷物に接触させることにより被印刷物に印刷を行うための印刷版を製造する方法である。 - 特許庁

To provide a sheet post-treatment device as improvement of a conventional arrangement in which an upstream folding roller is in the folding process, put in pressure contact with a downstream folding roller by a displacing means, solving problems wherein the constitution becomes large and the driving load is large when the folding roller is in operation.例文帳に追加

折り処理時、上流側の折りローラが変位手段により下流側の折りローラに圧接される構成故、構成が大型化してしまう問題あり更に、折りローラの作動時の駆動負荷が大きいという問題もある。 - 特許庁

TMAH-containing waste water is supplied to a thin film evaporation kettle 202 from the semiconductor plant 201 to obtain distilled water and the distilled water is supplied to the process for manufacturing ultrapure water through piping without coming into contact with outside air.例文帳に追加

ＴＭＡＨ含有廃水は、半導体製造工場２０１より薄膜蒸発缶２０２に供給され、留出水を得、上記留出水は、外気と接触することなく配管を通じて超純水製造工程に供給される。 - 特許庁

To provide a developing device capable of reducing stagnation of toner at the contact part of a destaticizing member, the scratch and wear of a developing roller by fixation without spoiling the destaticizing effect of the destaticizing member and a process cartridge including the developing device.例文帳に追加

除電部材の除電効果を損なうことなく、除電部材当接部でのトナーの滞留、固着による現像ローラの傷及び磨耗を低減できる現像装置およびこの現像装置を含んでいるプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The method comprises processes for: forming a first metallic film 12 for an ohmic contact on a gate electrode 8 wherein a layer insulating film 10 is selectively removed and on an ohmic contact formation region; and leaving a first metallic film 12 only in the ohmic contact formation region by selectively removing the first metallic film 12 formed on the gate electrode 8 in the first metallic film 12 formed in the process.例文帳に追加

層間絶縁膜１０を選択的に除去した、ゲート電極８上、ならびにオーミック・コンタクト形成領域上に、オーミック・コンタクト用の第１の金属膜１２を形成する工程と、この工程で形成された第１の金属膜１２の内、ゲート電極８上に形成された第１の金属膜１２を選択的に除去し、オーミック・コンタクト形成領域にのみ第１の金属膜１２を残す工程とを備えて構成される。 - 特許庁

To provide a water-containing contact lens that contains 10 to 50 % water, produces a small amount of eluted matter even after a boiling process is carried out, has excellent safety, and does not greatly swell even when dipped in oil or fat to have a few problems of wearing due to oil staining, and to provide a method for advantageously manufacturing the water-containing contact lens having such superior characteristics.例文帳に追加

１０〜６０％の含水率を有し、煮沸処理を実施しても溶出物が少なく、安全性が良好で、且つ、オレイン酸等の油脂に浸漬しても、著しく膨潤せず、従って油汚れによる装用上の問題が少ない含水性コンタクトレンズと、そのような優れた特性を有する含水性コンタクトレンズを、有利に製造する方法を、提供すること。 - 特許庁

This reproduction method for the probe sheet for reproducing the probe sheet having a substrate, and a conductor film having a linear contact part positioned on the substrate, contacting with an electrode of a sample, and formed on the substrate includes a removal process cutting or scraping away a tip part of the contact part together with the substrate.例文帳に追加

本発明に係るプローブシートの再生方法は、基板と、前記基板上に位置し検体の電極に接触する線状の接触部を有し前記基板上に形成される導電膜とを備えるプローブシートを再生するための方法であって、前記接触部の先端部を前記基板とともに切除又は削り取る除去工程を含む。 - 特許庁

To provide a semiconductor device such as an organic field effect transistor in which source and drain electrodes have superior adhesiveness to a base, in which ohmic contact sufficient to a semiconductor layer is formed in a contact region with a current passage, and which has an electrode structure that can be manufactured with good productivity in a simple process; and to provide a manufacturing method of the device.例文帳に追加

ソース及びドレイン電極が、下地に対する優れた密着性を有し、かつ、電流通路との接触域において半導体層に対し良好なオーミック接触を形成し、しかも簡易な工程で生産性よく製造できる電極構造を有する、有機電界効果トランジスタなどの半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a contact electrifying method by which the deterioration of the characteristic of a photoreceptor is suppressed by positively and suitably wearing the surface of the photoreceptor in accordance with its use in a device, in which a positively electrifying single layer type organic photoreceptor is mounted and an image forming device provided with an electrophotographic process, including the contact electrifying method.例文帳に追加

