「Manufacturing Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(425ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing electrostatic charge image developing toner includes a process of cleaning toner base particles formed in an aqueous medium with cleaning water, wherein the cleaning water contains the net solved component of 0.05 mg/L or more and less than 0.50 mg/L, at 25°C.例文帳に追加

水系媒体中で形成したトナー母体粒子を洗浄水で洗浄する工程を有する静電荷像現像用トナーの製造方法において、該洗浄水が総溶解成分を２５℃において０．０５ｍｇ／Ｌ以上、０．５０ｍｇ／Ｌ未満含有するものであることを特徴とする静電荷像現像用トナーの製造方法。 - 特許庁

The needle device manufacturing method is intended for forming the second opening opened so as to communicate with a hollow portion on the sidewall of the needle device and includes an electrical discharge machining process to form the second opening by a wire-cutting electrical discharge machining method.例文帳に追加

上記課題を解決するために、本発明は、針装置の側壁に中空部に連通するよう開口した第二の開口部を形成する製造方法であって、前記第二の開口部をワイヤーカット放電加工法により形成する放電加工工程を含むことを特徴とする針装置の製造方法である。 - 特許庁

To provide a toner for electrostatic charge image development which suppresses image degradation and also suppresses odor generation in heat fixing regardless of fixing conditions and a method for manufacturing the same, a developer for electrostatic charge image development, a developer cartridge for electrostatic charge image development, an image forming apparatus and a process cartridge.例文帳に追加

本発明の課題は、画質の低下を抑制し、定着条件によらず加熱定着時における臭気の発生を抑制した静電荷現像用トナー及びその製造方法、静電荷現像用現像剤、静電荷像現像用現像剤カートリッジ、画像形成装置、並びに、プロセスカートリッジを提供することである。 - 特許庁

To provide a process for forming an etching resistant resin layer which perfectly fills an ostium opening pattern formed in a metal sheet and does not leave bubbles in the ostium opening pattern, that is, which does not proceed an anomalous etching, and to provide a method for manufacturing a shadow mask using the forming method.例文帳に追加

金属薄板上に形成された小孔開口パターンへのエッチング耐触樹脂の充填が完全であり、且つ小孔開口パターンに気泡を残留させない、すなわち、異常エッチングを進行させないエッチング耐蝕樹脂層の形成方法、及びこの形成方法を用いたシャドウマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a square battery can improved in productivity by reducing the number of process even in the case of using a DI method and having a high energy density and a required pressure proof strength, and to provide a manufacturing method thereof and a square battery using the same.例文帳に追加

ＤＩ工法を用いながらも工程数を低減して生産性の向上を図ることができ、寸法精度が高く、且つ高エネルギー密度と所要の耐圧強度を有する角形電池缶を得ることができる角形電池缶およびその製造方法並びにその角形電池缶を用いた角形電池を提供する。 - 特許庁

To realize a component supply management system with residual number management, capable of executing a proper process when a discontinued component is generated, and allowing reduction of the number of components to be executed with disposal processing, reduction of an excessive stock amount, and reduction of a manufacturing stop period of a finished product using the discontinued component.例文帳に追加

製造中止部品が発生した場合に適切な処理が実行でき、廃棄処分としなければならない部品数の減少、余剰在庫数の減少、製造中止部品を使用する完成品の製造停止期間の減少が可能な残数管理付き部品供給管理システムを実現する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that stably exhibits a high reverse recovery withstand independently of the existence and nonexistence of the defects caused during the wafer process for manufacturing the semiconductor device, even if the semiconductor device is a pn-junction diode having a structure, in which an anode electrode is formed on an outer circumferential portion surface of a p-type anode diffusion region with an insulating film interposed.例文帳に追加

ｐ型アノード拡散領域の外周部表面に絶縁膜を介してアノード電極が設けられる構造を有するｐｎ接合ダイオードであっても、該ダイオードを製造する際のウエハプロセスに起因する欠陥の有無に依らず、安定的に高い逆回復耐量を有する半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a toner for developing an electrostatic charged image capable of obtaining a high density image while maintaining low-temperature fixability, even under a high-temperature high humidity condition, and capable of restraining fogging, and a manufacturing method therefor, a developer for developing the electrostatic charge image containing the toner for developing the electrostatic image, a toner cartridge, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

高温高湿条件下においても、低温定着性を維持しつつ、高濃度画像が得られ、かぶりを抑制できる静電荷像現像用トナー及びその製造方法、該静電荷像現像用トナーを含む静電荷像現像用現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

H_2 gas is introduced during film formation of an Si layer 3 having a high compression stress, in a process for manufacturing the multilayered film reflecting mirror by film-forming Mo layers 2 and the Si layers 3 alternately on a substrate 1, by a magnetron spattering device, to contain the hydrogen in the Si layer 3, and the compression stress in the film is thereby reduced.例文帳に追加

