「Manufacturing Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(396ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing a catalyst including at least platinum particles composed of platinum alloy or platinum, includes: at least a process of covering faces of the platinum particles with a copper layer and a process of replacing copper of the copper layers with gold by bringing platinum particles covered with the copper layers into contact with aqueous solution in which a salt containing AuBr_4^- or AuI_4^- and a hydrogen halide are added.例文帳に追加

白金合金または白金からなる白金粒子を少なくとも含む触媒を製造する方法であって、前記白金粒子の表面に銅層を被覆する工程と、前記銅層が被覆された白金粒子を、ＡｕＢｒ_４^−またはＡｕＩ_４^−を含む塩と、ハロゲン化水素と、を添加した水溶液に接触させることにより、前記銅層の銅を金に置換する工程と、を少なくとも含む。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor devices includes a process for forming the compound oxide film containing rare earths that contains rare-earth elements, metal elements that are not rare earths, and O at an upper portion of semiconductor substrates, and an etching process for alternately performing etching by acid without containing fluorine and etching by a solution containing fluorine for dissolving oxides of other metal elements to the compound oxide film containing rare earths a plurality of times.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体基板上方に、希土類元素と、希土類でない他の金属元素と、Ｏとを含む希土類含有複合酸化物膜を形成する工程と、希土類含有複合酸化物膜に対し、フッ素を含まない酸によるエッチングと、他の金属元素の酸化物を溶解するフッ素含有溶液によるエッチングとを、交互に複数回行なうエッチング工程とを有する。 - 特許庁

This manufacturing method of a magnetoresistive effect element which has palladium- or manganese-based antiferromagnetic layers 24a and 24b adjacent to a soft magnetic layer 23 comprises a process in which the antiferromagnetic layers 24a and 24b are formed and a process in which antiferromagnetism of at least 30 oersted is given to the antiferromagnetic layers 24a and 25b by heat treatment.例文帳に追加

軟磁性層２３と接してＰｄ、Ｍｎを主成分とする反強磁性層２４ａ，２４ｂが形成されている磁気抵抗効果素子の製造方法であって、反強磁性層２４ａ，２４ｂを形成する工程と、次いで、反強磁性層２４ａ，２４ｂを加熱処理することにより反強磁性層２４ａ，２４ｂに３０エルステッド以上の反強磁性を付与する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

In the electrostatic charge image developing toner manufacturing method comprising a drying process, a loop type pneumatic conveying dryer is used in the drying process in which air flow 7 whose temperature is ≥70°C and line velocity is ≥30 m/s is supplied to the loop 1 of the pneumatic conveying dryer and the air flow temperature at the toner collecting part 5 of the dryer is controlled to ≤60°C.例文帳に追加

乾燥工程を有する静電荷像現像用トナーの製造方法において、該乾燥工程でループタイプの気流乾燥機を使用し、該気流乾燥機のループ部１へ温度が７０℃以上であり、かつ線速度が３０ｍ／ｓ以上の気流７を供給し、該気流乾燥機のトナー回収部５における気流の温度を６０℃以下にすることを特徴とする静電荷像現像用トナーの製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing an electrode member for a nonaqueous electronic component includes: a process for forming an undercoated layer by applying and drying slurry containing conductive adjuvant and the latex of synthetic rubber on the surface of a sheet-shaped conductive material; and a process for overlapping and compressing the porous active electrode sheet containing at least carbonaceous material, conductive adjuvant and bonding agent as electrode active material on the surface of the undercoated layer.例文帳に追加

シート状導電性材料の表面上に、導電補助剤及び合成ゴムのラテックスを含有するスラリーを塗布乾燥して下塗り層を形成する工程、及び電極活物質としての炭素質材料、導電補助剤及び結着剤を少なくとも含有する多孔質作用電極シートを、該下塗り層の表面に重ねて圧迫する工程、を包含する非水系電子部品用電極部材の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a hollow structure includes the steps of: forming a groove in a member 10; filling a filler in the groove; forming a conductive layer in exposed surfaces of the filler and the member 10; forming a first layer 12 on the conductive layer by an electroforming process; forming a second layer 13 on the first layer 12 by a cold spray process; and removing the filler from the groove.例文帳に追加

