「First Step」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

The synchronization identifier generating method includes a step for setting a sampling level to the digital content, a step for sampling the digital contents by the aforementioned set sampling level, a step for generating a first message digest from the sampled data, and a step for generating the synchronization identifier including the set sampling level and the generated first message digest.例文帳に追加

同期化識別子の生成方法は、デジタルコンテンツに対するサンプリングレベルを設定するステップと、前記設定されたサンプリングレベルにより前記デジタルコンテンツをサンプリングするステップと、前記サンプリングされたデータから第１メッセージダイジェストを生成するステップおよび前記設定されたサンプリングレベルおよび前記生成された第１メッセージダイジェストを含む同期化識別子を生成するステップとを含む。 - 特許庁

A step for forming a first insulating film on the semiconductor substrate in the nonvolatile memory transistor region, a step for forming a second insulating film on the first insulating film, a step for forming a third insulating film on the second insulating film, and a step for forming a fourth insulating film on the substrate in the MOS field effect transistor region, are processed simultaneously.例文帳に追加

不揮発性メモリトランジスタ領域の半導体基板上に第１の絶縁膜を形成する工程と第１の絶縁膜上に第２の絶縁膜を形成する工程と第２の絶縁膜上に第３の絶縁膜を形成する工程とＭＯＳ電界効果トランジスタ領域の半導体基板上に第４の絶縁膜を形成する工程とを同時に行う。 - 特許庁

The method for forming a solder bump structure includes a step for developing a photoresist by primary exposure and forming at least one or more first openings, a step for forming a metal layer at the first opening, a step for developing a photoresist by secondary exposure and forming at least one or more second openings, and a step for forming a solder layer at the second opening.例文帳に追加

半田バンプ構造の形成方法において、フォトレジストを１次露光し現像して少なくとも一つ以上の第１開口部を形成する段階と、第１開口部に金属層を形成する段階と、フォトレジストを２次露光し現像して少なくとも一つ以上の第２開口部を形成する段階と、第２開口部のうちに半田層を形成する段階とを有する。 - 特許庁

The method for forming the memory cell array comprises the step of forming a first floating gate region 42 between isolation regions 45 in a semiconductor substrate, the step of selectively forming a second floating gate region 48 only on the first floating gate region 42, the step of forming a dielectric layer 51 on at least the second floating gate region 48, and the step of forming a control gate layer 52 on the dielectric layer 51.例文帳に追加

アレイの形成方法は、半導体基板内のアイソレーション領域45間に、第1浮遊ゲート領域42を形成するステップと、第1浮遊ゲート領域42上のみに、第2浮遊ゲート領域48を選択的に形成するステップと、少なくとも第2浮遊ゲート領域48上に誘電層51を形成するステップと、誘電層51上に制御ゲート層52を形成するステップとを含む。 - 特許庁

The bearing housing 10 is contiguous concentrically on the upper side of a second circumferential step surface B fitted in the fixing hole 21, and has a first circumferential step surface A fitted in the insertion hole 31 wherein the plate thickness t_1 in a free state of the paper printed wiring board 30 is thicker than the step height h_1 of the first circumferential step surface A in the axial direction.例文帳に追加

軸受ハウジング１０は、取付孔２１が嵌る第２の周回段差面Ｂの上側で同心的に隣接して当該第２の周回段差面Ｂよりも大径であり、挿入孔３１が嵌る第１の周回段差面Ａを有し、紙製印刷配線基板３０のうち自由状態の板厚ｔ_１は第１の周回段差面Ａの軸方向の段差高さｈ_１より厚い。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises an ion implantation step for implanting ions into a first epitaxial growth layer 2 as a base layer at 300°C or higher, an anneal step for annealing following to the ion implantation step and a growth step for forming a second epitaxial growth layer 4 by epitaxial growth on the first epitaxial growth layer 2 as the base layer.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、基層としての第１のエピタキシャル成長層２に対して３００℃以上でイオンを注入するイオン注入工程を含み、上記イオン注入工程より後にアニールを行なうアニール工程と、基層としての第１のエピタキシャル成長層２の上にエピタキシャル成長を行ない、第２のエピタキシャル成長層４を形成する成長工程とを含む。 - 特許庁

