| 意味 | 例文 |
Manufacturing Processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 22658件
To provide a movable element facilitating a manufacturing process, never disturbing reduction of a package size, and having low voltage/low power consumption to an extent allowing itself to be integrally formed with a low voltage/low power consumption-based element; to provide a semiconductor device with the movable element incorporated therein; to provide a module; and to provide an electronic apparatus.例文帳に追加
製造プロセスが容易で、パッケージサイズの縮小化を妨げることがなく、低電圧・低消費電力系の素子と一体的に形成することが可能な程度に低電圧・低消費電力の可動素子、ならびにその可動素子を内蔵する半導体デバイス、モジュールおよび電子機器を提供する。 - 特許庁
In the method of manufacturing the building board by applying a coating to the substrate 2 having the rugged surface, in the process of conveying the substrate subjected to color under coating on the surface, the prescribed positions of the substrate are first subjected to edging printing by an ink jet printer 5, then the surface is coated with a coating material by spraying from above the printed surface.例文帳に追加
凹凸面を有する基板2に塗装を施して建築板を製造する方法において、表面に下地着色塗装を施した基板を搬送する過程で、まず、インクジェットプリンタ5で所定の位置に縁取り印刷をし、次いで上記印刷をした上からスプレーにて塗料を塗装する。 - 特許庁
According to this method for manufacturing the bolometer-type infrared detection element wherein a light receiving part supported by bridge parts is formed on a silicon substrate, the process for forming the light receiving part comprises processes for sequentially forming an electrode protection layer and the bolometer layer over the electrodes, and the temperature for forming the protection layer is lower than the temperature for forming the bolometer layer.例文帳に追加
シリコン基板上にブリッジ部で支持された受光部を形成するボロメータ型の赤外線検知素子の製造方法において、受光部を形成する工程が、電極上に電極保護層、ボロメータ層を順次形成する工程を含み、かかる電極保護層の形成温度がボロメータ層の形成温度より低い。 - 特許庁
To provide an evaluation method of prevention of surface crack for enabling the manufacture of the process design of cold forging and a forging die preventing the generation of the surface crack in a short period and at a low cost by correctly predicting the generation of the surface crack of semimanufactured goods and formed parts in the cold forging before manufacturing the forging die.例文帳に追加
冷間鍛造における半加工品および成形品の表面割れの発生を、鍛造型製作前に正確に予測して、冷間鍛造の工程設計および表面割れの生じない鍛造型を短期間に、かつ安価に製作することを可能とする表面割れ防止の評価方法を提供する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the titanium dioxide by reacting a gas containing titanium tetrachloride with an oxidative gas with a vapor phase process, the gas containing the titanium tetrachloride and the oxidative gas are each introduced into a reaction tube in such a manner that the reaction is carried out at a temperature inside the reaction tube of 1,050°C or higher and lower than 1,300°C.例文帳に追加
気相法で四塩化チタンを含むガスと酸化性ガスとを反応させることにより二酸化チタンを製造する方法において、四塩化チタンを含むガス及び酸化性ガスをそれぞれ反応管に導入し反応させたとき、該反応管内の温度が1,050℃以上1,300℃未満である。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for controlling the pH of an aqueous solution capable of simply and precisely controlling the pH and oxidation and reduction potential(ORP) of washing water in order to obtain higher washing effect in washing water of wet washing in a process of manufacturing for a semiconductor substrate, a liquid crystal substrate, a magnetic substrate or a superconductive substrate.例文帳に追加
半導体基体、液晶基体、磁性基体または超伝導基体製造プロセスにおけるウェット洗浄の洗浄水においてより高い洗浄効果を得るために、洗浄水のpHと酸化還元電位(ORP)をより簡便かつ精密に制御できる水溶液のpH制御の方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method for the pneumatic bias tire, tire molding and vulcanization are performed by disposing organic fibers wherein the cut elongation value satisfies the relationship of within the range of 1.1 to 1.5 times of a lift ratio value from the tire molding to the vulcanizing process so that the fiber axial direction is parallel to the tire circumferential direction as a reinforcing fiber layer reinforcing the carcass layer.例文帳に追加