中空構造体の製造方法は、部材１０に溝を形成する工程と、充填剤を溝に充填する工程と、充填剤及び部材１０の露出面に導電層を形成する工程と、電鋳法により導電層上に第１層１２を形成する工程と、コールドスプレー法により第１層１２上に第２層１３を形成する工程と、溝から充填剤を除去する工程とを具備する。 - 特許庁

To provide a sheet type adhesive laminate capable of pasting a liquid crystal display element board to a flat board for transfer system, utilizing a liquid crystal display element manufacturing unit and process using conventional glass board as it is, and very easy to dismantle the liquid crystal display element after treatment such as resist formation, etching, cleaning, and directed film printing process, etc.例文帳に追加

液晶表示素子用基板を平坦性を有する搬送用基板に貼着することができ、従来のガラス基板を用いた液晶表示素子製造装置や工程がそのまま利用でき、レジスト形成工程、エッチング工程、洗浄工程、配向膜印刷工程等の処理後に、該液晶表示素子用基板の取り外しがきわめて容易となるようなシート状粘着剤積層体を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing a printed wiring board with a via hole for interlayer connection includes a process of making a barrier metal layer at least on the front side of the wiring circuit and/or the metal foil formed on the outer layer of an insulator substrate to prevent the wiring circuit and/or the metal foil from being etched by etching treatment during a following circuit formation process in the via hole.例文帳に追加

層間接続用のビアホールを備えたプリント配線板の製造方法であって、当該ビアホール形成のためのめっき処理工程前に、少なくとも絶縁基板の外層に形成された配線回路及び／又は金属箔の表側面に、後のビアホール部の回路形成の際のエッチング処理により当該外層配線回路及び／又は金属箔がエッチングされることを防止するバリア金属層を設ける。 - 特許庁

This dicing tape is used for this manufacturing method of a semiconductor device including a process (IV) of providing a plurality of segmented semiconductor chips with adhesive tapes by cutting the adhesive tapes, and characterized in that a yield point is not shown in tensile deformation of the dicing tape, and adhesive force between the dicing tape and the adhesive sheet is 20-100 N/m in the process (IV).例文帳に追加

ＩＶ）接着シートを切断することにより、複数の個片化された接着シート付き半導体チップを得る工程を備える、半導体装置の製造方法に使用するダイシングテープであって、ダイシングテープの引っ張り変形時に降伏点を示さず、且つ、工程ＩＶ）におけるダイシングテープと接着シートとの接着力が２０Ｎ／ｍ以上１００Ｎ／ｍ以下であることを特徴とするダイシングテープ。 - 特許庁

The method for manufacturing a polarizer comprising a film having such a structure that minute domains are dispersed in a matrix formed of a translucent water-soluble resin containing an iodine light absorbing material, includes: a process of forming a film from a solution containing the translucent water-soluble resin, iodine and a material for the formation of the minute domain; and a process of stretching the obtained film.例文帳に追加

ヨウ素系吸光体を含有する透光性の水溶性樹脂により形成されるマトリクス中に、微小領域が分散された構造のフィルムからなる偏光子の製造方法であって、透光性の水溶性樹脂、ヨウ素および微小領域の形成材料を含有する溶液をフィルム化する工程、および、得られたフィルムを延伸する工程、を有すること特徴とする偏光子の製造方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of the semiconductor device in which an Ni plated film 13a formed by electroless plating is formed on the side of one surface 100a of the semiconductor wafer 100 and the semiconductor wafer 100 is ground and thinned from the side of the other surface 100b of the semiconductor wafer 100, the process of thinning the semiconductor wafer 100 is executed before the process of forming the Ni plated film 13a.例文帳に追加

半導体ウェハ１００の一面１００ａ側に無電解メッキにより形成されたＮｉメッキ膜１３ａを形成するとともに、半導体ウェハ１００の他面１００ｂ側から半導体ウェハ１００を研削して薄肉化するようにした半導体装置の製造方法において、半導体ウェハ１００を薄肉化する工程を、Ｎｉメッキ膜１３ａを形成する工程の前に行う。 - 特許庁