Thereafter, from the first positions of the detected frame, compressed data is transferred to a FIFO memory within a signal processing part (step S6), a decoder within the signal processing part is started (step S7), and reproduction is started to perform extension and reproduction of the compressed data (step S8).例文帳に追加

その後、検出したフレーム先頭位置から、圧縮データを信号処理部内のＦＩＦＯメモリへ転送し(ステップＳ６）、信号処理部内のデコード装置を起動し(ステップＳ７）、再生を再開して圧縮データの伸張、再生を行う（ステップＳ８）。 - 特許庁

When a function menu is selected (step S2; YES) in a first screen displayed on a display screen of a display section (step S1), it is determined whether the input means for selection is a touch panel or a mouse (step S3).例文帳に追加

表示部の表示画面上に表示された第一の画面において（ステップＳ１）、機能メニューの選択が行われた場合には（ステップＳ２；ＹＥＳ）、選択が行われた入力手段がタッチパネルであるか、マウスであるかが判断される（ステップＳ３）。 - 特許庁

This method for preparing a mixture of powder and a binder comprises the first step to stir/mix powder and a part of the binder, the second step to compact the mixture and the third step to add the remaining binder to the obtained compact and stir/mix them.例文帳に追加

粉末及びバインダーの混合物の製造において、粉末及びバインダーの一部を攪拌混合する第１の工程と、この混合物を加圧する第２の工程と、この加圧物にバインダーの一部を添加し、攪拌混合する第３の工程とを行う。 - 特許庁

When obtaining the reclaimed ceramic slurry from unburned ceramic wastes containing no metal, the unburned ceramic wastes are first dissolved in solvent (dissolution step), and then after the dissolution step, the components of the waste solution are adjusted (component adjusting step).例文帳に追加

金属材料を含まない未焼成セラミック廃材から再生セラミックスラリーを得るときには、まず、溶剤により未焼成セラミック廃材の溶解（溶解工程）を行い、溶解工程後は、次に、廃材溶液の成分調整（成分調整工程）を行う。 - 特許庁

Adjacent buried-back films 42 and 43 after the patterning of the magnetic multilayer film 14 is deposited by a series of manufacturing processes comprising a deposition step of a first stage, a step for etching back the deposited film and a deposition step of a second stage.例文帳に追加

磁性多層膜１４のパターン加工後の隣接する埋め戻し膜４２，４３の堆積を，第１段階の堆積工程と，続けて堆積した膜をエッチバックする工程と，第２段階の堆積工程からなる一連の製造プロセスによって形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing vulcanized rubbers includes: a first step for kneading an S-(3-aminopropyl)thiosulfuric acid and/or its metal salt, a rubber component, a filler, and a sulfur constituent together; and a second step for performing heat treatment on the kneaded product obtained by the previous step.例文帳に追加

Ｓ−（３−アミノプロピル）チオ硫酸および／またはその金属塩とゴム成分と充填剤と硫黄成分とを混練する第１工程と、前工程により得られた混練物を熱処理する第２工程とを有する加硫ゴムの製造方法。 - 特許庁

A control device selectively switches the circulation state of a refrigerant in the heat pump cycle between a first refrigerant circulation mode (Step 150) and a second refrigerant circulation mode (Step 160) based on a boiling temperature in a heat exchanger for hot water supply (Step 140).例文帳に追加

制御装置は、給湯用熱交換器における沸き上げ温度に基づいて（ステップ１４０）、ヒートポンプサイクル内の冷媒の循環状態を第１冷媒循環モード（ステップ１５０）と第２冷媒循環モード（ステップ１６０）とで選択的に切り替える。 - 特許庁

Moreover, the sense amplifier is provided with an inverter which is cross coupled and responds to the first sensing step and includes the second sensing step which is activated by a sense enable signal after selected delay and an output driver which responds to the second sensing step.例文帳に追加

センス増幅器はさらに、第１のセンシング段に応答する交差結合されたインバータを備え、選択された遅延の後のセンス・イネーブル信号によって活動化される第２のセンシング段と、第２のセンシング段に応答する出力ドライバとを含む。 - 特許庁

When judging in the step 108 that the return control of the first processing device 11 is permitted and in the step 105 that the present status is not lunchtime, the processing goes to the step 106 to restart power supply.例文帳に追加