マグネトロンスパッタ装置によって、基板１上にＭｏ層２とＳｉ層３を交互に成膜し、多層膜反射鏡を製作する工程において、圧縮応力の大きいＳｉ層３の成膜中にＨ_2 ガスを導入し、Ｓｉ層３に水素を含有させることで、膜内の圧縮応力を低減する。 - 特許庁

This method for welding the grain-oriented electromagnetic steel sheets after having been secondary-recrystallization-annealed with each other comprises controlling the thickness of an oxide layer formed on the surface of the steel sheet to 1.0 μm or less, without forming a forsterite film on the surface of the steel sheet in the process of manufacturing the grain-oriented electromagnetic steel sheet; and welding them.例文帳に追加

二次再結晶焼鈍後の方向性電磁鋼板同士を溶接するに際し、上記方向性電磁鋼板の製造過程において鋼板表面にフォルステライト被膜を形成させることなく、かつ鋼板表面に形成された酸化物層の厚みを 1.0μm 以下とした上で、溶接を施す。 - 特許庁

To provide: an aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, which is not repeatedly used through a simple process while having superior polishing performance for a metal film of copper etc., a barrier metal film of tantalum etc., and an insulating film; a method of manufacturing the aqueous dispersion for the chemical mechanical polishing; and a method for the chemical mechanical polishing.例文帳に追加

本発明は、銅などの金属膜、タンタルなどのバリアメタル膜、絶縁膜の研磨性能に優れると同時に、簡単な工程を経ることにより繰り返し使用することの可能な化学機械研磨用水系分散体、化学機械研磨用水系分散体の製造方法および化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the organic EL display device 100 is provided with an organic layer deposition process in which a mask 200 is fitted on the substrate 110 through a plurality of mask spacers 123 arranged on the substrate 110, and an organic layer 124 is formed at a predetermined part of the surface of the substrate 100 by deposition from a lower part of the substrate 110.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置１００の製造方法は、基板１１０上に、該基板１１０上に配設された複数のマスクスペーサ１２３を介してマスク２００を設け、該基板１１０下方からの蒸着により該基板１１０表面の所定部分に有機層１２４を形成する有機層蒸着工程を備えている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which achieves a reduction in the parasitic resistance of transistors by adopting a silicide layer in active regions of the transistors, when the transistors are formed by using a substrate of which the semiconductor layer is thin as in an FD-SOI, while avoiding an increase in a leakage current by a relatively simple process.例文帳に追加

ＦＤ−ＳＯＩの如き半導体層の厚みが薄い基板を使用してトランジスタを形成する際に、比較的簡便なプロセスでリーク電流の増加を回避しつつ、トランジスタの活性領域にシリサイド層を導入してトランジスタ寄生抵抗の低減を実現し得る半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The composite of hydrides is obtained by compounding in a mechanically mixing process one or more kinds of borohydrides represented by X(BH_4)_m (wherein m is a valence number of the element X) and one or more kinds of amides represented by Y(NH_2)_n (wherein n is a valence number of the element Y) and the manufacturing method thereof is provided.例文帳に追加

Ｘ(ＢＨ_４)_ｍ（ｍは、元素Ｘのイオンの価数）で表される１種又は２種以上のボロハイドライドと、Ｙ(ＮＨ_２)_ｎ（ｎは、元素Ｙのイオンの価数）で表される１種又は２種以上のアミドとを機械的混合プロセスで複合化することにより得られる水素化物複合体及びその製造方法。 - 特許庁

To provide an input schedule preparation system and a method capable of appropriately maintaining the operating state of a treatment facility in a process system factory having a production line very large in the number of manufacturing processes and long in move, and to provide a storage medium in which the program therefor is stored.例文帳に追加

本発明は、製造工程数が極めて多く、手番が長い生産ラインを有するプロセス系工場等において、処理設備の稼動状態等を適正に維持することができる投入計画作成システム及び投入計画作成方法並びにそのプログラムを格納した記憶媒体を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a reinforced concrete structure includes a process for adding a carbon extract, which is obtained by putting a solid carbide prepared by compressing carbide particles into water, heating the water to bring it to a boil, and then slowly cooling it, and mixing together when mixing cement, water, coarse aggregate, and fine aggregate.例文帳に追加

粒状の炭化物を圧縮して作った炭化物の固形体を水に入れ加熱し沸騰させた後に徐冷することによって得られる炭素抽出液を、セメント、水、粗骨材、および細骨材を混合する際に添加する工程を含むことを特徴とする鉄筋コンクリート構造体の製造方法が提供される。 - 特許庁

The plate having the rigidity and mass sufficient for suppressing the warpage of resin substrates, preventing the dislodgment of the resin substrate from a device and substrate transportation system and preventing the wrinkling and waving generated in automatic positioning of the resin substrates is superposed and fixed as the auxiliary plate and is fed into the liquid crystal cell manufacturing process.例文帳に追加