In the process for manufacturing the high-purity silicon by gas phase zinc reduction process, zinc chloride as a by-product is recovered as zinc and chlorine by electrolysis, and the zinc is reused for reduction of silicon tetrachloride and the chlorine as raw materials for forming silicon tetrachloride in order to basically eliminate wastes to the outside of the total system and manufacture the high purity silicon for solar batteries of stable quality at a low cost.例文帳に追加

気相法亜鉛還元法により高純度シリコンを製造するプロセスで副成する塩化亜鉛を電解により亜鉛及び塩素として回収し、亜鉛は四塩化珪素の還元用に、塩素は四塩化珪素生成の原料として再使用することにより、トータルシステムとしては系外への廃棄物を基本的になくすことにより、低コストで品質の安定した太陽電池用高純度シリコンを製造する。 - 特許庁

To provide a suitable method and equipment for treating a waste water, particularly from a process of manufacturing a semiconductor, which renders a hardly treatable substance to promptly become treatable and treats the same to a biologically treatable product substance which can be combined with a process of bio-treatment by conducting an ozone oxidative treatment with the most suitable condition depending on substances contained in the waste water.例文帳に追加

オゾン酸化処理を廃水に含有されている物質に応じて最適な条件で行えるようにすることにより、難処理性の物質を迅速に処理可能とするとともに、生物処理が可能な生成物質へと処理して生物処理工程と組み合わせることも可能とすることのできる、とくに半導体製造工程等からの廃水の処理に好適な廃水処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method of the electroluminescent element has an organic EL layer composed of one layer or a plurality of organic functional layers, and has a process to form at least one organic functional layer by coating a solution containing an organic functional material on a substrate, and a process to swell the organic functional layer by a solvent soluble to the organic functional layer, and to heat for annealing treatment.例文帳に追加

一層又は複数の有機機能層からなる有機ＥＬ層を有するエレクトロルミネセンス素子の製造方法であって、少なくとも一の有機機能層を、有機機能性材料を含む溶液を基板上に塗布することで形成する工程と、前記有機機能層に可溶な溶媒により該有機機能層を膨潤させるとともに加熱するアニール処理工程とを有する有機エレクトロルミネセンス素子の製造方法。 - 特許庁

In the method of manufacturing the electrostatic charge image developing toner, the toner is manufactured by performing a emulsifying process of emulsifying a mixture containing at least a polyester resin and an organic solvent into an aqueous medium, thereby forming the particulates of the above mixture in this aqueous medium and a compounding process of compounding the particulates by adding a dispersion stabilizer to the particulates, then further successively adding electrolytes thereto.例文帳に追加

少なくともポリエステル樹脂と有機溶剤とを含有する混合物を水性媒体中に乳化させることにより、該水性媒体中に該混合物の微粒子を形成させる乳化工程、次いで、分散安定剤を添加し、更に電解質を順次添加することで該微粒子を合一させる合一工程を行うことによりトナーを製造する静電荷像現像用トナーの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device using the adhesive sheet for spacers comprises: a process for preparing the adhesive sheet for spacers having a spacer layer with an adhesive layer at least on one surface, dicing the adhesive sheet for spacers, and forming a chip-like spacer having the adhesive layer; and a process for fixing the spacer to the body to be deposited via the adhesive layer.例文帳に追加

スペーサ用接着シートを用いた半導体装置の製造方法であって、前記スペーサ用接着シートとして、少なくとも一方の面に接着剤層を備えたスペーサ層を有するものを用意し、前記スペーサ用接着シートをダイシングして、接着剤層を備えたチップ状のスペーサを形成する工程と、前記スペーサを、前記接着剤層を介して被着体に固定する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the membrane electrode assembly for fuel cell having at least the solid polyelectrolyte, the catalyst, and the oxide semiconductor of wire-shape or tube-shape comprises a process in which the catalyst, the oxide semiconductor, and a solid polyelectrolyte solution are mixed and a slurry is obtained, and a process in which the slurry is installed on the solid polyelectrolyte membrane.例文帳に追加

