| 意味 | 例文 |
Each processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5667件
Before assembly, each of the PDL files of pages to be combined on the single multiple-page sheet is rendered into a bit map or a pixel map by a rendering method process, a renderer or a rendering module, and the rendering method process includes an operation associated with the assembly depending on an assembly parameter.例文帳に追加
組み付けの前に、多数ページ単葉シート上に組み合わされるべきページのページ記述言語フアイルの各々は、レンダリング方法過程、レンダラー又はレンダリングモジュールで、ビットマップ又はピクセルマップにレンダーされるが、レンダリング方法過程は組み付けパラメーターに依存する組み付け関連操作を含む。 - 特許庁
The normalization process is the process of pixel value gradation conversion that approximates the degree of variance of pixel values to a predetermined level in each local region of a discrimination target image, and the local region is a region sized to include only one eye of a face to be discriminated.例文帳に追加
正規化処理を、当該判別対象画像における各局所領域について画素値の分散の程度が所定レベルに近づくように画素値の階調変換を行う処理とし、その局所領域を、判別すべき顔の目が1つのみ含まれる大きさの領域とする。 - 特許庁
To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition suitable not only to a normal dry process but also to an immersion process for a line width of 45 nm or less and improved in the DOF, pattern collapse and iso/dense bias, and to provide a resist film and a pattern forming method each using the composition.例文帳に追加
通常のドライプロセスに加え、線幅45nm以下の液浸プロセスにも適合した、DOF、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
Next, a server processing apparatus performs an operation order generating process (S15) determining the operation order of assembling blocks on the basis of the block information 224, and performs a camera position information addition process (S16) determining a viewpoint position for creating an appearance diagram of the product assembled by each operation.例文帳に追加
次に、サーバ処理装置は、そのブロック情報224に基づき、各ブロックを組み立てる作業順番を定める作業順番生成処理(S15)を実行し、各作業で組み立てられる製品の外観図を作成する視点位置を定めるカメラ位置情報付加処理(S16)を実行する。 - 特許庁
In a focus detecting device in which a plurality of line sensors are arranged, a pixel signal and a reset signal read from the photodiode of each line sensor is stored in capacitors 316 and 318 respectively, and by opening/closing a switch 321, a pixel signal is output while a CDS process (a noise removal process) is performed.例文帳に追加
複数のラインセンサを配列させた焦点検出装置において、ラインセンサのフォトダイオードから読み出された画素信号およびリセット信号を、キャパシタ316、318にそれぞれ格納し、スイッチ321を開閉することによって、CDS処理(ノイズ除去処理)しながら画素信号を出力する。 - 特許庁
To provide a production object range setting device capable of optimizing an inventory and resolving a processing delay when a range of objects for which a production plan is to be prepared is set in a production process where steel plates are transported in discontinued processing and an inventory is retained immediately before each processing process.例文帳に追加
鋼板が非連続処理にて搬送され、各処理工程の直前で在庫が滞留する生産工程での生産計画作成対象範囲の設定に際し、在庫を最適化するとともに処理日遅れを解消し得る生産対象範囲設定装置を提供する。 - 特許庁
In a memory leak determination device (a resource release failure determination device) 1, a memory usage obtaining unit (a resource usage obtaining unit) 21 obtains memory usage (resource usage) for each process, and a maximum value update counter 22 counts the number of updating the maximum value of the memory usage for every process.例文帳に追加
メモリリーク判定装置(資源解放漏れ判定装置)1において、メモリ使用量取得部(資源使用量取得部)21が、各プロセスのメモリ使用量(資源使用量)を取得し、最大値更新回数計数部22が、メモリ使用量の最大値更新回数をプロセス毎に計数する。 - 特許庁
The hydrophilicity of a hydrophilic coating film is prevented from falling in the process of polishing the same, by preventing the loss of functional groups each comprising an OH group present on the surface of the coating film in the process of polishing the same with a buff, by employing a buff constituted of a nitrogen-free resin that does not contain a nitrogen atom, in polishing the same.例文帳に追加
親水性塗膜を、窒素原子を含有しない窒素不含樹脂からなるバフを用いて研磨することにより、塗膜表面において、OH基を含む官能基がバフによる研磨で失われることを防止し、塗膜の親水性が低下することを防止する。 - 特許庁
