「Cleaned」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

To easily remove powdery and different impurities from the recessed part, the blind holes or the opened hollow chamber provided in the subject to be cleaned.例文帳に追加

対象物に設けられた凹設部、盲孔または開いた中空室から粒子状のかつ別の不純物を簡単に除去することができるようにする。 - 特許庁

To provide an explosive power-driven riveting device capable of informing of accumulated contamination matter in a combustion space, which must be cleaned, to a worker.例文帳に追加

燃焼空間内に汚染物が溜まり、クリーニングしなければならないことを作業員に対して知らせることができる爆発力駆動鋲打ち装置を得る。 - 特許庁

By such vibration, an adhesive matter (a) such as toner or an additive adhering to the thread 5 is shaken off, and the roller 3 is cleaned.例文帳に追加

この振動により、導電糸５に付着しているトナーあるいは添加剤などの付着物ａをふるい落とし、帯電ブラシローラ３の清掃を行う。 - 特許庁

Then, a chemical fluid is supplied to the dummy wafer DW in the rotation condition, and the interior wall of the recovery space is cleaned with the chemical fluid (step T18).例文帳に追加

その後、回転状態にあるダミーウエハＤＷに対して薬液が供給され、回収空間の内壁が薬液で洗浄される（ステップＴ１８）。 - 特許庁

To provide a method and a device for treating substrate capable of simply obtaining a high cleaning effect irrespective of film materials that are objects to be cleaned.例文帳に追加

洗浄対象の膜の材料にかかわらず簡易に高い洗浄効果を得ることが可能な基板処理方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

After that, the spaces 41, 42 are made in the liquid-tight state, and the upper and the lower surface of a wafer W are cleaned by the chemical solution (as shown in Fig.5(d)).例文帳に追加

その後、空間４１，４２が薬液により液密状態にされて、ウエハＷの上面および下面が薬液により洗浄される（（ｄ）参照）。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which the influence of its exhaust gas is suppressed and cleaning the air inside a room is cleaned, thereby preventing a user from feeling discomfort.例文帳に追加

画像形成装置の排出ガスの影響を抑えかつ室内の空気を浄化することが可能であって、ユーザに不快感を与えることがないようにする。 - 特許庁

To provide a cleaning method and a cleaning device capable of satisfactorily cleaning an object to be cleaned that has fine grooves on its surface.例文帳に追加

表面に微細な溝がある被洗浄物についても良好に洗浄することのできる洗浄方法及び洗浄装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a cleaning structure in which a cooling device can be easily and efficiently cleaned even with a simple device structure.例文帳に追加

簡単な装置構成であるにもかかわらず、冷却装置の清掃が簡単、かつ、効率的に行える清掃構造を提供しようとするものである。 - 特許庁

To provide a cleaning apparatus that cleans a member to be cleaned appropriately and is long-life with reduced deformation of a component and the like, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

被クリーニング部材を適切にクリーニングすると共に、部品の変形等の低減された長寿命なクリーニング装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, the cleaning structure can be provided in which, even with the simple device structure, the cooling device 3 can be easily and efficiently cleaned.例文帳に追加

これにより、簡単な装置構成であるにもかかわらず、冷却装置３の清掃が簡単、かつ、効率的に行える清掃構造を提供することができる。 - 特許庁

To provide a suction device for a vacuum cleaner that improves the durability of a group of brushes and stably supplies negative ions to a surface to be cleaned.例文帳に追加

ブラシ群の耐久性を向上できるとともに、マイナスイオンを被清掃面に安定して供給することができる電気掃除機用吸込具を提供すること。 - 特許庁

Subsequently, the silicon substrate 4 and the counter electrode substrate 6 are cleaned to remove foreign substances around the portions 1, 2 removed by scraping and peeling.例文帳に追加

続いて、前記シリコン基板４及び対向電極基板６の洗浄を行い削剥によって除去した部分１及び２周辺の異物除去を行う。 - 特許庁

To provide a cleaning device and an image forming device, for properly removing an untransferred toner image and transfer residual toner c from an object to be cleaned.例文帳に追加

未転写のトナー像と転写残トナーとを良好に被清掃体上から除去することのできるクリーニング装置および画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a water treatment method in which a membrane module is cleaned with a small amount of a surfactant aqueous solution of high concentration to keep high filtration performance thereof.例文帳に追加

少量かつ高濃度の界面活性剤水溶液で膜モジュールを洗浄することにより、高いろ過性能を維持できる水処理方法を提供する。 - 特許庁

To sufficiently cleaning the surface of a corporeal thing on which a lacquer coating film is applied and to keep the appearance of the cleaned corporeal thing beautiful.例文帳に追加

