「High Step」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

In order to reduce high frequency components generated by Fourier transform, from a step difference of a boundary part of periodically arranged magnetic field data, data wherein the step difference becomes gentle are interpolated and added to the periphery of the magnetic field data as shown in figure 6, in a step before the Fourier transform is executed to the magnetic field data.例文帳に追加

周期的に配置される磁場データの境界部分の段差から、フーリエ変換によって生じる高い周波数成分を減少させるために、磁場データに対してフーリエ変換を実行する前の段階で、図６に示すような磁場データの周囲に、段差が緩やかになるようなデータを補間して追加することにした。 - 特許庁

The yoke assembly is assembled through a step for bonding the magnet to the inner surface of the yoke through an adhesive, a step for coating the surface of the yoke bonded with the magnet with powder paint, and a step for heating the yoke coated with paint powder by means of a high frequency induction heating coil.例文帳に追加

ヨーク組立体は、ヨークの内面に接着剤によりマグネットを接着するマグネット接着工程と、マグネットが接着されたヨークの表面に粉体塗料を塗布する粉体塗料塗布工程と、粉体塗料が塗布されたヨークを高周波誘導加熱コイルにより加熱する加熱工程とを経て製造される。 - 特許庁

A sub injection frequency determination means calculates the thinning frequency eqfinan of sub injection in step 108 based on the reduction agent supply amount eqfina calculated with a supply amount calculating means in step 102 and the injection amount eqfinac calculated with the high accuracy injection amount calculating means in step 103.例文帳に追加

また、ステップ１０２において供給量算出手段により算出された還元剤供給量eqfinaと、ステップ１０３において高精度噴射量算出手段により算出された噴射量eqfinacに基づいて、副噴射頻度決定手段が副噴射の間引き回数eqfinanを算出する（ステップ１０８）。 - 特許庁

The method comprises a data formation step of forming virtual genotypic data in the linkage analysis using SNP; and a candidate SNP step of performing the simulation of a patient control study using the virtual genotypic data formed in the data formation step to take SNP which is high in frequency in becoming significant as a candidate SNP.例文帳に追加

ＳＮＰを用いた連鎖解析において、仮想遺伝子型データを作成するデータ作成ステップと、このデータ作成ステップで作成した仮想遺伝子型データを用いて、患者対照研究のシミュレーションを行い、有意になる頻度が高いＳＮＰを候補ＳＮＰとする候補ＳＮＰステップとを備えた。 - 特許庁

The method includes: a first step which installs a substrate 1 with a CNT 7 in a predetermined sealed space 11; a second step which sets the pressure of the space 11 at least 105 and at most 200 kPa; and a third step which injects high temperature water of at least 110 and at most 120°C into the substrate 1 of the space 11.例文帳に追加

所定密閉空間１１内にＣＮＴ７付きの基板１を設置する第１ステップと、上記空間１１内の圧力を１０５ｋＰａ以上、２００ｋＰａ以下に設定する第２ステップと、上記空間１１内の基板１に対して温度１１０℃以上、１２０℃以下の高温水を噴射する第３ステップと、を含む。 - 特許庁

This method for manufacturing the capacitor of the semiconductor element includes a step for depositing a rubidium film for a lower part electrode onto a semiconductor substrate, a step for forming a TaON film having a high dielectric constant on the rubidium film, and a step for forming an upper part electrode on the TaON film.例文帳に追加

半導体基板上に下部電極用ルビジウム膜を蒸着するステップ、前記ルビジウム膜上に高誘電率を有するＴａＯＮ膜を形成するステップ及び前記ＴａＯＮ膜上に上部電極を形成するステップを含んでなることを特徴とする半導体素子のキャパシタ製造方法。 - 特許庁

A method for forming corrosion resistant coating comprises: a first step of performing Pt plating 2 treatment on a base material 1 of a Ni-based or Co-based superalloy high-temperature equipment component; a second step of performing coating 3 of one or two or more kinds of Hf, Zr and Si by PVD; and a third step of performing diffusion coating 4 of Al thereon.例文帳に追加

Ｎｉ基またはＣｏ基の超合金製の高温機器部品の基材１にＰｔメッキ２処理を行なう第１工程と、その上にＨｆ、ＺｒおよびＳｉの内の１または２以上をＰＶＤによりコーティング３する第２工程と、その上にＡｌの拡散コーティング４する第３工程とからなる。 - 特許庁