その後、ステップ１０８において第１の加工装置１１が復帰制御が許可されていると判断され、更にステップ１０５において現在が昼休み中でないと判断されれば、ステップ１０６へ処理が進んで電源の供給が再開される。 - 特許庁

A wait time is inserted (S745) after completing the first step of the N smaller steps S720, and then a moving step S740 and an inserting step are repeated until the remainder of the N smaller move steps have been completed.例文帳に追加

Ｎ個のより小さいステップＳ７２０のうちの第１ステップ完了後に待ち時間が挿入されて（Ｓ７４５）、次いで、Ｎ個のより小さい移動ステップＳ７２０の残りが完了するまで、移動させるステップＳ７４０と挿入するステップとが繰り返される。 - 特許庁

This damper controller 50 determines whether an automobile V runs on a road being not kept in good condition or not at step S22 and selects a first low-pass filter 62 (an output signal Itgt1) if it is Yes in the determination at the step S22 at step S23 to return to the start of operation.例文帳に追加

ダンパ制御装置５０は、ステップＳ２２で自動車Ｖが不整路を走行中であるか否かを判定し、この判定がＹｅｓであった場合、ステップＳ２３で第１ローパスフィルタ６２（出力信号Ｉｔｇｔ１）を選択してスタートに戻る。 - 特許庁

When the automatic braking is operated this time for the first time in a Step S6 since there is the possibility that one's own car contacts with an object in a Step S3, target brake pressure PB of the automatic braking is set to an initial value P0 in a Step S7, and the automatic braking is started.例文帳に追加

ステップＳ３で自車が物体と接触する可能性が有り、ステップＳ６で今回初めて自動制動が作動するとき、ステップＳ７で自動制動の目標ブレーキ圧ＰＢを初期値Ｐ０に設定して自動制動を開始する。 - 特許庁

In the first step, a hole 105 is formed to the middle of the silicon oxide film 102, and in the second step, the hole 105 is further deepened until an SiN base film 101 starts to be exposed or immediately before the SiN base film 101 starts to be exposed, and in the third step, over-etching is conducted.例文帳に追加

第１ステップでは、シリコン酸化膜１０２の途中までホール１０５を形成し、第２ステップでは、下地のＳｉＮ膜１０１が露出し始めるか、露出し始める直前までホール１０５を形成し、第３ステップでは、オーバーエッチングを行う。 - 特許庁

The method for producing Dim Sum comprises a first step s1 for wrapping ingredients with dough to make a wrapped body, a second step s2 for pressurizing the wrapped body 5 by a template 4, and a third step s3 for cooking the molded wrapped body 5.例文帳に追加

具材を生地に包むことで包体を形成する第一ステップｓ１と、この包体５を型版４により加圧して成型する第二ステップｓ２と、成型された包体５を加熱調理する第三ステップｓ３と、を経て点心を製造する。 - 特許庁

The second refrigerant filling step is a step of filling the liquid refrigerant in the refrigerant filling object parts from after the first refrigerant filling step until refrigerant amount filled in the refrigerant filling object parts reaches a predetermined amount.例文帳に追加

第２冷媒充填ステップは、冷媒充填対象部分に対して、第１冷媒充填ステップの後から冷媒充填対象部分に充填された冷媒量が所定の量になるまで、液状態の冷媒を充填するステップである。 - 特許庁

In concrete terms, the peripheral temperature is judged in a step S4, the second combustion chamber high in the combustion characteristic is ignited in a collision under an ordinary temperature condition (step S5), and then the first combustion chamber low in the combustion characteristic is ignited (step S6).例文帳に追加

具体的には、ステップＳ４で環境温度を判断し、常温条件下での衝突時には燃焼特性の大きい第２燃焼室を先に点火し（ステップＳ５）、次に燃焼特性の小さい第１燃焼室を点火する（ステップＳ６）。 - 特許庁

A method for preparing the wide context acoustic model includes a step for training an HMM having three states, a step for training a Bayesian network corresponding to a first state and a third state, and a step for combining HMM and a Bayesian network.例文帳に追加

広域コンテキスト音響モデルを準備する方法であって、３状態を有するＨＭＭをトレーニングするステップと、第１及び第３の状態に対応するベイズネットワークをトレーニングするステップと、ＨＭＭとベイズネットワークとを組合せるステップとを含む。 - 特許庁