漆塗膜が施された有体物の表面を十分に浄化すると共に、その後の有体物の見栄えが美麗なままに維持されるようにする。 - 特許庁

To provide a cement-based solidified body adsorbing carbon dioxide in the atmosphere by incorporating cleaned waste casting sand.例文帳に追加

洗浄された廃鋳物砂を含ませることで、大気中の炭酸ガスを吸着することができるセメント系固化体等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To rinse and dry a substrate surface exhibiting hydrophobicity after being cleaned while preventing a watermark from being generated on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面にウォーターマークが生成されるのを抑制しつつ、疎水性を示す基板表面を洗浄後にリンスし乾燥させることができるようにする。 - 特許庁

To drive an ultrasonic vibrator by a resonance frequency regardless of the change of external factors such as the number or kinds of endoscopes to be cleaned with ultrasonic wave.例文帳に追加

超音波洗浄する内視鏡の数や種類などの外的要因の変化にかかわらず、超音波振動子を共振周波数で駆動する。 - 特許庁

To provide an intake basin and a rainwater storage system using the intake basin surely taking in and storing even a small amount of rainwater and easily inspected and cleaned.例文帳に追加

少量の雨水でも確実に取水して貯留し、点検，清掃も容易な取水枡及びそれを利用した雨水貯留システムを提供する。 - 特許庁

After the absorbing member 12 is cleaned, an Ni plating liquid 37 in a tank 34 is passed through the liquid supply pipe 22 and is supplied to the absorbing member 12.例文帳に追加

吸収部材１２を洗浄した後、タンク３４内のＮｉめっき液３７を、液供給管２２を通して吸収部材１２に供給する。 - 特許庁

At the docking station, the waste material is off-loaded to a waste drain and the waste collection unit is cleaned and rinsed for further use.例文帳に追加

ドッキングステーションでは、廃棄物材料が廃棄物ドレーンへと吐き出されるとともに、更なる使用のために廃棄物収集ユニットが洗浄されてすすがれる。 - 特許庁

A programmed controller (9) controls the movement of the hydraulic broom relative to the wafer so that the entire surface can be cleaned and various kinds of sweep patterns can be provided.例文帳に追加

プログラム制御装置（９）が、ウェーハに対する液圧式箒の移動を全面がクリーニングされるように制御し、様々なスウィープパターンを可能にする。 - 特許庁

When the nozzle is cleaned, the nozzle cleaning device 30 is mounted in a shutter mounting portion 17, and a shower washing switch or a bidet washing switch is operated.例文帳に追加

ノズル掃除を行う場合には、ノズル掃除装置３０をシャッタ装着部１７に装着し、シャワー洗浄スイッチ又はビデ洗浄スイッチを操作する。 - 特許庁

To provide a sewage cleaning apparatus capable of cleaning sewage without producing sludge to reutilize the cleaned water as a non-drinking water supply for domestic use such as toilet water or the like.例文帳に追加

汚泥が発生せず、汚水を浄化してトイレ用水などの飲用ではない生活用水として再利用可能な浄水装置を提供する。 - 特許庁

In a processing line, the cleaning step S1 at which raw livers are cleaned and a preheating step S2 at which the raw livers are warmed are performed before the main heating step S3.例文帳に追加

また、加工ラインでは、生肝を洗浄する洗浄ステップＳ１と生肝を温める予備加熱ステップＳ２とが、本加熱ステップＳ３の前に行なわれる。 - 特許庁

To provide a cleaning method in which platinum deposited in an electrolyte membrane can be cleaned and removed, and improvement of durability of a fuel cell is possible.例文帳に追加

電解質膜内に析出した白金を洗浄除去でき、燃料電池の耐久性向上が可能な燃料電池の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the entire backside of the substrate W is cleaned by the cleaning brush 630 with contaminations sticking on the backside of the substrate W removed.例文帳に追加

これにより、基板Ｗの裏面の全体が洗浄ブラシ６３０により洗浄され、基板Ｗの裏面に付着する汚染物が取り除かれる。 - 特許庁

When a fault is detected in the tinge of the ink on the roller 10a, a printing operation is stopped, and the ink on the roller 10 is cleaned.例文帳に追加

現像ローラ１０ａ上のインクの色合いに異常が検出されたとき、印刷動作を中止し、該現像ローラ１０ａ上のインクのクリーニングを行う。 - 特許庁

Then, the toner projecting from the transfer material and undesirably sticking to the transfer roller is shifted to the photoreceptor drum, and the transfer roller is cleaned.例文帳に追加

これにより、転写材からはみ出て不要に転写ローラに付着していたトナーを、感光ドラムに転移させて、転写ローラをクリーニングすることができる。 - 特許庁

To provide a solvent composition having an excellent cleaning effect on objects to be cleaned, to which a curable resin, its cured product or oil and fat adhered.例文帳に追加