正帯電用単層型有機感光体を搭載した装置において、その感光体の表面を使用と共に積極的に適度に磨耗させることにより、感光体の特性劣化を抑制することのできる接触帯電方法及びその接触帯電方法を含む電子写真プロセスを備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To better recover transfer residual toner and reduce fog in an image forming apparatus which has a developing device that employs contact electrification using conductive particles and performs the supply of the conductive particles and the recovery of residual toner for non-contact development, and in a process cartridge freely attached/detached to/from the main body of the image forming apparatus.例文帳に追加

導電性粒子を用いた接触帯電を用い、非接触現像で導電性粒子の供給と残トナーの回収を行う現像装置とを備える画像形成装置、および該画像形成装置本体に対して着脱自在のプロセカートリッジについて、転写残トナーの回収性を向上し、カブリを低減することを目的とする。 - 特許庁

On a substrate used for a production process of a large liquid crystal display, a probe card capable of the simultaneous collective contact to the entire chips on a wafer in high accuracy and low cost is disposed by patterning the following components using photolithography technique or the like: a contact pad with wafer and required wiring; a correction capacity for frequency characteristic improvement; and a signal switching thin-film transistor, and the like.例文帳に追加

大型液晶ディスプレイの製造工程で採用されている基板上に、ウエハーとのコンタクトパッドと必要な配線、周波数特性改善用の補正容量、信号切り替え薄膜トランジスター等をフォトリソグラフ技術等でパターンニングすることにより、高精度且つ低コストのウエハー全チップ一括同時コンタクトが可能なプローブカードを作成する。 - 特許庁

To provide a camera module capable of capturing a foreign matter which has intruded when the camera module is manufactured by bringing it into contact with an adhesive surely by the execution of air blow, and preventing the reaching of the foreign matter to an imaging area that leads to image quality degradation without causing man-hour increase by an excitation process for increasing the probability that the foreign matter is brought into contact with the adhesive.例文帳に追加

エアーブローの実施により、カメラモジュールの製造時に侵入した異物をより確実に粘着剤と接触させて捕捉することができ、異物が粘着剤と接触する確率を上げるための加振工程による工数増大を招くことなく、画質劣化につながる異物の撮像領域への到達を防止することができるカメラモジュールを得る。 - 特許庁

The technology of the semiconductor element manufacturing method includes a process, especially, of burying the insulating film between gate patterns in place of the photo-sensitive film when implanting the ions into the semiconductor substrate of lower portion of the bit line contact area, etching it to expose the bit line contact area without a residue of etching, thereby, preventing the leakage current of the cell transistor.例文帳に追加

本発明は半導体素子の製造方法に関し、特にビットラインコンタクト領域下部の半導体基板にイオンを注入するときゲートパターン等の間を感光膜の代わりに絶縁膜で埋め、これを食刻して食刻残留物なくビットラインコンタクト領域を露出することにより、セルトランジスタの漏洩電流を防止することができる技術である。 - 特許庁

After the etching stopper film 4 is exposed at the bottoms of the opening parts OP3, anisotropic dry etching shall be continued, and using the etching stopper film as an etching mask, contact holes CH1 penetrating an interlayer insulating film 3 to source, drain regions 11, 13 are formed, thereby obtaining the opening parts OP3 and the contact holes CH1 simultaneously in the same etching process.例文帳に追加

開口部ＯＰ３の底部にエッチングストッパ膜４が露出した後も異方性ドライエッチングを続行し、エッチングストッパ膜４をエッチングマスクとして、層間絶縁膜３を貫通してソース・ドレイン領域１１および１３に達するコンタクトホールＣＨ１を形成することで、開口部ＯＰ３とコンタクトホールＣＨ１とを同じエッチング工程で同時に得る。 - 特許庁

Even when the drum terminal 65 is contacted on the body terminal 54, contact pressure can be prevented from directly acting on the drum frame 23 since the contact pressure which is received by the drum terminal 65 from the body terminal 54 is received on the drum cover 44, and the process cartridge 17 mounted on a body casing 2 can be prevented from being moved from a prescribed mounting completion position.例文帳に追加