少なくとも固体高分子電解質と、触媒と、ワイヤ状またはチューブ状の酸化物半導体を有する燃料電池用膜電極接合体の製造方法であって、前記触媒と、酸化物半導体と、固体高分子電解質溶液を混合してスラリーを得る工程と、前記スラリーを固体高分子電解質膜に設置する工程を含む燃料電池用膜電極接合体の製造方法。 - 特許庁

The method relates to manufacturing a memory element composed of a first electrode, a second electrode and a variable resistance thin film connected between the first electrode and the second electrode and includes a process for forming a first iron oxide film as a variable resistance thin film and a process for heat treating the first iron oxide film in an atmosphere including no oxygen to change it into a second iron oxide film.例文帳に追加

本発明は、第１の電極と、第２の電極と、第１の電極と第２の電極との間に接続される可変抵抗薄膜から成る記憶素子の製造方法であって、可変抵抗薄膜として、第１の酸化鉄膜を形成する工程と、第１の酸化鉄膜を酸素が存在しない雰囲気で熱処理して、第２の酸化鉄膜へと変化させる工程とを含む事を特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the radiographic image conversion panel, which includes a process of forming a stimulable phosphor layer through a gas-phase layup of stimulable phosphors on the substrate, by using a vapor flow from a vaporization source has a process of heating and retaining the vaporization source at its melting point or lower for a fixed period of time just before the vaporization source is vaporized in an inert gas atmosphere.例文帳に追加

蒸発源からの蒸気流を用いて基板に輝尽性蛍光体を気相堆積させ、輝尽性蛍光体層を形成する工程を含む放射線画像変換パネルの製造方法において、不活性ガス雰囲気下で蒸発源を蒸発させる直前に、蒸発源を融点以下で一定時間加熱保持する工程を有することを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device including a laser radiation process that radiates a laser beam of intensity distribution having the minimum intensity beam or the minimum intensity point optically modulated by an optical modulation element to the crystallized area of a non-single crystal semiconductor thin film to crystallize the same and a heating process that radiates light to the crystallized area by a flash lamp to heat the crystallized area.例文帳に追加

非単結晶半導体薄膜の結晶化領域に、光学変調素子で光変調されて極小光強度線もしくは極小光強度点を有する光強度分布のレーザ光を照射して結晶化するレーザ照射工程と、結晶化された領域にフラッシュランプによる光照射して結晶化された領域を加熱する加熱工程とを包含する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The coil filament in a bulb with a reflecting mirror is formed in quadruple winding, in the manufacturing process of which, a quadruple-wound coil filament with core with tungsten wire wound once to quadruple times from primary to quartic core wire, after being primarily heated and crystallized, is put under a secondary heating and crystallization process at higher temperature than at a primary heating and crystallization, each molybdenum core wire fused.例文帳に追加

反射鏡付電球におけるコイルフィラメントが四重巻きに形成されることと、その製造に際しては、一次芯線から四次芯線までにタングステン線が一重巻きから四重巻きにされた芯付四重巻きコイルフィラメントを、一次加熱・結晶させた後、各モリブデン芯線を溶解させ、この四重巻きコイルフィラメントをさらに一次加熱・結晶温度より高温で二次加熱・再結晶させることを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the silicon carbide single crystal substrate includes a process (A) of preparing a silicon carbide single crystal substrate which has first and second principal surfaces and conductivity, the work-affecting layer being provided on at least one of the first and second principal surfaces; and a process (B) of removing at least a part of the work-affecting layer through electrolytic etching.例文帳に追加

本発明の炭化珪素単結晶基板の製造方法は、第１および第２の主面を備え、導電性を有する炭化珪素単結晶基板であって、前記第１および前記第２の主面のうち、少なくとも一方に加工変質層を有する炭化珪素単結晶基板を用意する工程（Ａ）と、前記加工変質層の少なくとも一部を電解エッチングによって除去する工程（Ｂ）とを包含する。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, exposure is performed to form a resist pattern differing from a pattern in a chip region in an exposure range that includes a non-effective reference chip region adjacent to an effective reference chip region and does not include any effective chip regions and effective reference chip regions in a reference exposure process using a reduction projection type aligner in a photolithography process.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法においては、フォトリソグラフィの工程において、縮小投影型露光装置を用いた基準露光工程において、有効基準チップ領域に隣接する無効基準チップ領域を含み、かつ有効チップ領域および有効基準チップ領域を含まない露光範囲で、チップ領域のパターンとは異なるレジストパターンを形成するように露光を行う。 - 特許庁