In the pre-feeding control, when paper setting fails (a step S51), temporary stopping time after first pre-feeding registered in a device in advance is referred (a step S52), and the 2-stage pre-feeding is carried out after setting the referred temporary stopping time (a step S53).例文帳に追加

当該プレフィード制御では、用紙セット失敗のとき（ステップＳ５１）、事前に装置に登録された１回目プレフィード後の一時停止時間を参照し（ステップＳ５２）、参照した一時停止時間を設定したうえで２段階プレフィードを行う（ステップＳ５３）。 - 特許庁

The first correction step includes a Δ shift step of generating a Δ shift pattern based on the rectangle approximation pattern; and upon generating the Δ shift pattern in the Δ shift step, a side portion of the rectangle approximation pattern is shifted by an amount corresponding to the process bias Δ.例文帳に追加

第１補正工程は、矩形近似パターンに基いてΔ移動パターンを生成するΔ移動工程を有し、Δ移動工程においてΔ移動パターンを生成するにあたり、矩形近似パターンの側部を、プロセスバイアスΔの量だけ移動させる。 - 特許庁

A drive force controller for vehicle detects motor lock of a motor 4 (step S1), and if a MOS temperature of an inverter 9 is equal to or more than a first temperature determination threshold T_MOSTH1 (step S2), the controller slides a clutch 12 (step S3).例文帳に追加

車両用駆動力制御装置は、モータ４のモータロックの発生を検出し（ステップＳ１）、かつインバータ９のＭＯＳ温度が第１温度判定用しきい値Ｔ_ＭＯＳＴＨ１以上の場合（ステップＳ２）、クラッチ１２を滑らせる（ステップＳ３）。 - 特許庁

Then, a renewal processing in an X axial direction is performed so that a provisional setting value of the X axial parameter condition 'current' is renewed by one step (a step C10) and a marking position of the X axial direction is renewed by one row (from the first row to the second row) (a step C11).例文帳に追加

次いで、Ｘ軸方向における更新処理を行い、Ｘ軸パラメータ条件「電流」の仮設定値を１ステップだけ更新し（ステップＣ10）、Ｘ軸方向のマーキング位置を１列分（第１列から第２列へ）だけ更新する（ステップＣ11）。 - 特許庁

The connection part 15 is formed of a step part 28 which is formed along the outer circumference on the side of the tip 10A of the nozzle 10, and it is composed of a first taper face 30 and a second taper face 31 which are formed in a step manner by using the step part 28 as a boundary.例文帳に追加

連結部１５は、ノズル１０の先端１０Ａ側における外周に沿って設けられた段部２８によって形成され、この段部２８を境界として段階的に形成された第１及び第２のテーパ面３０，３１からなっている。 - 特許庁

With this structure, an operator uses the front guard plate 39 for the first step, and the step plate 43 for the second step, and the operator can do the maintenance of an engine 9 housed in an engine housing part 37 of the frame in the stable posture.例文帳に追加

これにより、オペレータは、前ガード板３９を１段目のステップとし、踏板４３を２段目のステップとして、安定した姿勢をもってフレーム３３のエンジン収容部３７に収容されたエンジン９等の保守整備を行うことができる。 - 特許庁

The three steps are the step of keeping a mold half storing the golf ball sub-assembly to which the cover layer is applied at a first temperature, the step of heating the mold half to a second temperature, and the step of keeping the mold half to a third temperature.例文帳に追加

斯かる３段階は、前記カバー層を付与したゴルフボールサブアセンブリを収容したモールドハーフを第１の温度に維持する段階と、前記モールドハーフを第２温度まで加熱する段階と、前記モールドハーフを第３の温度に維持する段階とを含む。 - 特許庁

This memory control method includes a step of starting a duplication function in a processor 125, a step of transmitting vacant data instructions from a new memory(memory B) to a processor 125 and a step of duplicating the application data from a first old memory(memory A) to the new memory.例文帳に追加

本方法はプロセッサ１２５におけるデュプリケーション機能を起動するステップと、新メモリ（メモリＢ）からプロセッサ１２５へ空きデータ指示を送信するステップと、第１の旧メモリ（メモリＡ）から新メモリへ、アプリケーション・データを複製するステップと、を含む。 - 特許庁