The manufacturing method of this composite product comprises a step that the porous metallic inserts 15 are arranged to predetermined positions in a high-pressure casting mold, and after that, a step that an alloy having a lower melting point than that of the inserts is introduced into the mold and then a step that the general casting process is executed, thereby the composite product is manufactured.例文帳に追加

複合製品の製造方法は、多孔質金属インサート１５を高圧鋳造金型内の所定の位置に配置する段階と、その後、インサートの融点より低い融点を有する合金を導入する段階と、しかる後、一般的な鋳造プロセスを実行する段階と、を含み、これにより複合製品が製造される。 - 特許庁

As a method for translation into a computer language, function embedding (Step 122 to Step 130) providing a large amount of generated machine language but a high execution speed or function calling (Step 110) providing a small amount of generated machine language but a low execution speed can be selectively specified for each individual function.例文帳に追加

計算機言語への変換方法として、生成される機械語の量が多くなるが実行速度の速い関数組み込み処理（ステップ１２２〜ステップ１３０）と、生成される機械語の量は少ないが実行速度の遅い関数呼び出し処理（ステップ１１０）とを、個々の関数に対して選択指定可能にする。 - 特許庁

The method for producing the diphenylamine includes a step for synthesizing the diphenylamine by the dimerization of aniline, a step for removing low-boiling point impurities from the unreacted aniline and the diphenylamine, and a step for removing acridine of a high-boiling point impurity from the diphenylamine by rectification so as to become ≤150 ppm.例文帳に追加

アニリンの二量化によりジフェニルアミンを合成する工程と、未反応のアニリンおよびジフェニルアミンから低沸点の不純物を除去する工程と、精留によりジフェニルアミンから高沸点の不純物であるアクリジンを１５０ｐｐｍ以下となるように除去する工程とを含む、ジフェニルアミンの製造方法。 - 特許庁

The control device drives only the electric servomotor 104 for the first injection in a low speed injection step, independently, and simultaneously drives both the electric servomotor 104 for the first injection and the electric servomotors 111, 112 for the second injection in a high speed injection step and a boosting step.例文帳に追加

制御装置は、低速射出工程においては第１段の射出用電動サーボモータ１０４のみを単独で駆動し、高速射出工程及び増圧工程においては第１段の射出用電動サーボモータ１０４及び第２段の射出用電動サーボモータ１１１，１１２の双方を同時に駆動する。 - 特許庁

Subsequently, a plurality of cell strains are subjected to sequencing according to the height of sensitivity (step S12), the sequenced cell strains are classified into high sensitivity strain group and low sensitivity strain group (step S13), and marker ID significantly different in DNA copy number between both groups is calculated by t-test (step S14).例文帳に追加

次に、複数の細胞株を薬剤への感受性の高さに応じて順位付けし（ステップＳ１２）、順位付けされた細胞株を高感受性株群と低感受性株群とに分類して（ステップＳ１３）、両群間でＤＮＡコピー数が有意に異なるマーカＩＤをｔ−検定により算出する（ステップＳ１４）。 - 特許庁

To read on image with high quality by driving an image sensor and a step motor synchronously with each other, even of a frequency of a clock which is a reference of managing a drive period of the image sensor and a frequency of a clock being a reference of managing a step period of the step motor differ from each other.例文帳に追加

イメージセンサの駆動周期Ｔｓを管理する基準となるクロックと、ステップモータのステップ周期を管理する基準となるクロックとの周波数が互いに異なっていたとしても、イメージセンサとステップモータとを同期して駆動することができ、これにより高品質な読み取りを行うことを可能とする。 - 特許庁

A rotor 1 is divided into a turbine step high pressure part HPS, a turbine step intermediate pressure part IPS and a turbine step low pressure part LPS, materials of the rotor 1 of each of the pressure parts HPS, IPS, LPS are made different from each other, connected to each other by using a welding means and thereafter, heat-treated concerning the steam turbine rotor.例文帳に追加

本発明に係る蒸気タービンロータおよびその製造方法は、ロータ１をタービン段落高圧部ＨＰＳ、タービン段落中圧部ＩＰＳ、タービン段落低圧部ＬＰＳに区分けし、各圧力部ＨＰＳ，ＩＰＳ，ＬＰＳのロータ１の材質を異ならしめるとともに、溶接手段を用いて接続させた後、熱処理をする。 - 特許庁