カーカス層を補強する補強繊維層として、切断伸度値が、タイヤ成型から加硫工程へのリフト率値の1.1〜1.5倍の範囲内となる関係を満たす有機繊維をその繊維軸方向がタイヤ周方向と平行になるように配置して用いて、タイヤ成型と加硫を行う空気入りバイアスタイヤの製造方法。 - 特許庁
The method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer containing at an organic pigment on a conductive support, wherein the photosensitive layer is subjected to processing to allow the photoreceptor to stand for ≥10 minutes under an environment of 10 g/m^3 in absolute humidity in a dark place after a final drying process in manufacture of the photoreceptor.例文帳に追加
導電性支持体上に少なくとも有機顔料を含有する感光層を有する電子写真感光体の作製方法において、感光体作製における最終乾燥工程の後、該感光体を暗所でかつ絶対湿度が10g/m^3以上の環境下に10分以上放置する処理を施す。 - 特許庁
The method for manufacturing a microcapsule-containing resin composition which contains the microcapsule in a matrix resin comprises a process of kneading the microcapsule into the matrix resin, with using, as the microcapsule, the microcapsule secondary particles that the microcapsule primary particles cohere with the aid of an easily melt processable resin whose melt-processing temperature is lower than the kneading temperature.例文帳に追加
母材樹脂中にmcが含有されたmc含有樹脂組成物の製造方法であって、mcを母材樹脂に練り混む工程を有し、mcとして、溶融加工温度が練り混み温度以下の樹脂である易溶融加工性樹脂を介してmc一次粒子が凝集したmc二次粒子を用いる。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for treating exhaust gas from a cement firing facility, in each of which a volatile component can be removed easily and efficiently from the exhaust gas from the cement firing facility by using such a simple process that large-scale equipment is not required while hardly exerting a bad influence on the operation of a cement manufacturing facility.例文帳に追加
セメント製造設備の操業に与える影響が小さく、大掛かりな設備を必要としない簡便な方法で、セメント焼成設備の排ガスから揮発性成分を容易かつ効率的に除去することができるセメント焼成設備の排ガス処理方法及び処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a plastic lightweight grouting material which is lightweight, is gelable in an instant, is provided with separation resistance in underwater such as elution resistance or shape holding property without being affected by underground water or water stream with which limited grouting or underwater placing is easily carried out, a method of the manufacturing the same and a filling process for the same.例文帳に追加
軽量で、瞬時にゲル化することができ、地下水や流水の影響を受けることなく優れた耐溶出性、形状維持性などの水中分離抵抗性を備えた、限定注入や水中打設が容易にできる可塑性軽量注入材及びその製造方法、並びにその充填工法を提供する。 - 特許庁
In a process for manufacturing a product 1, this manufacture history information recording device of products converts manufacture history information generated in assembly, adjustment, measurement, and inspection processes into a two-dimensional code 3, and attaches or adheres the printed matter of the converted two-dimensional code 3 to the product 1.例文帳に追加
本発明の製品の製造履歴情報記録装置は、製品1を製造する過程において、組立、調整、測定、検査等の工程で発生した製造履歴情報を2次元コード3に変換し、この変換した2次元コード3を印刷したもの4を製品1に添付するまたは貼り付けるように構成したものである。 - 特許庁
To provide a booklet with caption divisions having three caption divisions each of which includes a large printing region of information regarding the caption divisions, shows excellent advertising effectiveness to customers and large soliciting effect and which is suitable for putting it to practical use as enclosing-the article in the same packing and as a conspicuous pamphlet, and to provide its manufacturing process.例文帳に追加
本発明は、3箇所の見出し部を有し、見出しに関連する情報の印刷領域が大きく、顧客に対する宣伝効果が優れ訴求効果の大きい、同封・同梱物として、目の引くパンフレットとして活用するのに適した見出し部付き冊子及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁
To provide boot mounting construction capable of realizing reduction in the number of components and reduction in manufacturing cost by achieving elimination of a process of clamping the fixing member such as the boot band by fixing a portion of mounting a constant velocity universal joint to a boot without using a fixing part such as a boot band.例文帳に追加
等速自在継手とブーツとの取り付け部分を、ブーツバンドなどの固定部品を使用することなく固定し、これによりブーツバンドなどの固定部材を加締める工程の省略を達成することで、部品点数の削減と製造コストの低減を実現できるブーツ取り付け構造を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a non-contact stirring machine capable of stably floating a stirrer magnetically without causing an out-of-phase state by employing the stirrer having both of a magnetic floating function and a magnetic coupling function to rotationally support it in a non-contact state and capable of being manufactured by a simple constitution and an inexpensive, simple manufacturing process.例文帳に追加
磁気浮上機能と磁気カップリング機能を併せ持つ攪拌子を採用することにより、脱調することなく攪拌子を安定して磁気浮上させ非接触に回転支持することができ、また、簡単な構成、低コストかつ簡単な製造手順にて製造することができる非接触攪拌機を提供する。 - 特許庁
To make it possible to mold a woody material having a more complicated shape by raising fluidity by reducing energy consumed by making the temperature of steam in contact with the woody material lower or making a fluidization start temperature in case of heating and pressurizing the woody material lower in a manufacturing process of molding pressurized and molded while heating after contacting the woody material with the steam.例文帳に追加
木質系材料を水蒸気に接触させた後に加熱しながら加圧して成形する成形体の製造方法において、木質系材料に接触させる水蒸気の温度をより低くする、あるいは、木質系材料を加熱加圧した際の流動化開始温度をより低くする。 - 特許庁
To provide a method of taking the exhaust air from a clean room and the like used in a process of manufacturing an electronic apparatus, a precision apparatus and the like, purifying the exhaust air by removing molecular contaminants and particulate contaminants, and continuously circulating and supplying the same to the clean room and the like for a long period.例文帳に追加
電子機器や精密機器等を製造する工程において使用されるクリーンルーム等からの排気を取入れて分子状汚染物質と粒子状汚染物質を除去する清浄化を行って当該クリーンルーム等に長期に亘り連続して循環供給を可能とする方法を提供する。 - 特許庁
To provide a polymer electrolyte membrane which has an improved handling during a membrane producing process and has a large wettability difference or a large contact angle difference against water on a surface of a first surface and a second surface of the electrolyte surface in order to dispense with a surface treatment after the membrane production and provide a laminate of the membrane and manufacturing methods of the membrane and the laminate.例文帳に追加
製膜工程でのハンドリング性を改善し、且つ、製膜後の表面処理を不要とするために、電解質膜表面の第一面と第二面の表面の水に対する濡れ性の差が大きい、即ち接触角の差が大きい高分子電解質膜、その積層体、及びそれらの製造方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of this composite product comprises a step that the porous metallic inserts 15 are arranged to predetermined positions in a high-pressure casting mold, and after that, a step that an alloy having a lower melting point than that of the inserts is introduced into the mold and then a step that the general casting process is executed, thereby the composite product is manufactured.例文帳に追加
複合製品の製造方法は、多孔質金属インサート15を高圧鋳造金型内の所定の位置に配置する段階と、その後、インサートの融点より低い融点を有する合金を導入する段階と、しかる後、一般的な鋳造プロセスを実行する段階と、を含み、これにより複合製品が製造される。 - 特許庁
During a manufacturing process of a membrane sheet for forming the probe card, respective surfaces of a polyimide film 41 covering a metallic film 21A, polyimide films 44A and 44B covering a wire 23, and a polyimide film 45 covering a wire 27 are subjected to flattening and thinning treatment by partial grinding or etching.例文帳に追加
プローブカードを形成する薄膜シートの製造工程において、金属膜21Aを覆うポリイミド膜41、配線23を覆うポリイミド膜44A、44B、および配線27を覆うポリイミド膜45のそれぞれの表面に対し、部分的に研磨もしくはエッチングによる平坦化および薄型化処理を施す。 - 特許庁