The method of manufacturing the thermally expanded microcapsule includes: a process of suspending an oily substance containing a polymerizable monomer, a volatile liquid and a polymerization initiator into a dispersion liquid made by dispersing a metallic salt or a metal oxide into water; and a process of polymerizing the polymerizable monomer, wherein the metallic salt or the metal oxide is insoluble in water at pH of 7 or less.例文帳に追加

金属塩又は金属酸化物を水に分散させた分散液に、重合性モノマー、揮発性液体及び重合開始剤を含有する油性物質を懸濁させる工程と、前記重合性モノマーを重合させる工程とを有する熱膨張性マイクロカプセルの製造方法であって、前記金属塩又は金属酸化物は、ｐＨ７以下で水に不溶である熱膨張性マイクロカプセルの製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a silicon ingot is characterized by including a process for pulling up a single crystal ingot for solar cells by a Czochralski method from silicon melt containing a first dopant which specifies a first conductivity, and a process for forming an ingot using a residue in a crucible after pulling up the single crystal silicon ingot (crucible residue) as a raw material of the polycrystalline silicon ingot.例文帳に追加

本発明のシリコンインゴットの製造方法は、坩堝内に保持された、第１の導電型を規定する第１のドーパントを含有するシリコン融液から、チョクラルスキー法により太陽電池用の単結晶インゴットを引き上げる工程と、単結晶シリコンインゴットを引き上げた後の坩堝内の残留分（坩堝残）を、多結晶シリコンインゴットの原料として用いてインゴットを形成する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To accurately detect an end point of plasma etching in a process of forming a pattern on an extreme ultraviolet absorption film, in a method of manufacturing a mask for extreme ultraviolet exposure including the process of forming a pattern on an extreme ultraviolet absorption film by performing plasma etching using a gas containing carbon (C) to the extreme ultraviolet absorption film using a substrate having the extreme ultraviolet absorption film formed of a material containing Ta and N.例文帳に追加

ＴａとＮを含有する材料からなる極端紫外線吸収膜を有する基板を用い、前記極端紫外線吸収膜に対して炭素（Ｃ）を含むガスを用いたプラズマエッチングを行うことにより、前記極端紫外線吸収膜にパターンを形成する工程を有する極端紫外線露光用マスクの製造方法において、前記工程でのプラズマエッチングの終点を高精度に検出する。 - 特許庁

This method of manufacturing an optical device includes processes of: joining an optical element sheet 6 including a plurality of optical elements 1 to a substrate sheet 7 with a wiring pattern 3 formed thereon; separating the plurality of optical elements 1 from one another by cutting the optical element sheet 6 after the joining process; and forming wiring boards joined to the optical elements 1 by cutting the substrate sheet 7 after the joining process.例文帳に追加

複数の光学素子１を備える光学素子シート６を、配線パターン３が形成された基板シート７に接合する工程と、上記接合する工程の後に、光学素子シート６を切断することにより、複数の光学素子１どうしを分離する工程と、上記接合する工程の後に、基板シート７を切断することにより、光学素子１と接合している配線基板を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

This method of manufacturing the positive electrode material for the secondary battery has a process to obtain a granulated powder by granulating mixed powder obtained by mixing powder of a lithium compound used as a raw material and powder of a metal compound, and a process to obtain a composite oxide of lithium and metal as the positive electrode material for the secondary battery by burning the granulated powder continuously at a predetermined temperature for a predetermined time to cause a reaction.例文帳に追加