To provide a power supply and a power supply control circuit for stepping up an input voltage by a step-up means and rectifying the step-up voltage by a rectification means before being supplied to a load in which the voltage can be prevented from becoming high due to the step-up voltage at the time of interruption.例文帳に追加

入力電圧を昇圧手段により昇圧し、昇圧された昇圧電圧を整流手段により整流して、負荷に供給する電源装置及び電源制御回路に関し、遮断時の昇圧電圧による高電圧化を防止できる電源装置及び電源制御装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the process for producing a film having a high surface hardness, including the steps of forming a layer containing a filler through a step of melting and kneading the filler and a resin and an extrusion step, the resin is used for the melting and kneading step after grinding.例文帳に追加

充填材と樹脂とを熔融混練する工程と、押出し成型の工程とを含む工程で充填材含有層を形成する工程を含む高表面硬度フイルムの製造方法において、該樹脂を粉砕してから前記熔融混練の工程にて使用することを特徴とする高表面硬度フイルムの製造方法。 - 特許庁

Each node voltage obtained by operation analysis of a circuit set with the operation model inherent in the element (step 202), and each node voltage obtained by operation analysis of a circuit set with the abnormality-detecting operation model (step S207) are compared (step S208), and the node wherein a difference thereof is a threshold value or above is decided as the node generating the high impedance.例文帳に追加

素子本来の動作モデルを設定した回路の動作解析により得た各ノード電圧（ステップＳ２０２）と異常検出用の動作モデルを設定した回路の動作解析により得た各ノード電圧（ステップＳ２０７）を比較し（ステップＳ２０８）、その差が閾値以上のノードを、ハイインピーダンスが発生するノードと判断する。 - 特許庁

In a consumption level signaling means provided in a bathroom remote control, when energy consumption monitor data En_dat is received from a hot water supply device in STEP 1, it is judged whether a level of gas consumption Ga_c comprehended from the energy consumption monitor data En_dat is a high level LE2 or more, or a middle level LE1 or more in STEP 22, STEP 23.例文帳に追加

浴室リモコンに備えられた消費レベル報知手段は、ＳＴＥＰ１で給湯装置からエネルギー消費監視データＥn_datを受信したときに、ＳＴＥＰ２２，ＳＴＥＰ２３で該エネルギー消費監視データＥn_datから把握したガス消費量Ｇa_cのレベルが、大レベルＬＥ２以上であるか、中レベルＬＥ１以上であるかを判断する。 - 特許庁

Every time a key-on is performed, gate time data GT are reduced by one (steps 65 and 66), step count data SC are increased by one at a high speed (steps 61, 62 and 63), the note data GT that become '0' are muffled (a step 67) and note data of agreed step time data ST are sounded (steps 71 and 72).例文帳に追加

キーオンがあるごとに、ゲートタイムデータＧＴがデクリメントされるとともにステップ６５、６６、ステップカウントデータＳＣが高速でインクリメントされステップ６１、６２、６３、“０”になったゲートタイムデータＧＴのノートデータが消音されステップ６７、一致したステップタイムデータＳＴのノートデータが発音されるステップ７１、７２。 - 特許庁

A method of forming the insulation film buried structure comprises a step for forming a nitride film in the recess formed in a semiconductor substrate, a step for forming an electrification preventing insulation film on the nitride film by a thermal CVD method, a step for forming a buried insulation film on the electrification preventing insulation film so as to fill the recess by a high density plasma CVD method.例文帳に追加

半導体基板に形成された凹部内に窒化膜を形成する工程と、この窒化膜上に熱ＣＶＤ法により帯電防止絶縁膜を形成する工程と、高密度プラズマＣＶＤ法によりこの帯電防止絶縁膜上に前記凹部を埋め込むように埋込絶縁膜を形成する工程を実施する。 - 特許庁

By performing a step for applying shot blasting to the surface of a slab between a primary scale removing step and a rough rolling step in the high Cr base ferritic stainless steel containing Cr of ≥16 mass%, secondary scale having iron oxide layer of ≥1 μm thick is generated on the surface of a stainless steel strip after rough rolling.例文帳に追加

Ｃｒを１６質量％以上含む高Ｃｒ系フェライトステンレス鋼では、１次スケール除去工程と粗圧延工程との間に、前記スラブの表面にショットブラスト処理を施す工程を行うことで、粗圧延後のステンレス鋼帯の表面に、１μｍ以上の厚さの鉄酸化物層を有する２次スケールを生成する。 - 特許庁