A business category notification program 103 of a WWW server 102 discriminates the business category of each program when the program is started, also checks a process ID attached when the program is started and notifies a collection agent 101 of the business category and the process ID.例文帳に追加
WWWサーバ102の業務種別通知プログラム103は、各プログラムが起動されるときに、その業務種別を判別するとともに、その起動時に付与されるプロセスIDを調べ、その業種種別とプロセスIDとを収集エージェント101に通知する。 - 特許庁
To provide a slide fastener finishing apparatus capable of inserting a slider from a back opening with a pair of right and left element rows of a fastener chain engaged with each other on a transfer passage for the fastener chain to continuously perform a fastener chain element row engagement process and a single stopper fitting process efficiently.例文帳に追加
ファスナーチェーンの移送路上で、ファスナーチェーンの左右一対のエレメント列を噛み合わせた状態でスライダーをその後口から挿入し、ファスナーチェーンのエレメント列噛合工程及び単一止具の取付工程を連続して効率的に行うことができるスライドファスナー仕上げ装置を提供する。 - 特許庁
In a multi-functional apparatus 1 comprising a reading process part 3 and a recording process part 4, an ejecting position of a document ejected from a document ejecting port 14 and an ejecting position of recording paper ejected from a recording paper ejecting port 16 are made different from each other in a direction orthogonal with an ejecting direction in a plane view.例文帳に追加
読取プロセス部3と、記録プロセス部4とを備えてなる多機能装置1において、原稿排出口14から排出される原稿の排出位置と、記録紙排出口16から排出される記録紙の排出位置とを、平面視で排出方向と直交する方向に異ならせる。 - 特許庁
In other words, the RIP time of a reference job most similar to the object job is made a RIP time estimated value in a simple mode, while the process time of each used command indicated by the object job information is estimated to calculate the RIP time estimated value as a total of the process times in a detailed mode.例文帳に追加
即ち、簡易モードでは、対象ジョブに最も類似する参照ジョブのRIP時間をRIP時間推定値とし、詳細モードでは、対象ジョブ情報の示す各使用コマンドの処理時間を見積もり、それらの総和としてRIP時間推定値を算出する。 - 特許庁
A first starting distance between a surface of the first bore and a head end of the grindstone in starting grinding delivering drive in the first process and a second starting distance between a surface of the second bore and the head end of the grindstone in starting the grinding delivering drive in the second process are different from each other.例文帳に追加
第1工程において研削送り出し駆動を開始する時の、第1ボア表面および砥石先端の間の第1開始距離と、第2工程において研削送り出し駆動を開始する時の、第2ボア表面および砥石先端の間の第2開始距離とは、異なる。 - 特許庁
To provide a method and a system for managing semiconductor device manufacturing process by which the deviation in alignment which occurs when each layer is laminated can be suppressed effectively in a semiconductor device manufacturing process by reducing the measurement error in superimpose.例文帳に追加
重ね合わせ量の測定誤差を低減し、半導体装置製造工程において各層を積層する際の位置合わせずれを有効に抑制することを可能とする半導体装置製造工程管理方法および半導体装置製造工程管理システムを提供すること。 - 特許庁
In the case a printer for executing a job is designated in the operation screen, an outputting process based on the inputted image data as a master job, and an outputting process from the designated printer as a subordinate job derived from the master job, are published with the master job and the subordinate job related with each other.例文帳に追加
この操作画面においてジョブを実行するプリンタが指定されると、入力された画像データに基づいた出力処理を親ジョブ、指定されたプリンタからの出力処理を親ジョブから派生した子ジョブとして、親ジョブ及び子ジョブが相互に関連付けられて発行される。 - 特許庁
In the electrode-forming process, the etching depth of the piezoelectric substrate 2 is changed within the same substrate, on the basis of the film thickness distribution of the metal film 11 measured in the film thickness measurement process, thereby adjusting the center frequency in each of a plurality of element regions.例文帳に追加
そして、電極形成工程の際に、膜厚測定工程により測定された金属膜11の膜厚分布に基づいて、圧電性基板2のエッチング深さを同一基板内で変化させることにより、複数の素子領域のそれぞれにおける中心周波数を調整する。 - 特許庁
To provide a silicon epitaxial wafer which has high gettering capability and is capable of reducing the total cost of semiconductor device fabrication, by facilitating film thickness control in each device process to be carried out readily and enabling the process of thinning the silicon substrate, after finishing the device fabrication to be carried out readily.例文帳に追加