The process of manufacturing a metal-containing polyamic acid composite material with a controlled metal content includes a step in which a desired amount of metal ions is extracted from the metal-containing polyamic acid composite material by treating the material with a metal extracting agent.例文帳に追加
金属イオン含有ポリアミック酸複合材料を金属抽出剤で処理して前記金属イオン含有ポリアミック酸複合材料から任意の量の金属イオンを抜き出す工程を含んでなる金属イオン含有量が制御された金属イオン含有ポリアミック酸複合材料を製造することができる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device such as a wafer level CSP, etc. which prevents cut tips from flying at dicing of a semiconductor wafer to avoid troubles such as break and tipping of the dicing blade, and eliminates the need of complicating the dicing process.例文帳に追加
半導体ウェハーをダイシングする際に端材が飛散するとダイシングブレードの破損、チッピングといったトラブルの原因となることから、そのような端材の飛散を防止することが可能で、かつダイシング工程を複雑化することを必要としないウェハーレベルCSP等の半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a process for manufacturing a semiconductor element with adhesive in which cracking and chipping of a semiconductor element can be suppressed at the time of dicing, and a semiconductor element with adhesive can be obtained efficiently and surely by utilizing a cutting method of semiconductor wafer such as stealth dicing method or point dicing method.例文帳に追加
ダイシング時の半導体素子の割れや欠けを抑制することができ、かつステルスダイシング方法や先ダイシング方法のような半導体ウェハの切断方法を利用して接着剤付半導体素子を効率よく且つ確実に得ることが可能な接着剤付半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing sufficiently a monocrystal GaN substrate which is a growing substrate capable of obtaining a semiconductor layer of a good surface morphology or a monocrystal GaN substrate which can be suitably used as a semiconductor substrate, by reducing a defect in a polishing process and shortening a polishing time.例文帳に追加
研磨工程における不良を低減し、研磨時間を短縮して、表面モフォロジーが良好な半導体層が得られる成長用基板である単結晶GaN基板又は半導体基板として好適に用いることができる単結晶GaN基板を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor element which minimizes TED (Transient Enhanced Diffusion) phenomenon of impurities which is generated in heat treatment process and other successive heat treatment processes for relaxing damage due to ion implantation and prevents lowering of upper film quality caused by outgassing.例文帳に追加
イオン注入による損傷を緩和させるための熱処理工程やその他後続の熱処理工程の際に発生する不純物のTED(Transient Enhanced Diffusion)現象を最大限抑え、アウトガス(ガス抜け)による上部膜質の低下を防止することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the SiO_2-TiO_2 based glass includes a process for obtaining the glass by mixing SiO_2 powder with TiO_2 powder in a predetermined ratio and filling the powdery mixture in a crucible which is not worn at a high temperature and heating.例文帳に追加
SiO_2−TiO_2系ガラスを製造する方法であって、SiO_2粉末とTiO_2粉末を所定の比率で混合して、当該混合粉末を高温で消耗しない坩堝中に充填して加熱することによりガラスを得る工程を含むことを特徴とするSiO_2−TiO_2系ガラスの製造方法。 - 特許庁
In the process of manufacturing the lithium transition metal compound oxide by calcining a lithium compound and a transition metal compound, calcinations is carried out in the presence of a metal chalcogenide having a higher melting point than the calcination temperature and/or a metal chalcogenide to be converted into a conductive compound by the calcination.例文帳に追加
リチウム化合物と遷移金属化合物とを焼成してリチウム遷移金属複合酸化物を製造する際に、前記焼成を、焼成時の温度よりも高い融点を有する金属カルコゲン化物及び/又は前記焼成によって導電性化合物になる金属カルコゲン化物の存在下にて行う。 - 特許庁
To provide a simple method for manufacturing a proton conductive film which is made of a polyarylene having a sulfonic acid group, has a high proton conductivity, is inexpensive compared with a perfluoroalkylsulfonic acid based film, and is excellent in mechanical strength and thermal stability, without involving a complicated multi-step process.例文帳に追加