After a semiconductor layer is formed on a substrate (step S1), a first insulating film and a first gate electrode are formed in regions for forming low voltage P type and N type TFTs (step S2) and then a second insulating film and a second gate electrode are formed in regions for forming high voltage P type and N type TFTs (step S3).例文帳に追加

基板上に半導体層を形成した後（ステップＳ１）、低電圧用Ｐ型，Ｎ型ＴＦＴを形成する領域に第１の絶縁膜および第１のゲート電極を形成し（ステップＳ２）、高電圧用Ｐ型，Ｎ型ＴＦＴを形成する領域に第２の絶縁膜および第２のゲート電極を形成する（ステップＳ３）。 - 特許庁

The step-up circuit 15 with direct current from a direct voltage source part 12 supplied as boosting primary current starts its step-up action at timing when a predetermined period is passed through after ignition, and charge is stored in an ignition capacitor 24 during a period when outputting pulse-like high voltage by step-up action.例文帳に追加

直流電源部１２からの直流電流が昇圧用一次電流として供給される昇圧回路１５は、点火後所定期間が経過したタイミングで昇圧動作が開始され、この昇圧動作によりパルス状の高電圧が出力されている期間、点火用コンデンサ２４に電荷が蓄積される。 - 特許庁

This method for manufacturing a low-dielectric porous film comprises a step (A) of forming a dielectric film on a semiconductor substrate, a step (B) of putting the semiconductor substrate in an atmosphere of a high pressure inert gas and a step (C) of quickly releasing the pressure of the atmosphere to form hole-cavities in the surface of the dielectric film.例文帳に追加

半導体基材に誘電膜を形成する工程（Ａ）と、該半導体基材を高圧不活性ガスの雰囲気に入れる工程（Ｂ）と、該雰囲気の圧力を迅速に解除し、該誘電膜の表面に孔洞を形成させる工程（Ｃ）とを含む、低誘電性の多孔性誘電膜の製造方法である。 - 特許庁

The method for producing freeze-dried curry includes: a step of boiling up a mixture containing an edible oil and fat, vegetable paste, curry powder, ingredients and water to obtain a curry base; a step of freeze-drying the thus-obtained curry base; and a step of stirring the curry base with a high-speed cutting/stirring device.例文帳に追加

食用油脂、野菜ペースト、カレー粉、具材および水を含む混合物を炊き上げてカレーベースを得る工程、得られたカレーベースを凍結乾燥する工程を有する凍結乾燥カレーの製造方法であって、前記カレーベースを高速裁断撹拌機で撹拌する工程を有することを特徴とする凍結乾燥カレーの製造方法。 - 特許庁

In a barrier-layer forming step in the semiconductor device manufacturing method adopting damascene interconnect, it is controlled so that a nitrogen gas density in an atmosphere around a semiconductor substrate is relatively low at an early stage and at a final stage of the step and relatively high at an intermediate stage of the step.例文帳に追加

ダマシン配線が採用される半導体装置の製造方法における、バリア層形成工程において、半導体基板の周囲の雰囲気中の窒素ガスの濃度が、当該工程の初期および終期において相対的に低く、当該工程の中期において相対的に高くなるように制御する。 - 特許庁

When it is determined that the correlation between this time value on the basis of the photographing image and this time value determined by correction is high in both the left and right in a step S5 and a step S6, the correlation between the left and right travel division lines related to this value is determined by using a given travel division line interval in a step S8.例文帳に追加

ステップＳ５及びステップＳ６において、撮影画像に基づく今回値と、補正して求めた今回値との相関性が左右ともに高いと判断された場合には、更にステップＳ８において、所与の走行区分線間隔を用いて、今回値に係る左右の走行区分線間の相関性を判断する。 - 特許庁

To provide a lubricant oil composition exhibiting sufficiently long oxidation life even if being used for a step-up gear device or the like operated under a severe condition of high temperature and high bearing pressure, and achieving high-level sludge-resistance and extreme pressure resistance.例文帳に追加

高温且つ高面圧の過酷な環境下で運転される増速歯車装置などに使用した場合であっても、十分に長い酸化寿命を示し、高水準の耐スラッジ性及び極圧性を達成することが可能な潤滑油組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a lubricant oil composition exhibiting sufficiently long oxidation lifetime even when used for a step-up gear device or the like operated under severe conditions of high temperature and high bearing pressure, and achieving high-level sludge-resistance and extreme pressure resistance.例文帳に追加