高ゲッタリング能力を有し、なおかつデバイスプロセスの各工程において膜厚管理を容易にし、またデバイス作製後のシリコン基板の薄膜化工程を容易にするなどして、半導体デバイス作製のトータルコストを削減できるシリコンエピタキシャルウェーハを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a bending system which can perform processing composed of a bending process and a press-insertion process by a single device, determines a proper order of both the processes in advance, and improves work efficiency at each point by utilizing existing equipment.例文帳に追加
曲げ工程と圧入工程から成る加工を行う場合に、1台の装置で実施可能にすると共に、両工程の適性順序を予め決定し、更に、既存設備を利用することにより、それぞれの点で作業効率を向上させる曲げ加工システムを提供する。 - 特許庁
A plurality of performance estimation items that are estimation indexes of the production process are previously prepared, and addition or deduction of points, or other estimation calculation is executed according to whether the executing production process satisfies each the performance estimation item or not to output a final estimation value.例文帳に追加
生産プロセスの評価指標となるパフォーマンス評価項目を予め複数用意しておき、実行している生産プロセスが各パフォーマンス評価項目を満たしているかどうかによって加点もしくは減点または他の評価演算を行って最終評価値を出す。 - 特許庁
To provide a polymer composition which is prepared only by an emulsion polymerization process, with no need of additional cohesion process so as to reduce the manufacturing cost incurred by a latex, and which improves a bonding degree between heterogeneous particles of a colorant, wax and latex and distribution uniformity of the particles so as to control the content of each component with ease.例文帳に追加
別の凝集過程なしに乳化重合だけを利用することによってラテックスの製造費用を節減し,着色剤,ワックス及びラテックスの異種粒子間結合度と分布の均一性を向上させて各成分の含有量を調節しやすい高分子組成物を提供する。 - 特許庁
Furthermore, the method includes a process for forming the ink channel walls 34 for partitioning a plurality of ink channels from each other between the first mold material 16 on the Si substrate 11 and a process for forming the second mold material 36 which occupies the portion becoming the ejection ports communicating with the ink channels on the first mold material 16.例文帳に追加
さらに、複数のインク路同士を仕切るインク路壁34を、Si基板11上の第1の型材16同士の間に形成する工程と、第1の型材16の上に、インク路に連通する吐出口となる部分を占有する第2の型材36を形成する工程とを有する。 - 特許庁
In manufacturing the game board, when an inspection result that a part of a cutter used in each punching process S11-S13 is mixed as a metal piece in the game base plate in a game base plate inspection process S14, the base plate can be immediately recognized as a defective game base plate.例文帳に追加
遊技盤を製造するに当たり、遊技基板検査工程S14で各ポンチング工程S11〜S13で使用された刃物の一部が遊技基板内に金属片として混入しているとの検査結果が得られた場合には、当該基板を不良な遊技基板であると即座に認識できる。 - 特許庁
The burn-in method comprises a process that is provided corresponding to each of a plurality of devices on a burn-in board and performs the heat transfer contact of a plurality of members connected mutually by a flexible heat-conducting material to the plurality of devices; and a process for controlling the temperature of the plurality of members collectively.例文帳に追加
バーンインボード上の複数のデバイスそれぞれに対応して設けられ、かつ可撓性のある熱伝導部材で互いに結合された複数の部材を、複数のデバイスに伝熱接触させる工程と、複数の部材を一括的に温度制御する工程とを具備する方法である。 - 特許庁
Information on the display of a schedule sheet in which a facility composition which is an object of a work process, and a schedule for carrying out at least one work included in the work process are associated and shown for each of a plurality of work processes is stored in an RAM of a PC.例文帳に追加
PCのRAMに作業工程の対象となる設備構成及びその作業工程に含まれる少なくとも一つの作業の実行スケジュールが複数ある作業工程毎に対応付けされた滋養対で表示される日程シートの表示情報を記憶しておく。 - 特許庁
From starting of a first-time printing process (T2 timing) up to T5 timing when a counter X counts four minutes, each fan is driven at medium rotational speed during the printing process (T2 to T3, T4 to T5 timing) and thereafter driven at high rotational speed (T5 to T6, T8 to T9 timing).例文帳に追加
初回の印刷処理の開始より(T2タイミング)、カウンタXが4分をカウントするT5タイミングまでは、印刷処理中に各ファンはそれぞれ中速回転駆動され(T2〜T3,T4〜T5タイミング)、それ以後はそれぞれ高速回転駆動される(T5〜T6,T8〜T9タイミング)。 - 特許庁