硬化性樹脂若しくはその硬化物、又は油脂が付着した被洗浄物に対して、洗浄効果の優れた溶剤組成物を提供することである。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device is characterized in that a semiconductor substrate containing Ge is cleaned with an HCL solution of 75 to 110°C.例文帳に追加

Ｇｅを含有する半導体基板を、７５℃以上１１０℃以下のＨＣｌ溶液で洗浄処理を行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The cleaned and dried wafers are respectively chucked and retained to the sticking chucks (16), (17) in a standing state at the receiving position to be aligned.例文帳に追加

洗浄乾燥後のウエーハは、上記受取位置で上記貼り合せチャック（１６）、（１７）に起立状態でそれぞれ吸着保持され、アライメントされる。 - 特許庁

Next, the electrode forming region of the heterostructure layer exposed in the wet etching process is cleaned with the room-temperature ammonia water of not less than 18°C nor more than 25°C.例文帳に追加

次に、ウェットエッチング工程で露出した、ヘテロ構造層の電極形成領域を１８℃以上２５℃以下の室温アンモニア水で洗浄する。 - 特許庁

To provide a cleaning tool, finely foaming a detergent and effectively performing the cleaning of a material to be cleaned, even small corners of its projected and recessed portions or the like.例文帳に追加

洗剤を細かく泡立てることができ、被清掃物を凹凸部等の細部まで効果的に洗浄することができる清掃具を提供する。 - 特許庁

To allow the insertion of a cleaning head into a narrow and high space, erect the cleaning head relative to a surface to be cleaned and clean it by its edge.例文帳に追加

清掃ヘッドを狭い高さのスペースに進入可能にするとともに、清掃ヘッドを被清掃面に対して立ててそのエッジにより清掃可能にすること。 - 特許庁

To provide a roaster, the whole of which can be sufficiently cooled with water of a water tank, and in which the water tank can be easily cleaned.例文帳に追加

水槽によるロースター全体の水冷効果を十分に達成できるとともに、水槽の清掃を容易に行うことが可能なロースターを提供すること。 - 特許庁

Even if the surface of the amorphous silicon film is cleaned by using hydrofluoric acid, an abnormal part is not formed in the amorphous silicon film and a glass hole is not formed in the glass substrate 3.例文帳に追加

アモルファスシリコン薄膜の表面をフッ酸で洗浄しても、アモルファスシリコン膜に異常部が形成されず、ガラス基板３にガラス穴が形成されない。 - 特許庁

To provide a cleaned air distributing device capable of partly cleaning the circumference of a dweller when the dweller does not move during sleeping and the like.例文帳に追加

寝時等、居住者の移動が少ない場合には、居住者の周囲を部分的に清浄することができる清浄空気送風装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning sheet having substantial macroscopic three-dimensionality coping with cleaned surfaces of various sizes and shape to collect and catch soil.例文帳に追加

多様なサイズ、形状などの被清掃面に対応して汚れを収集し捕捉できる、実質的に巨視的三次元性を有する清掃シートを提供する。 - 特許庁

To provide a combustion type power tool capable of cleaning a cleaned object from the outside of the tool without requiring disassembling work of a head cover or a head cap.例文帳に追加

ヘッドカバーやヘッドキャップの分解作業を要せずに、工具の外側から、清掃対象物の清掃が可能な燃焼式動力工具の提供。 - 特許庁

Further, after the open surface H is formed; the resist pattern 9 is removed from the Si substrate 1, and the Si substrate 1 is cleaned by dilute hydrofluoric acid.例文帳に追加

開口面Ｈを形成後、レジストパターン９をＳｉ基板１上から除去し、その後、希フッ酸を用いてＳｉ基板１を洗浄処理する。 - 特許庁

Thereafter, the processed substrate is divided into individual chips by, for example, blade dicing, and the chips are immersed in an alkali solution and are cleaned with water (steps S4 to S6).例文帳に追加

その後、例えば、ブレードダイシングを行って被処理基板をチップに個片化し、そのチップをアルカリ溶液に浸漬し、さらに水洗処理を行う（ステップＳ４〜Ｓ６）。 - 特許庁

To provide a cleaning device for a liquid image forming apparatus capable of restraining the stick slip phenomenon of a cleaning blade when starting a member to be cleaned.例文帳に追加

被クリーニング部材が起動する際、クリーニングブレードのスティックスリップ現象を抑制することができる液体画像形成装置のクリーニング装置を提供する。 - 特許庁

The gas passing member 13 is freely attached to and detached/separated from the gas box plate 2 and is exchanged with the preliminary and cleaned gas passing member 13 in maintenance.例文帳に追加

このガス通過部材１３は、ガスボックスプレート２に対して脱着分離可能なもので、メンテナンス時には、予備の洗浄されたガス通過部材１３と交換される。 - 特許庁