本発明の二次電池用正極材料の製造方法は、原料となるリチウム化合物の粉体と、金属化合物の粉体とを混合して混合粉を得て、この混合粉を造粒して造粒粉体を得る工程と、この造粒粉体を所定の温度および時間で連続的に焼成して反応させ、リチウムと金属との複合酸化物を二次電池用正極材料として得る工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the bulkhead of the biochip 100 including the substrate 10 and the bulkhead 20 sectioning the surface of the substrate 10 includes: a process to form a first film on the substrate using a composition including a coloring agent (A), a polyfunctional monomer (c) having 3-6 polymerizable unsaturated bonds, and a radiation-sensitive polymerization initiator (D); and a process to perform patterning of the first film to form the bulkhead 20.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０とを備えるバイオチップ１００における隔壁製造方法で、着色剤（Ａ）、重合性不飽和結合を３つ以上且つ６つ以下有する多官能性単量体（ｃ）、感放射線性重合開始剤（Ｄ）を含む組成物を用いて基板上に第１膜を形成する工程と、第１膜をパターニングして隔壁２０を形成する工程を備える。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor element comprises: a first process for forming a first conductive type source region 4 in a second conductive type body region 3 formed on a first conductive type substrate 1 through ion pouring employing a pouring mask; and a second process for forming a doped region 13 doped by pouring acceptor impurities into the second conductive type body region 3 employing the pouring mask.例文帳に追加

第１導電型の基板１上に形成された第２導電型のボディ領域３内に注入マスクを用いたイオン注入により第１導電型のソース領域４を形成する第１の工程と、前記注入マスクを用いて第２導電型のボディ領域３内にアクセプタ不純物を注入することによりドーピングされた領域１３を形成する第２の工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the RFID tag inlet using the wire antenna is characterized by having at least: a process to form a parallel flat plane part at an end of the wire antenna joined with the connecting bump formed on the semiconductor chip; and a process to join the connecting bump and the wire antenna after making a flat plane of the parallel flat plane part contact with the connecting bump of the semiconductor chip.例文帳に追加

少なくとも、半導体チップに形成された接続用バンプと接合するワイヤアンテナの端部に、予め平行平面部分を形成する工程、及び前記平行平面部分の一方の平面と前記半導体チップの接続用バンプとを接触させた上で、接続用バンプとワイヤアンテナを接合する工程を、有することを特徴とするワイヤアンテナを用いたＲＦＩＤタグインレットの製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a stacked ceramic capacitor includes a slurry preparing process of carrying sheet molding by using slurry which is prepared by stopping mixing before a viscosity of the slurry in the slurry preparing process becomes 1.2 times of a minimum slurry viscosity, the minimum slurry viscosity being given when relationship of mixing time and slurry viscosity is taken till the slurry viscosity changes into a state of rising with the mixing time.例文帳に追加

スラリー作製工程におけるスラリーの粘度が、混合時間とスラリー粘度の関係をこのスラリー粘度が時間とともに上昇する状態になるまでとった場合のスラリー粘度最小値に対し、このスラリーの粘度がスラリー粘度最小値の１．２倍に達する以前に混合を止め、このスラリーを用いてシート成型するスラリー作製工程を含む積層セラミックコンデンサの製造方法とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the electrolyte membrane used for a fuel cell includes a preparation process for preparing the electrolyte precursor membrane made of an ion exchange resin precursor which has not been imparted ion conductivity by hydrolysis treatment, and a spraying process for spraying an alkaline solution to the electrolyte precursor membrane, thereby obtaining the ion exchange resin precursor containing the ion exchange resin group precursor subjected to hydrolysis treatment.例文帳に追加

燃料電池に使用される電解質膜の製造方法は、加水分解によってイオン伝導性が付与される前のイオン交換樹脂前駆体により形成された電解質前駆体膜を準備する準備工程と、電解質前駆体膜に対してアルカリ性溶液を噴霧して前記イオン交換樹脂前駆体に含まれるイオン交換基前駆体を加水分解する噴霧工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a carbon-containing porous glass ceramic which is inexpensively manufactured with a short process, is used for a filter medium for city water, a member for home-use water purifiers, a water-purifying element for fish tanks and fish farms, a purification material or a microorganism carrier for combined septic tanks, a deodorant and a light-weight insulation material and its manufacturing process.例文帳に追加