Since a stage processing space R3 in the process line 10L is opened to both the area R2 side exclusive for the robot and the area R1 side exclusive for the worker, the robot 80 and the worker perform processing on the process line 10L by cooperating with each other.例文帳に追加
本発明では、処理ライン10Lにおけるステージ処理空間R3をそれらロボット専用領域R2側と作業者専用領域R1側との両方に開放したので、ロボット80と作業者とが互いに補助し合って処理ライン10L上で処理を行うことができる。 - 特許庁
The inclination calculation process obtains, by logarithmically approximating, an inclination of a linear line in a double logarithmic chart showing a relationship between the number of counts and block sizes obtained in the number of counts calculation process as the feature amount related to the complexity of the first block for each of the first blocks.例文帳に追加
傾き算出工程では、第1ブロックの各々について、第1ブロックの複雑さに関する特徴量として、カウント数算出工程により求められたカウント数とブロックサイズとの関係を示す両対数グラフにおける直線の傾きが対数近似に基づいて求められる。 - 特許庁
A process for injecting the wire rod 2 and a process for ejecting/discharging injection-molded product intermittently are repeated successively while the rod 2 is inserted into the slider, the ejector pins and each cavity so as to be in a tensioned state, thus a series of product having many injection-molded products fixed on the wire rods is manufactured.例文帳に追加
線材2をスライダ、エジェクタピン内及び各キャビティ内に挿通した状態に張設した状態で、射出工程と成形された射出成形品を間欠的に押出・排出させる工程を順次繰り返し、線材に多数の射出成形品が固着した一連の製品を製造する。 - 特許庁
In addition, this music selecting system is composed of a process in which the list of the music data stored in the center are transmitted to each one of the plural reproducing devices through the communication means and a process in which the desirable music data is selected from the music data transmitted by the center in the reproducing devices.例文帳に追加
また、センタに記憶された音楽データの一覧を通信手段を介して複数の再生装置のそれぞれに送信する工程と、前記再生装置においてセンタより送信された音楽データから所望の音楽データを選択する工程とで音楽選択方法を構成した。 - 特許庁
The sorted final defect distributions and layer defect distributions obtained by each in-line inspection process 10a, 10e and 10f are compared, respectively, and the in-line inspection process 10e obtaining the layer defect distributions (such as 31b) similar to the final defect distributions (such as 26a) is specified.例文帳に追加
分類された最終欠陥分布と各インライン検査工程10a、10e、10fによって得られたレイヤ欠陥分布とをそれぞれ比較して、最終欠陥分布(例えば26a)に対して類似するレイヤ欠陥分布(例えば31b)が得られたインライン検査工程10eを特定する。 - 特許庁
To enhance the quality of a magnetic recording medium by devising a carrier holding a substrate included in a vacuum film-depositing device, thereby making the temperature of the substrate close to the temperature suitable for each film deposition process in a film-deposition process of the magnetic recording medium.例文帳に追加
真空成膜装置に含まれる基体を保持するキャリアを工夫することで、磁気記録媒体の成膜工程において基体の温度をそれぞれの成膜工程に適した温度に近づけることが可能となるため、磁気記録媒体の品質の向上を図ることができる。 - 特許庁
This method for producing the waste paper pulp comprises processes 10, 20 of disintegrating the waste paper in >20% pulp concentration for removing foreign materials from pulp fibers and processes of bleaching the pulp fibers, which comprise at least 2 stages of a pre-bleaching process 40 and post bleaching process 50, while performing mechanical agitation by each of disc type dispersing machines.例文帳に追加
20%を超えるパルプ濃度で古紙を離解し異物をパルプ繊維より除く工程10、20と、それぞれディスク型の分散機により機械的攪拌を行いながらパルプ繊維を漂白する工程を、少なくとも2段の前漂白工程40及び後漂白工程50とを含む。 - 特許庁
Inventions of manufacturing device for pharmaceuticals and inventions of manufacturing process for pharmaceuticals considered to be a method of using such manufacturing process (for example, where the end of the claims of the inventions each contains the manufacturing device for tablets and the manufacturing method for tablets and the rest are the same) shall be deemed to be identical. 例文帳に追加
医薬品の製造装置に関する発明及びその製造工程の利用方法とされる医薬品の製造方法の発明(例えばそれぞれの請求項の末尾に錠剤の製造装置と錠剤の製造方法等が含まれ、残りが同一の場合)は同一と見なされる。 - 特許庁