高温且つ高面圧の過酷な環境下で運転される増速歯車装置などに使用した場合であっても、十分に長い酸化寿命を示し、高水準の耐スラッジ性及び極圧性を達成することが可能な潤滑油組成物を提供すること。 - 特許庁

On the surface of the silicon substrate 11 corresponding to the shallow high-concentration diffusion layer 19 and the deep high-concentration diffusion layer 22, two-step structure silicide films 23 are formed having different thicknesses corresponding to depths of the high-concentration diffusion layers 19 and 22.例文帳に追加

そして、浅い高濃度拡散層１９および深い高濃度拡散層２２に対応するシリコン基板１１の表面部には、それぞれの高濃度拡散層１９，２２の深さに応じて厚さの異なる二段構造のシリサイド膜２３が形成されている。 - 特許庁

The top wall 67 of the intake silencer 60 is a step-like wall having a high wall portion 67a and a low wall portion 67b superposed on the high wall portion 53a in the plan view and also positioned downward of the lower high wall portion 67a, and an intake air inlet 61i is formed in the low wall portion 67b.例文帳に追加

吸気消音器60の頂壁67は、高壁部67ａと、平面視で高壁部53ａと重なると共に前記下側高壁部67ａよりも下方に位置する低壁部67ｂとを有する段形状の壁であり、吸気入口61ｉは低壁部67ｂに配置される。 - 特許庁

To provide a power amplifier with low power consumption achieved by dividing a power step of the power amplifier into one or more steps, and using a non-linear amplifier at low output for high efficiency and using a high-linear amplifier at high output for linearity.例文帳に追加

電力増幅器の電力段を１つ以上に分けて、低い出力では、高い効率のために非線形増幅器を使用し、高い出力では、線形性のために高線形増幅器を使用することによって、低消費電力の電力増幅器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for uniformly producing in high speed a low- molecular-oriented fiber drawn at a high ratio while suppressing its molecular weight drop as an intermediate step in particular for affording an ultrafine and/or high-tenacity fiber and a method for producing the fiber.例文帳に追加

極細及び／又は高強度の繊維並びにその製造方法を提供すべく、特にその中間工程である高倍率に延伸された低分子配向繊維を、分子量低下を抑制しつつ均一かつ高速に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an inexpensive high speed motor drive of simple configuration which operates a permanent magnet high speed motor coupled directly with a load machine with high efficiency by generating a high frequency power supply of perfect sinusoidal waveform using a rotary frequency converter, and can operate stably without causing step-out even when the load changes suddenly.例文帳に追加

完全正弦波形の高周波電源を回転形周波数変換装置により発生させ、負荷機械と直結した永久磁石型高速電動機を高効率運転するとともに、負荷急変時でも脱調することなく安定した運転が可能な安価で簡単な構成の高速電動機駆動装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity photosensitive siloxane composition which suppresses pattern drooping in heat curing, has such properties as high resolution, high heat resistance and high transparency after a heat curing step, and is used for forming a planarizing film for a TFT substrate, an interlayer insulation film or a core or clad material of an optical waveguide.例文帳に追加

熱硬化中に発生するパターンだれを抑制し、熱硬化工程後において高解像度、高耐熱性、高透明性の特性を有する、ＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材の形成に用いられる高感度の感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁

After a gate oxide film 10 has been formed on a silicon substrate G, a first step of forming a microcrystalline silicon film by high electron density plasma of an electron temperature of 2.0 eV or less and a second step of forming an ultra-microcrystalline silicon film by high electron density plasma of an electron temperature higher than 2.0 eV are repeated.例文帳に追加

シリコン基板Ｇ上にゲート酸化膜１０を形成後、２．０ｅＶの電子温度以下の高電子密度プラズマにより微結晶シリコン膜を形成する第１の工程と、２．０ｅＶの電子温度より高い電子温度の高電子密度プラズマを用いて超微結晶シリコン膜を形成する第２の工程と、を繰り返し成膜する。 - 特許庁

The method for safely manufacturing the theanine of high purity in the high yield comprises a step of synthesizing NPS-glutamic acid-γ-ethylamide, a useful intermediate of theanine, using a readily available 2-nitrophenylsulfenyl group (NPS) which can be deprotected under a condition such that an amino acid forms no salts, and a deprotection step using a thioamide compound.例文帳に追加