本発明は、高いプロトン伝導度を有し、パーフルオロアルキルスルホン酸系と比較して安価で、しかも機械的強度、熱的安定性に優れた、スルホン酸基を有するポリアリーレンからなるプロトン伝導膜を、煩雑な多段階工程を経ることなく簡易に製造する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
Feed gas is introduced between counter electrodes under pressure near atmospheric pressure in a laminate formation process of the semiconductor element, and a pulsive electric field is applied between counter electrodes for changing the feed gas into the glow discharge plasma and for forming the thin film in the manufacturing method of the semiconductor element.例文帳に追加
半導体素子の積層体成形工程において、大気圧近傍の圧力下で対向電極間に原料ガスを導入し、該対向電極間にパルス状の電界を印加することにより原料ガスをグロー放電プラズマ化させ、薄膜を形成することを特徴とする半導体素子の製造方法。 - 特許庁
To provide a method efficiently cleaning an organic EL element material adhering to a metal mask in a process depositing the organic EL element material, wherein no contaminant materials adhere in manufacturing organic EL after cleaning.例文帳に追加
有機EL素子を製造する工程で使用するメタルマスクを繰り返して使用するために、有機EL素子材料を蒸着する工程でメタルマスクに付着した有機EL素子材料を効率的に洗浄し、しかも洗浄後に有機EL製造において汚染物質なるような物質が付着しない方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the flexible printed board is characterized by maintaining an oxygen concentration in an etching processing atmosphere at 2 vol.% or below in a process of forming a copper wiring pattern by performing etching processing on a copper coating layer formed at least on one surface of an insulator film without interposing an adhesive.例文帳に追加
フレキシブルプリント基板の製造方法であって、絶縁体フィルムの少なくとも片面に接着剤を介さずに形成された銅被覆層をエッチング処理して銅配線パターンを形成する工程における前記エッチング処理雰囲気の酸素濃度が、2体積%以下に維持されることを特徴とする。 - 特許庁
The method of cleaning the semiconductor manufacturing device includes a process of supplying a combustible gas and a nonreactive gas which reacts with neither the oxidative gas nor the combustible gas into a treatment chamber through a combustible gas supply pipe while supplying the oxidative gas and the nonreactive gas through an oxidative gas supply pipe.例文帳に追加
実施形態に係る半導体製造装置のクリーニング方法は、処理チャンバー内に支燃性ガス供給管を介して支燃性ガス並びに前記支燃性ガス及び可燃性ガスと反応しない無反応ガスを供給しつつ、可燃性ガス供給管を介して前記可燃性ガス及び前記無反応ガスを供給する工程を備える。 - 特許庁
To provide an adhesive composition for a semiconductor having a high adhesiveness to an adhering part even in a case of having been subjected to a severe condition and a reflow process, an adhesive sheet for the semiconductor including an adhesive layer made of the adhesive composition, and a method of manufacturing the semiconductor using the same.例文帳に追加
厳しい熱湿条件およびリフロー工程を経た場合においても被着部に対し高い接着性を有する半導体用接着剤組成物、該接着剤組成物からなる接着剤層を有する半導体用接着シートおよびこれを用いた半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a brass-plated steel wire capable of improving quality of the steel wire obtained by enhancing lubricating performance between the steel wire and a tool during processing in a final wire drawing process and reducing processing electric power by reduction of work amount required for processing.例文帳に追加
最終伸線工程での加工時における鋼線と工具との間の潤滑性を向上することで、得られる鋼線の品質を向上するとともに、加工に要する仕事量の低減により加工電力の低減についても図ることができるブラスめっき鋼線の製造方法を提供する。 - 特許庁
The fluorescent lamp used in a manufacturing process of a liquid crystal panel containing photoreactive material includes a phosphor layer formed inside an arc tube, which contains a phosphor activated by Ce^3+ with one of magnesium barium aluminate, gadolinium phosphate yttrium, and magnesium aluminate lanthanum as mother crystal.例文帳に追加
光反応性物質を含有した液晶パネルの製造工程において使用する蛍光ランプにおいて、発光管の内部に形成された蛍光体層には、マグネシウムバリウムアルミネート、リン酸ガドリニウム・イットリウムおよびアルミン酸マグネシウム・ランタンのいずれかを母結晶としCe^3+により付活した蛍光体を含むことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a polyester composition having excellent yarn-producing properties to stably produce a fiber having reduced orientation crystallinity and exhibiting high strength in a one-step yarn production process especially in manufacturing of a fiber using a polyester produced by mainly using a titanium catalyst.例文帳に追加