ドラム端子６５が本体端子５４に当接しても、ドラム端子６５が本体端子５４から受ける当接圧は、ドラムカバー４４で受け止められるので、この当接圧がドラムフレーム２３に直接作用することを防止でき、本体ケーシング２に装着されたプロセスカートリッジ１７が所定の装着完了位置から動くことを防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a contact treatment substance used as a component of a catalyst for addition polymerization which gives an addition polymer having a high molecular weight; to provide a catalyst component for addition polymerization consisting of the contact treatment substance; to provide a catalyst for addition polymerization comprising the catalyst component for addition polymerization; and to provide a preparation process of an addition polymer using the catalyst for addition polymerization.例文帳に追加

高分子量の付加重合体を与える付加重合用触媒の成分に用いられる接触処理物、該接触処理物からなる付加重合用触媒成分、該付加重合用触媒成分を用いてなる付加重合用触媒、および該付加重合用触媒を用いる付加重合体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A radio terminal 100 has: a radio communication unit 110 which performs radio communication with an opposite terminal 200; a contact detector 120 which detects contact with the opposite equipment 200; an encryption key generator 130 and an encryption key determining unit 135 which process encryption key information; and a data processor 140 which encrypts or deencrypts data to be sent or received.例文帳に追加

無線端末１００は、相手端末２００との無線通信を行う無線通信部１１０と、相手機器２００との接触を検知する接触検知部１２０と、暗号鍵情報を処理する暗号鍵生成部１３０及び暗号鍵決定部１３５と、送受信するデータを暗号化または復号化するデータ処理部１４０とを有する。 - 特許庁

The polymerization method of propylene includes: a process of causing raw material propylene containing 5 wt.% or more of FCC propylene obtained by the fluid catalytic cracking of heavy oil to contact with a composite material of palladium and aluminum oxide, or the composite material and addable refined catalyst and, thereafter, causing the raw material propylene subjected to the contacting treatment with the composite material to contact with metallocene catalyst.例文帳に追加

重質油の流動接触分解により得られるＦＣＣプロピレンを５重量％以上含有する原料プロピレンを、パラジウムと酸化アルミニウムからなる複合物と、或いはその複合物と追加可能な精製触媒に接触させた後、メタロセン触媒に接触させることを特徴とする、プロピレンの重合法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can completely remove contamination which may be diffused when it is in contact with the wafer from an edge to be in contact at the time of handling of the wafer, can verify the recognition number of the wafer by a laser reading device, and can progress a manufacturing process by the exchange of the wafer after standard handling is established.例文帳に追加

ウェーハに触れて拡散させるおそれのある汚染をウェーハのハンドリングの際に触れるエッジ部分から完全に除去でき、ウェーハの認識番号が確実にレーザ読取機で確認できて、標準ハンドリングが確立しウェーハを交換して製造工程を進めることが可能な半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The laser welding method for the continuous hot rolling process includes: a stage where the rolled stocks in which the low temperature transformed structure is produced are brought into contact with each other; and a stage where the contact part between the rolled stocks is subjected to laser welding using a welding material comprising, by weight, ≤0.1% C and 0 to 1.22% Cr in a welding stage.例文帳に追加

連続製造工程のためのレーザー溶接方法は、低温変態組織が発生する圧延材を相互に接触させる段階と、上記圧延材の接触部分に対して溶接段階でＣ：０．１重量％以下、Ｃｒ：０−１．２２重量％を含む溶接材料を使用してレーザー溶接する段階とを含んで成る。 - 特許庁

To obtain an IC card reader which eliminates a redundant activating process by a host device by automatically performing noncontact type IC card activation on a card reader writer side so that the noncontact type IC card activation is equivalent to contact type IC card activation when viewed from the host device and transmitting the activation result similar to that of a contact type IC card to the host device.例文帳に追加

上位装置から見て、非接触式ＩＣカード活性化が接触式ＩＣカード活性化と等価になるように、カードリーダライタ側で非接触式ＩＣカード活性化を自動的に行い、接触式ＩＣカードの場合と同様の活性化結果を上位装置へ伝達し、上位装置における冗長な活性化処理を不要にしたＩＣカードリーダを得る。 - 特許庁

To protect a contact part of a second contact which is arranged on a card insertion port side and in which the tip part of a first card hits in an operation process of insertion and removal of the first card regarding a connector for a card in which the first card and the second card of different lengths are selectively mountable through a common card insertion port.例文帳に追加