短い工程時間で安価に製造できるとともに、上水道で濾過材として使用できるほか、家庭用簡易濾過器部材や、活魚の生け簀や養魚場において水質浄化要素としてまた、合併浄化槽における浄化材や、微生物担体としてさらに、脱臭剤や、軽量断熱材料としても使用できる炭含有多孔質ガラスセラミックス及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of assembling and forming a plasma display panel constructed by arranging in opposition a front face side board forming a front face side group of electrodes and a back face side board forming a back face side group of electrodes and a process of aging by passing electricity between the front face side group of electrodes and the back face side group of electrodes in charged gas atmosphere after the assembly and forming.例文帳に追加

表面側電極群を形成してなる表面側基板と、背面側電極群を形成してなる背面側基板とを放電空間を形成するように対向配置してなるプラズマディスプレイパネルを組み立て形成する工程と、前記組み立て形成後、帯電ガス雰囲気中で、前記表面側電極群と前記背面側電極群との間で通電し、エージングを行う工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of the electrode for the fuel cell, a mixture body Y is made through a first process of chemically reducing cation containing a platinum-group metal absorbed in a mixture body X, and a second process of chemically reducing cation which contains a platinum-group metal other than the one above absorbed in the mixture body Y.例文帳に追加

燃料電池用電極の製造方法において、陽イオン交換樹脂とカーボン粒子とを含む混合体Ｘに吸着させた白金族金属を含む陽イオンを化学的に還元する第１の工程を経ることにより混合体Ｙを作製し、前記混合体Ｙに吸着させた、前記白金族金属とは異なる白金族金属を含む陽イオンを化学的に還元する第２の工程を経る。 - 特許庁

In the manufacturing method of the near field opticalprobe which manufactures the near field opticalprobe by bending process in which the irradiated part is melted by laser irradiation and the tip part with the probe is bent from the root part, the bending process is carried out so that the near field opticalprobe is irradiated by the laser beam from an shifted angle from the perpendicular direction of the irradiation of the laser beam.例文帳に追加

レーザ光の照射により照射部分を溶融し、根元部分に対して探針を有する先端部分を曲げるようにする曲げ加工を行って、近接場光プローブを作製する近接場光プローブの作製方法において、前記近接場光プローブが、前記レーザ光の照射方向である垂直方向に対し、ずらした角度から該レーザ光の照射を受けるようにして、曲げ加工を行う。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a process for impregnating, an electrode group 2 including positive and negative electrodes with a gel electrolyte precursor including monomers having a molecular weight of 200 to 100,000 having two or more polymerizable functional groups in one molecule; non-aqueous electrolyte; and a surface active agent (phosphoric trialkyl and the like having a 3-10C alkyl group), and the process of gelating the gel electrolyte precursor.例文帳に追加

正極及び負極を含む電極群２に、１分子中に重合可能な官能基を２つ以上有する分子量が２００〜１０万のモノマーと非水電解液と界面活性剤（炭素数３−１０のアルキル基を有する燐酸トリアルキル等）とを含むゲル電解質前駆体を含浸させる工程と、前記ゲル電解質前駆体をゲル化させる工程とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method includes a step of forming a gate in a predetermined region on a semiconductor substrate, a step of forming the spacer on the sidewalls of the gate, a step for forming a nitride film on the spacer by performing a RTA process in a nitrogen atmosphere, and a step of forming a bonding region on a predetermined region on the semiconductor substrate by performing a contaminant ion implanting process.例文帳に追加

半導体基板上の所定の領域にゲートを形成する段階と、前記ゲートの側壁にスペーサを形成する段階と、窒素雰囲気中におけるＲＴＡ工程を行って前記スペーサ上に窒化膜を形成する段階と、不純物イオン注入工程を行い、前記半導体基板上の所定の領域に接合領域を形成する段階とを含んでなることを特徴とする。 - 特許庁

This manufacturing method of the semiconductor closure body 7 composed of components same as the semiconductor, and closing a discharge opening formed on a bottom portion of a crucible for melting the semiconductor, comprises a first process for melting a semiconductor material 8 by the crucible or the like in advance and supplying the melt to a prescribed mold 1, and a second process for crystallizing the melt of the semiconductor.例文帳に追加