To provide an integrated monitoring and analysis device and method for integrally monitoring and analyzing problems from the monitoring of the operating state on a process of various facilities such as a production facility in a factory or the like and the grasping of a factor disturbing the normal operation in each process.例文帳に追加
工場等における生産設備等各種設備の工程上の稼働状況の監視から当該各工程毎の正常稼働を妨げる要因の把握までの問題を統合的に監視して解析するようにした統合的監視解析装置及びその方法を提供する。 - 特許庁
In the control system, the discharge factor data stored into database is generated, with reference to the pre-determined emission factor model for the substance, based on information about materials or products charged into the process by each process, and based on information about the substances composing materials or products products.例文帳に追加
データベースに格納される排出係数データは、プロセス毎に当該プロセスに投入する材料或いは製品に関する情報と、材料或いは製品を構成する物質に関する情報に基づいて、当該物質について予め規定されている排出係数モデルを参照して作成する。 - 特許庁
To require no highly vacuum exhausting device by having uniform electron emitting characteristics for each electron emitting element by forming an uniform concentration distribution of introduced gas in a process (activating process) to deposit carbon or a carbon compound on a conductive thin film including an electron emitting part.例文帳に追加
電子放出部を含む導電性薄膜に炭素又は炭素化合物を堆積させる工程(活性化工程)における導入ガスの濃度分布を均一化することにより、各電子放出素子の電子放出特性の均一化を実現し、高真空の排気装置を不要とする。 - 特許庁
Accordingly, the natural oxide film and the chemical oxide film made on the silicon substrate at etching of a contact hole, or the damaged section is removed, and after each wafer process, conditioning gas is let in to keep the environment within a chamber constant, whereby process reproducibility is enhanced.例文帳に追加
従って、コンタクトホールの食刻のときシリコン基板上に形成された自然酸化膜、化学的酸化膜、または損傷部位が除去され、各ウェーハ工程の後、コンディショニングガスを流入させてチェンバー内の環境を一定に保持することにより工程再現性を向上させる。 - 特許庁
In these treatments, LDD width WD11, WD13 are each set separately, by setting a source region/drain region implantation process of the Tr 33 after the formation of the first sidewall, and a source region/drain region implantation process of the Tr 35 after the formation of the second sidewall, respectively.例文帳に追加
これらの処理において、第1のサイドウォール形成後にTr33のソース領域/ドレイン領域インプラ工程を、第2のサイドウォール形成後にTr35のソース領域/ドレイン領域インプラ工程を、それぞれ打ち込むことにより、各LDD幅WD11,WD13を別個に設定する。 - 特許庁
In the latter half of each combustion cycle, by decreasing the instantaneous rotational speed N always along a similar process, accurate estimation can be performed thus based on the rotation decrease amount equivalent value ΔN, and close matching for setting a correction process relating to this estimated value can be omitted.例文帳に追加
各燃焼サイクル後半において瞬時回転数Nは常に同様の過程を辿って減少することから、このように回転低下量相当値ΔNに基づいて正確な予測が可能となり、その予測値に対する補正処理を設定するための綿密なマッチングを省略可能となる。 - 特許庁
In this case, (A) the raw material graphite particles (G1) previously heated to ≥100°C are brought in collision with each other in the fluidized state in the process, or (B) the spherical graphite particles (G2) obtained through the process are heated to ≥100°C and hot-pressed.例文帳に追加
このとき、(イ)上記工程において、原料黒鉛粒子(G_1)を予め100℃以上に加熱しておいてから流動状態で衝突させるか、あるいは、(ロ)上記工程を経て得た球形化黒鉛粒子(G_2)を100℃以上に加熱してからホットプレスするという手段を講じる。 - 特許庁
This correction coefficient α is calculated, based on an arrival scheduled time T(k) to a progress k of the manufacturing process of each lot, existing in a production line at a certain T and the operation information of a facility x configuring the manufacturing process and a facility halt completion time Tc(x).例文帳に追加
この補正係数αは、ある時刻Tにおける生産ラインに存在する各ロットの製造工程の工程kへの到着予定時刻T(k)と、製造工程を構成する設備xの稼動情報と、設備停止完了時刻Tc(x)とに基づいて算出される。 - 特許庁
The method comprises a first process, in which the above cables 12 are simultaneously pressed in each groove 13 of the cable holding part 11 at least alternately, and a second process in which the remaining cables 12 are pressed in the remaining grooves 13, which are other than the grooves, in which the cables 12 are pressed in.例文帳に追加