While the first step-up notice performance and the second step-up notice performance can be simultaneously executed in the same period during variable display, the second step-up notice performance and the button notice performance cannot be simultaneously executed in the same period during the variable display.例文帳に追加

第１ステップアップ予告演出と第２ステップアップ予告演出とを可変表示中の同一期間に同時に実行可能であるが、第２ステップアップ予告演出とボタン予告演出とは可変表示中の同一期間に同時に実行可能でない。 - 特許庁

The correction step has the first sub-step for correcting the detected signal based on a correction value of the noise caused by the radiation detecting part, and the second sub-step for correcting the detected signal based on a correction value of the noise caused by the reading-out part.例文帳に追加

さらに、補正ステップは、放射線検出部に起因するノイズの補正値に基づいて検出信号を補正する第１サブステップと、読み出し部に起因するノイズの補正値に基づいて検出信号を補正する第２サブステップとを有する。 - 特許庁

When the accumulated value of the waste liquid accumulation in the waste liquid pad 71 does not exceed its threshold (Step S1: No), a carriage 61 is moved to "a first flushing area" (Step S2) and performs flushing into a cap CP (Step S3).例文帳に追加

廃液パッド７１の廃液蓄積量の積算値が廃液パッド７１の廃液蓄積量の閾値を超えていない場合には（ステップＳ１でＮｏ）、「第１フラッシング領域」へキャリッジ６１を移動させ（ステップＳ２）、キャップＣＰ内へフラッシングする（ステップＳ３）。 - 特許庁

A power saving method of the chip-on-glass liquid crystal display includes a step (a) of first waking up source drivers of the LCD, a step (b) of transmitting image data and control signals from a source driver corresponding to an FPC to the farthest source driver, and a step (c) of switching them to a power-saving mode.例文帳に追加

この方法は、まず、（ａ）ＬＣＤのソースドライバを起動し、（ｂ）ＦＰＣに対応するソースドライバから最も離れた位置に配設されているソースドライバへとイメージデータ及び制御信号を送信し、次に、（ｃ）それらを節電モードに切り替える。 - 特許庁

Further, prior to this, a temporary steering angle neutral point STOFF1 is calculated by correcting a steering angle average value ST-AVE calculated by step 116 by a correction amount larger than the first correction amount by step 124 by step 118.例文帳に追加

さらに、これに先だって、ステップ１１８によりステップ１１６にて算出された操舵角平均値ＳＴ＿ＡＶＥをステップ１２４による１回目の補正量より大きい補正量だけ補正することにより仮操舵角中立点ＳＴＯＦＦ１を算出する。 - 特許庁

The radiation irradiation method includes the step of irradiating a first part 102-1 of a subject 43 with first radiation 111-1 radiated in a radial pattern from a first point, and the step of irradiating a second part 102-2 of the subject 43 with second radiation 111-2 radiated in a radial pattern from a second point matched with the first point.例文帳に追加

第１点から放射状に放射される第１放射線１１１−１を被検体４３のうちの第１部分１０２−１に照射するステップと、その第１点に一致する第２点から放射状に放射される第２放射線１１１−２を被検体４３のうちの第２部分１０２−２に照射するステップとを備えている。 - 特許庁

The manufacturing method for the thin film solar cell includes: a first photoelectric conversion layer forming step of laminating a first semiconductor film 3 on a substrate 1; and a second photoelectric conversion layer forming step of laminating a second semiconductor film 4 on the first semiconductor film 3, and an area where the second semiconductor film 4 is laminated is smaller than that where the first semiconductor film 3 is laminated.例文帳に追加

基板１上に第１半導体膜３を積層する第１光電変換層形成工程と、第１半導体膜３上に第２半導体膜４を積層する第２光電変換層形成工程とを含み、第２半導体膜４を積層する面積が、第１半導体膜３を積層する面積よりも小さい。 - 特許庁

The method for producing the Fe-group nano-crystal alloy includes: a first heating step P1 of heating an alloy composition at a first temperature rising rate or a temperature rising rate that can be approximated by the first temperature rising rate; and a second heating step P2 of heating the alloy composition at a second temperature rising rate of 30°C per minute or longer that is larger than the first temperature rising rate.例文帳に追加