本発明の目的は、主にチタン触媒を用いて製造されたポリエステルを用いた繊維を製造する際に、配向結晶性が抑制された、特にワンステップの製糸工程において、高い強度を発現する繊維を安定して製造することが出来る製糸性に優れたポリエステル組成物を提供することである。 - 特許庁
Further, the method of manufacturing the electronic device having (A) a first electrode and a second electrode and (B) an active layer 20 provided between the first electrode and second electrode 16 includes a process of making the metal oxide semiconductor forming the active layer 20 to adsorb ligand molecules.例文帳に追加
また、(A)少なくとも、第1電極及び第2電極、並びに、(B)第1電極と第2電極16の間に設けられ、金属酸化物半導体から成る能動層20を備えた電子デバイスの製造方法は、能動層20を構成する金属酸化物半導体にリガンド分子を吸着させる工程を含む。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing metalized aluminum nitride substrates comprising firing a conductive paste layer formed on the surface of a ceramic substrate which improves the reliability of the metalized layer formed and enables the subsequent plating process to be made in a high yield.例文帳に追加
セラミック基板の表面に導電ペースト層を形成し、焼成することによってメタライズド窒化アルミニウム基板を製造する方法において、形成されるメタライズ層の信頼性を向上させ、その後にメッキ処理を行なう際、かかる処理を高い歩留りで実施することが可能なメタライズド窒化アルミニウム基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing the secondary battery includes a process in which electrodes are manufactured by drying a current collector with infrared radiation after a water dispersion liquid containing a binder and an active material is coated on the current collector in a secondary battery having the electrodes and an electrolyte containing ionic liquid.例文帳に追加
電極及びイオン液体を含有する電解質を有する二次電池において、集電体に結着剤及び活物質を含有する活物質の水分散液を塗布した後、赤外線照射により乾燥して電極を作製する工程を有することを特徴とする二次電池の製造方法。 - 特許庁
In the method for manufacturing a silicon wafer having a heat treatment process in which the silicon wafer is arranged in a reactor chamber 2 and is thermally processed in an atmosphere of inactive gas or deoxidizing gas, the heat treatment is performed only when a measured carbon concentration in the gas atmosphere mentioned above is 1 ppm or less.例文帳に追加
反応室2内にシリコンウェーハを設置して該シリコンウェーハを不活性ガス又は還元性ガスの雰囲気ガス中で熱処理する熱処理工程を有するシリコンウェーハの製造方法であって、前記熱処理工程は、前記雰囲気ガス中の炭素濃度を測定し、該炭素濃度が1ppm以下のときに前記熱処理を施す。 - 特許庁
To eliminate an influence of an output potential from a voltage drop transistor to an unevenness of a manufacturing process by facilitating setting of a size of voltage drop transistor group of a high voltage sensor in an IC constituted to commonly use two input circuits having different two sensing levels at one input terminal.例文帳に追加
1つの入力端子を検知レベルの異なる2つの入力回路が共用するように構成されたICにおいて、高電圧検知回路における電圧降下用トランジスタ群のサイズの設定を容易化し、また、電圧降下用トランジスタからの出力電位が製造プロセスのばらつきに対して影響されないようにする。 - 特許庁
To provide a method for easily removing a residual generated in dry-etching on SiN (silicon nitride) which is an insulting film layer in a process for manufacturing a semiconductor substrate and efficiently cleaning the semiconductor substrate without the corrosion of a-Si, polysilicon and a wiring material, which are used for a glass substrate and a thin film circuit.例文帳に追加
半導体基板を製造する工程で、絶縁膜層であるSiN(窒化シリコン)等のドライエッチング時に発生する残渣物を容易に除去でき、さらにガラス基板や薄膜回路に使用されるa−Si、ポリシリコンや配線材料を全く腐食することなく極めて効率良く半導体基板を洗浄する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a MOS semiconductor device which is enhanced in withstand voltage and a method of manufacturing the same, in which a process through which an LDD(Lightly Doped Drain) side spacer is formed can be dispensed with, and high-melting metal material other than polysilicon can be used as a gate electrode material.例文帳に追加
耐圧性能の向上したMOS型半導体装置およびその製造方法を提供すること、LDD(低濃度ドープドレイン)用サイドスペーサーを作成する工程を省略できる製造方法、及び、ゲート電極材料としてポリシリコン以外の高融点金属材料が使用可能な製造方法を提供する。 - 特許庁