前記電線保持部11の各溝部13に対し、各溝部13の少なくとも一つおきに前記電線12を同時に圧入する第1工程と、前記電線12を圧入した溝部13以外の残りの溝部13に対し、残りの電線12を圧入する第2工程とを含む。 - 特許庁
The electric connection terminal 7 is connected with the adjacent flat conductor 1 of the flat cable 3 through a first process in which 8 plurality of crimp pieces 6 of the electric connection terminal 7 are pierced and a second process in which a tip part 6a of each crimp piece 6 protruding through the flat cable 3 is bent and caulked.例文帳に追加
平型ケーブル3の隣接する平型導体1に、電気接続端子7の複数のクリンプ片6を突き刺す第1の工程と、平型ケーブル3を突き抜けた各クリンプ片6の先端部6aを曲げて加締める第2の工程とを経て電気接続端子7を接続する。 - 特許庁
To provide a semiconductor wafer transfer apparatus where a semiconductor wafer can be sucked and fixed on a suction table side in a flat state when conveying the wafer among each process such as an alignment for positioning the wafer, a UV irradiation, a protective tape peel-off or the like, in a process for manufacturing the wafer.例文帳に追加
ウェハの製造工程において、ウェハ位置決めを行うアライメント、UV照射、保護テープ剥離などの各工程の間をウェハを搬送する際に、半導体ウェハを吸着テーブル側に平坦な状態で吸着固定することのできる半導体ウェハの移載装置を提供する。 - 特許庁
For instance, when the equalization control signal and the equalization detection signal match each other (when they are 0 or 1 together) the equalization process is judged to be normal and when both do not match (when one of them is 0 and the other is 1) the equalization process is judged to be abnormal.例文帳に追加
例えば、均等化制御信号と均等化検出信号が一致した場合(共に「0」または共に「1」の場合)には、均等化処理は正常であると判断し、両者が不一致の場合(一方「0」、他方が「1」の場合)には、均等化処理は異常であると判断する。 - 特許庁
Brightness data of each pixel of a point defect or a strain defect having a smaller area than an irregular defect in the image data acquired in the inspection image acquisition process is replaced with an interpolation value based on brightness data of a peripheral pixel, to thereby repair the non-evaluation object defect species (point/strain defect repair process ST200).例文帳に追加
検査画像取得工程にて取得された画像データ中でムラ欠陥よりも面積が小さい点欠陥、シミ欠陥の各画素の輝度データを周囲の画素の輝度データに基づく補間値で置き換えてこの非評価対象欠陥種を修補する(点・シミ欠陥修補工程ST200)。 - 特許庁
To provide a method for effectively collecting and keeping process data on long articles, while utilizing data on the pitch of a set length and the pitch of a set cycle, letting the process data of the long articles, especially a long article having conspicuous variations in length from lot to lot be representative data on each of articles and processes.例文帳に追加
長尺製品、特にロット間で長さに著しいバラツキがある長尺製品のプロセスデータを各製品、プロセスの代表データとなるように、また定長ピッチや定周期ピッチのデータを利用しながら効率的に長尺製品のプロセスデータを収集・保管する方法を提案する。 - 特許庁
From product design information designed by a three-dimensional CAD system 2 and assembly and disassembly information inputted by an assembly and disassembly information input part 8, assembly and disassembly process division is automatically produced such that an assembly and disassembly cost of each process calculated by a robot simulator 11 is evened.例文帳に追加
3次元CADシステム2で設計された製品設計情報と、組立・分解情報入力部8により入力された組立・分解情報から、ロボットシミュレータ11により計算される各工程の組立・分解コストを平準化するように組立・分解工程分割を自動生成する。 - 特許庁
Many pieces of trinket parts which are pierced by a core bar, a thread or other striated things compose an accessory, and the trinket parts are made through a process in which spherical beads are formed in order around a long pipe and another process in which each spherical beads made around a pipe is crushed into a desired shape.例文帳に追加
心金若しくは糸等の線条物に多数個引き通して装飾体を構成するための小物部品であって、該小物部品は長尺のパイプに対し順次丸玉に玉打ちする工程と、玉打ちにより形成された各丸玉を目的の形状に潰す工程とからなる。 - 特許庁
At the start of a conference, a conference ID determining process part 53 determines the conference ID of the conference and a folder creating process part 54 registers the conference ID of the conference and information about the location of the conference-related materials in a storage location information table 62 in association with each other.例文帳に追加
会議開始時に、会議ID決定処理部53は当該会議の会議IDを決定し、フォルダ生成処理部54は当該会議の会議IDと当該会議に関連する会議資料の格納先情報とを対応付けして格納先情報テーブル62に登録する。 - 特許庁
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