Ｆｅ基ナノ結晶合金の製造方法は、第１昇温速度又は第１昇温速度で近似できる昇温速度にて合金組成物を加熱する第１加熱段階Ｐ１と、第１昇温速度よりも速い毎分３０℃以上の第２昇温速度で合金組成物を加熱する第２加熱段階Ｐ２とを含む。 - 特許庁

The method comprises a magnet support step of supporting a magnet 11 inserted into a mold 30 by first, second and third pins 40, 41, 42, and a support member removal step of removing the first, second, third pins 40, 41, 42 from a first chamber 34 of the mold 30 by first, second, third actuators 46, 47, 48.例文帳に追加

金型３０内にインサートしたマグネット１１を、第１・第２・第３ピン４０，４１，４２によって支持するマグネット支持工程と、金型３０内への樹脂の充填中に第１・第２・第３ピン４０，４１，４２を、第１・第２・第３アクチュエータ４６，４７，４８によって金型３０の第１チャンバ３４から抜き出す支持部材除去工程と、を備える。 - 特許庁

The method for replenishing the developer has a developing step of performing 1.5 component development by using the developer containing magnetic toner, a first carrier of a first grain size and a second carrier of a grain size smaller than the grain size of the first carrier; and a replenishing step of replenishing the first carrier and the second carrier together with the replenishing of the toner.例文帳に追加

本発明の現像剤補給方法は、磁性トナーと、第１の粒径の第１のキャリアと、前記第１のキャリアよりも小さい粒径の第２のキャリアとを含む現像剤にて１．５成分現像を行う現像ステップと、前記トナーの補給とともに、前記第１のキャリアおよび第２のキャリアを補給する補給ステップとを有する。 - 特許庁

A first CPU 11 checks a first reception bit and performs a data write processing to a first data buffer in the case that it is writable in a step S1, inverts a first transmission bit in a step S2, and performs the data write processing similarly to a second data buffer and inverts a second transmission bit in steps S3 and S4.例文帳に追加

第１CPU１１は、ステップＳ１において第１受信ビットをチェックし、書き込み可能な場合第１データバッファに対してデータ書き込み処理を行い、ステップＳ２において第１送信ビットを反転させ、ステップＳ３およびＳ４において第２データバッファに対して同様にデータ書き込み処理を行い、第２送信ビットを反転させる。 - 特許庁

In a first input processing step of input processing from the outside to the image processing apparatus 1, a signal input unit 21 inputs a first part of a first luminance signal input from the outside that a prefilter 22 should process in the first input processing step to the prefilter 22, and stores the remaining second part in a storage unit 24.例文帳に追加

外部から画像処理装置１への第１の入力処理ステップにおいて、信号入力部２１は、外部から入力された第１の輝度信号のうち、第１の入力処理ステップにおいてプレフィルタ２２によって処理すべき第１部分をプレフィルタ２２に入力するとともに、残りの第２部分を記憶部２４に記憶する。 - 特許庁

The method of manufacturing the laminated substrate includes a step of forming a first buffer film having a surface of 0.1 to 10,000 nm in surface roughness R_rms on at least one of a group III nitride semiconductor substrate and a first support substrate and a step of laminating the group III nitride semiconductor substrate on the first support substrate with the first buffer film interposed.例文帳に追加

この貼り合わせ基板の製造方法は、III族窒化物半導体基板及び第１支持基板のうち少なくとも一方上に、表面粗さＲ_ｒｍｓが０．１〜１００００ｎｍの表面を有する第１緩衝膜を形成する工程と、第１緩衝膜を介して、第１支持基板にIII族窒化物半導体基板を貼り合わせる工程とを含む。 - 特許庁

The method for controlling the recognition between devices includes a step which receives a second device recognition signal from a wireless signal module of a second device through a first wireless signal module of a first device and a step which recognize the second device positioned in a first direction from the first device through the received second device recognition signal.例文帳に追加

デバイス間の認識制御方法は、第２デバイスの無線信号モジュールから第１デバイスの第１無線信号モジュールを経由して第２デバイス認識信号を受信する段階と、前記受信された第２デバイス認識信号を介して、前記第１デバイスから第１方向に位置した前記第２デバイスを認識する段階とを含む。 - 特許庁