本発明は共通のカード挿入口を通して長さが相違する第１のカード及び第２のカードが選択的に装着可能であるカード用コネクタに関し、カード挿入口側に配置してあり、第１のカードが挿入抜去する操作過程において第１のカードの先端部が当たる第２のコンタクトのコンタクト部を保護するようにすることを課題とする。 - 特許庁

The process cartridge is provided with the developing means in which the lubricating particles with weight average particle diameter that is ≤ 10μm and the average roundness is ≥ 0.9 is provided in a contact part in a state in which the developer does not exist in the contact part between the developer carrier and the developer restricting member before the initial use of a developing means.例文帳に追加

現像手段初期使用以前の現像剤担持体と現像剤規制部材との接触部に現像剤が存在しない状態において、接触部に、重量平均粒径が１０μｍ以下であり、平均円形度が０．９以上である略球形の潤滑粒子が存在する現像手段を具備したプロセスカートリッジとする。 - 特許庁

In the regenerating treatment process for the developer by incorporating a contacting treatment process wherein the developer contg. mainly the photoresist and TAAH or a TAAH-contg. derived from the spent developer is brought into contact with a chalet resin, partial trace impurities such as Fe and Al can simply, inexpensively and effectively be removed.例文帳に追加

フォトレジスト現像廃液の再生処理過程において、フォトレジスト及びＴＡＡＨを主として含むフォトレジスト現像廃液又は該フォトレジスト現像廃液に由来するＴＡＡＨ含有溶液をキレート樹脂と接触処理する工程を含めることにより、Ｆｅ、Ａｌ等の一部の微量不純物を簡単で安価に且つ効果的に除去する。 - 特許庁

The level difference between the color filter and the black matrix can be reduced in a color filter process to obtain flatness characteristics by forming a second protective layer protecting the black matrix, heightening process stability and connecting a transparent conductive layer and a metal wiring to each other through a contact hole while an insulating layer within a pixel region and the like are maintained as it is by the structure including the second protective layer.例文帳に追加

ブラックマトリックスを保護する第２保護層を形成して、工程安定性を高めて、第２保護層を含めた構造で画素領域内絶縁層などをそのまま維持してコンタクトホールを通じて透明導電層と金属配線を連結させて、カラーフィルター工程でブラックマトリックスとの段差を縮めて、平坦化特徴を持つことが長所である。 - 特許庁

To reform an image into a state faithful to a latent image in order to eliminate a factor of image deterioration caused upon development by rearranging toner on a photoreceptor again nearby its surface by applying an alternating current to an electrode provided not in contact with the photoreceptor between a developing process and a transfer process.例文帳に追加

現像時に生じた画像劣化要因を現像工程と転写工程の間で感光体に対して非接触状態で設けられた電極に交番電圧を印加することよって再度感光体上のトナーを表面近傍にて再配置工程を行い、潜像に忠実な状態に画像を形成し直すことを目的としている。 - 特許庁

This treatment method for selenium-containing wastewater for removing selenium from the selenium-containing wastewater X to discharge the same includes a removing process for removing selenium contained in the selenium-containing wastewater X with a pH of 5-7 by bringing the selenium-containing wastewater X into contact with iron 21 and a discharge process for discharging treated water Y from which selenium is removed.例文帳に追加

セレン含有廃水Ｘからセレンを除去して排出するセレン含有廃水処理方法であって、ｐＨ５〜７の上記セレン含有廃水Ｘを鉄２１に接触させることによって上記セレン含有廃水Ｘに含有されたセレンを除去する除去工程と、上記セレンが除去された処理水Ｙを排出する排出工程とを含む。 - 特許庁

When the waste liquid containing organic substances and the heavy metals is treated, an alkaline compound is used in a combustion process for combusting the waste liquid while purifying a combustion exhaust gas by liquid-contact and a flocculant is added into a liquid in a cleaning tank for cleaning the exhaust gas generated from the combustion process, and the heavy metals are flocculated, separated and removed.例文帳に追加

有機物および重金属を含有する廃液を処理する際に、燃焼排ガスを液接触により洗浄しながら、該廃液の燃焼を行う燃焼工程にアルカリ性化合物を存在させ、かつ該燃焼工程から生じる排ガスの洗浄缶液に凝集剤を添加し、重金属を凝集させ分離、除去する。 - 特許庁