In a channel forming process in the method of manufacturing the full depletion type SOI transistor, especially, the NMOS transistor, ion implantation for threshold control for the channel forming portion is executed for an interface between an SOI layer and a buried insulation film at plurality of times while changing acceleration energy and dividing a dose quantity.例文帳に追加
完全空乏型SOIトランジスタ、特にNMOSトランジスタの製造方法におけるチャネル形成工程において、チャネル形成部へ閾値調整のためのイオン注入をSOI層/埋め込み絶縁膜との界面に、加速エネルギーを変えてドーズ量を分割して複数回行うことを特徴とする - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can execute high-quality heat treatment of a semiconductor substrate having a large area in a low temperature process by enabling to suppress adhesion of particles on a semiconductor layer, to improve stability of flame and uniformity of heat, and to promote cooling of a nozzle head.例文帳に追加
パーティクルの半導体層への付着を抑制することができ、火炎の安定性向上と均熱化促進を図ることができ、さらに、ノズルヘッドの冷却を促進することができ、低温プロセスで大面積の半導体基板の熱処理を品質良く行うことが可能な半導体装置の製造方法等を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device manufacturing method, capable of reducing a step structure in film formation obtained on the surface of a semiconductor substrate, reducing the thickness of the film formation required for planalization processing after the film formation, shortening a time required for a planalization processing process, and improving the productivity.例文帳に追加
半導体基板の表面に形成される成膜の段差を減少させ、成膜後の平坦化処理に必要な成膜の厚さを減少させ、平坦化処理工程にかかる時間を短縮し生産性を向上させることができる半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The process for manufacturing a sealing substrate 11 comprises the step of forming, correspondingly to a plurality of organic EL elements 8 formed on a translucent first substrate 9, a plurality of housing parts 7a for covering a planer second substrate with the organic EL elements 8 to be arranged in rows in the longitudinal and lateral directions.例文帳に追加
封止用基板11の製造方法は、透光性の第一の基板9上に形成される複数の有機EL素子8に対応し、平板状の第二の基板に各有機EL素子8を覆うための複数の収納部7aを縦横方向に向かって列状となるように形成する工程を含む。 - 特許庁
A method for manufacturing a stamper for an optical recording medium used for roughening a substrate for the optical recording medium, protects a second pit forming section 70 by carrying out masking as a pre-process of blast processing for the second pit forming section 70 of a metal plate 84 from being broken by the blast processing.例文帳に追加
光記録媒体を構成する基板を粗面化する際に使用される光記録媒体用スタンパの製造方法であって、金属板84の第2ピット形成部70が、その後に行われるブラスト処理で破壊されないように、ブラスト処理の前処理としてマスキング処理を行うことにより、第2ピット形成部70を保護する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a substrate for an electro-optical device by which the number of steps in the production process of a substrate for an electro-optical device can be reduced to improve production efficiency, an electro-optical device can be made thin and the viewing angle of the light transmitting a pixel region can be widened.例文帳に追加
電気光学装置用基板の生産工程における工数を削減し、生産効率を向上させることができ、電気光学装置を薄型化し、かつ画素領域を透過した光の視野角を広くすることができる電気光学装置用基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an image automatic sorting method and its device capable of outputting information required for a countermeasure to the cause of the generation of a fault and information required for predicting the yield of an examination wafer by using the image of a defective site concerning the defect generated in the manufacturing process of a semiconductor wafer detected by a defect examination device.例文帳に追加
欠陥検査装置で検出された半導体ウェハの製造工程で発生した欠陥について、その欠陥部位の画像を用いて、その欠陥の発生原因対策に必要な情報および、該検査ウェハの歩留まりの予測に必要な情報を出力できる画像自動分類方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
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