半導体を溶融する坩堝の底部に形成された排出口を閉栓する前記半導体と同成分からなる半導体栓体の製造方法であって、予め坩堝などにより半導体原料８を溶融させ、その融液を所定の型１へと供給する第一工程と、前記半導体の融液を結晶化させる第二工程と、を備えた半導体栓体７の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the oxide superconducting thin film includes: alternately performing a calcined film producing process of applying an organic metal compound solution and performing calcination heat treating to produce a calcined film having a predetermined thickness, and a nanoparticle depositing process of depositing the nanoparticles on the calcined film by using the solution of the nanoparticles; and subsequently performing main burning treatment.例文帳に追加

有機金属化合物溶液の塗布、仮焼熱処理を行い、所定厚みの仮焼膜を作製する仮焼膜作製工程と、ナノ微粒子の溶液を用いて仮焼膜の上にナノ微粒子を付着させるナノ微粒子付着工程とを、交互に行い、その後、本焼熱処理を施し、ナノ微粒子が所定間隔で層状に設けられた酸化物超電導薄膜を製造する酸化物超電導薄膜の製造方法。 - 特許庁

The unnecessary charge stored in a silicon nitride film 15 can be efficiently removed by the manufacturing process of the semiconductor storage device by forming the silicon nitride film 15 for storing the charge via a tunnel oxide film 14 on a semiconductor substrate 1, then performing a hydrogen plasma process for the silicon nitride film 15 to remove the charge stored in the silicon nitride film 15.例文帳に追加

半導体基板１上にトンネル酸化膜１４を介して電荷の蓄積を行なうシリコン窒化膜１５を形成した後、当該シリコン窒化膜１５に対して水素プラズマ処理を行なってシリコン窒化膜１５に蓄積された電荷を除去するようにして、半導体記憶装置の製造工程を通じてシリコン窒化膜１５に蓄積された不要な電荷を効率的に除去することができるようにする。 - 特許庁

To establish a method capable of stably and certainly manufacturing a phenol resin pipe of high quality without leaving air bubbles in a molded object or generating a bump-shaped blister flaw or the like caused by venting failure even if centrifugal molding is performed using a phenol resin in which a solvent such as water, methanol or the like used in a synthesizing process is left and which forms condensed water in a curing reaction process.例文帳に追加

合成過程で用いた水やメタノールなどの溶剤が残存していたり、硬化反応工程で縮合水が生成するフェノール樹脂を用いて遠心成形を行なう場合でも、成形体の内部に気泡が残存したり、或いはガス抜け不良によるコブ状の膨れ欠陥等を生じることなく、安定して高品質のフェノール樹脂パイプを確実に製造することのできる方法を確立すること。 - 特許庁

In a powder-method manufacturing method of the Nb_3Sn superconducting wire rod, an Nb_3Sn superconducting layer is formed from an inner face side of a sheath made of Nb or a Nb alloy, by putting a complex member filled with a core material containing at least Sn under a tapering process and then a heating process.例文帳に追加

ＮｂまたはＮｂ合金からなるシース内に、少なくともＳｎを含むコア材を充填した複合部材を縮径加工した後熱処理することによって、シースの内面側からＮｂ_3Ｓｎ超電導層を形成する粉末法Ｎｂ_3Ｓｎ超電導線材の製造方法であって、前記コア材中のＳｎ体積比をＶ_sn、シースの内径をｄ、外径をＤとしたとき、これらが下記（１）式の関係を満足するような複合部材を用いる。 - 特許庁

The method of manufacturing the multilayer optical film having specific characteristics includes a process of laminating a cyclic olefin-based resin film and a vinyl aromatic resin film by a lamination method to obtain a rolled film having the cyclic olefin-based resin layer and vinyl aromatic resin layer laminated, and a process of uniaxially drawing the obtained rolled film orthogonally to the length of the film.例文帳に追加

環状オレフィン系樹脂フィルムとビニル芳香族系樹脂フィルムとをラミネーション法により積層し、環状オレフィン系樹脂層とビニル芳香族系樹脂層とが積層された原反フィルムを得る工程と、得られた原反フィルムをフィルム長手方向に対して直交する方向に一軸延伸する工程とを有することを特徴とする、特定の特性を有する積層光学フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