アミノ酸が塩を作らない条件下で脱保護、入手の容易な２−ニトロフェニルスルフェニル基（ＮＰＳ）を用い、テアニンの有用な中間体であるNPS−グルタミン酸−γ−エチルアミドを合成し、さらにチオアミド類を用いた脱保護工程を有する、テアニンを安全にかつ、高収率、高純度で製造する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a magnetic recording medium reducing a residue remaining on the surface of a substrate after a washing step by effectively removing a residue remaining on the surface of the substrate after a texture step and the magnetic recording medium of high quality can be manufactured with high yield.例文帳に追加

テクスチャー工程後の基板表面に残存する残留物を効果的に除去することにより、洗浄工程後に基板表面に残存する残留物の量を非常に少なくすることができ、高品質な磁気記録媒体を歩留まりよく製造できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for inspecting thickness decrease of a high-temperature pipe includes a probe disposition step for bringing an ultrasonic probe into contact with the surface of the pipe via a contact medium for high temperature, and an inspection step for moving the ultrasonic probe along the axial direction of the pipe with the probe kept in contact with the surface of the pipe.例文帳に追加

高温の配管における減肉を検査する方法であって、高温用接触媒質を介して超音波探触子を前記配管表面に接触させる探触子配置ステップと、前記超音波探触子を、前記配管表面に接触させたまま前記配管の軸方向に沿って移動させる検査ステップとからなる。 - 特許庁

To provide a layer forming material for forming a water absorption balancing layer relaxing water absorption difference between two polycarbonate substrates generated in a manufacturing step (a cooling step from high temperature to low temperature) of a strong multilayered optical disk SACD having structural asymmetry and to provide an optical disk having excellent warpage resistance and high reliability.例文帳に追加

構造的に非対称性の強い多層光ディスク：ＳＡＣＤの製造工程（高温から室温への冷却工程）で起きる２枚のポリカーボネート基板の吸水量差を緩和させる「吸水バランス層」を形成するための層形成材の提供、また、耐「反り」性に優れた高信頼性の光ディスクの提供。 - 特許庁

The method for decomposing flame-retardant resins which comprises a step of removing halogen atoms contained in the resins concerned by bringing the flame-retardant resins containing halogen-based flame retardants in contact with high-temperature and high-pressure water at a temperature of 230°C or higher under a pressure of saturated water vapor pressure or higher and a step of decomposing the resins into the components of light oil.例文帳に追加

ハロゲン化難燃剤を含有する難燃化樹脂を、２３０℃以上の温度及び飽和水蒸気圧以上の圧力の高温高圧水と接触させることにより、該樹脂中に含まれるハロゲン原子を脱離させるとともに、該樹脂を軽質油成分にまで分解することを特徴とする難燃化樹脂の処理方法。 - 特許庁

When the control section makes discrimination that the high-speed sound recording is not possible, the control section shifts to a reservation standby state for standing by the high-speed sound recording and displays a symbol, etc., indicating the sound recording under reservation (step S14).例文帳に追加

制御部は、高速録音が可能でないと判別した場合に、高速録音を待機する予約待機状態に移行し、録音予約中であることを示すシンボル等を表示部に表示する（ステップＳ１４）。 - 特許庁

The nitrogen-containing organic compound such as a sewage sludge and a garbage is oxidation-decomposed under a high temperature/high pressure condition of critical pressure or less and critical temperature or higher of water and nitrous oxide generated in this step is decomposed/treated.例文帳に追加

下水汚泥や生ゴミなどの含窒素有機化合物を、水の臨界圧力以下、臨界温度以上の高温高圧条件下にて酸化分解し、この工程で発生する亜酸化窒素を分解処理する。 - 特許庁

Side surfaces of the laminate and side surfaces of the n-type high concentration layer 12a each have a portion forming wall surfaces continuing to each other and reaching from the surface of the substrate 11 to the p-type high concentration layer 12e without causing a step difference.例文帳に追加

当該積層体の側面及びｎ型高濃度層１２ａの側面は、互いに連続して基板１１表面からｐ型高濃度層１２ｅまで段差なく到達する壁面を形成する部分を有する。 - 特許庁

To provide a method for forming structures regularly arranged on a substrate in a two-dimensional manner without using a high-precision/high-performance/expensive processing device and without requiring a fine and complicated processing step.例文帳に追加

高精度・高性能・高額な処理装置を使用する必要がなく、かつ精細で複雑な処理工程を必要としないで、基板上に規則的に二次元配置した構造体を形成する方法を提供する。 - 特許庁