樹脂基板の反り抑制、樹脂基板の装置ないし基板搬送系からの脱落防止および樹脂基板自動位置合わせ時に発生する皺やうねりの防止を目的に充分な剛性と質量を有する板を補助板として、樹脂基板に重ねて固定し液晶セル製造工程に投入する。 - 特許庁

The method for manufacturing a silica-based hollow particle dispersed body contains a process wherein a part or the whole of a core particle is removed by adding an organic acid having at least 2 or more Broensted acid groups into an aqueous medium in which core-shell particles having a silica-based coating layer formed on the surface of a core particle are dispersed.例文帳に追加

本発明に係るシリカ系中空粒子分散体の製造方法は、コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子を分散させた水系媒体中に、少なくとも２以上のブレンステッド酸性基を有する有機酸を加えて、コア粒子の一部または全部を除去する工程、を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device that manufactures a mesa-type semiconductor device in which a channel stopper is prepared at the bottom surface of its groove, which does not require a mask forming process for forming a channel stopper, and which has no need of precise etching techniques when forming the groove.例文帳に追加

溝の底面にチャネルストッパを設けたメサ型の半導体装置を製造する半導体装置の製造方法であって、チャネルストッパを形成するためのマスク形成工程を必要とせず、かつ、溝を形成する際に精密なエッチング技術を必要としない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The apparatus 10 for manufacturing the thin film of lithium metal or lithium alloy by the vapor-phase process has: a heater 12 for melting the lithium metal adhering to the inner wall of the apparatus and/or the member provided inside the apparatus after thin film deposition; and a vessel 13 for recovering the resultant melted lithium metal.例文帳に追加

リチウム金属またはリチウム合金からなる薄膜を気相法により製造する装置１０は、薄膜を形成した後、装置の内壁および／または装置内に設けられた部材に付着したリチウム金属を溶融させるためのヒータ１２と、溶融させたリチウム金属を回収するための容器１３とを備える。 - 特許庁

A process of manufacturing heat absorbing substrate wherein a large number of holes can be produced employing gas phase etching medium in equal proportion of O2, Ar and CCl2F2, and exposing the medium to the substrate, the substrate is placed near the sputterable component, and …effect sputtering, and complete etching are conducted. 例文帳に追加

多数の空孔を生成するように、ガス状エッチング媒体として等比率のO2、Ar、及びCCl2F2を使用し、該ガス状エッチング媒体に基板をさらすことからなる基板の製造方法において、基板をスパッタ可能な組成の近くに置きスパッタをさせ、エッチングすることを特徴とする熱吸収基板の製造方法。 - 特許庁

A method for manufacturing the electric element constituted of arranging an electric element characteristic determination member 3 between a pair of electrodes 2 has a process for adjusting the characteristic values of the electric element by removing a surface substance from the determination member 3 by using electric discharge in gas as a driving force.例文帳に追加

対となる電極２間に電気素子特性決定部材３が配されてなる電気素子の製造方法において、電気素子特性決定部材３に対し気体中での放電を駆動力とする表面物質の除去を施すことで、当該電気素子の特性値を調整する過程を経ることを特徴とする。 - 特許庁

To prevent the dropout of an embedded green sheet of a different material from a different material composite green sheet during a manufacturing process when the green sheet is thick, and even when the green sheet is thinned to 50 μm or less to further multilayer a multilayered ceramic substrate or reduce the size thereof and to increase a degree of freedom in designing.例文帳に追加

グリーンシートが厚いときはもちろんのこと、多層セラミック基板のより多くの多層化或いは小型化並びに設計の自由度向上のために、５０μｍ未満と薄層化したとしても、異材質複合グリーンシートのうち、異材質の嵌めこんだグリーンシートを製造工程中で脱落させないことである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of wiring board, requiring no process for removing unwanted plating catalyst nuclei remaining between conductor layers of an insulating substrate, in which wiring can be formed with high density by preventing the conductor layer from being deposited at an unwanted part of the insulating substrate to cause short circuit between the conductor layers.例文帳に追加

絶縁基板の導体層間に残留する不要なめっき触媒核を除去する工程を必要とせず、また、絶縁基板の不要な部分に導体層が析出し導体層間のショート不良が発生するのを防止し、高密度な配線形成を可能とする配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric ceramic composition with a low dielectric loss even in a high frequency band manufactured by an economical low temperature process and to provide a method for manufacturing a ceramic capacitor using the composition.例文帳に追加

高周波数帯域においても誘電体損失が小さく、安定した特性を有し、しかも低温での焼成を実現することで電極材料に卑金属を用いることができ、したがって、製造コストを大幅に低下させることができる誘電体磁器組成物とそれを用いた磁器コンデンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a toner manufactured by a polymerization process has a step for transferring a treating liquid containing at least colored particles, wherein piping whose inner face has been smoothed is used as transfer piping 6, 13 and transfer is carried out at ≥0.7 m/sec flow rate.例文帳に追加

重合法により製造されるトナーの製造方法であって、少なくとも着色粒子を含有する処理液を移送する工程を有し、その際の移送配管６，１３として、内面を平滑化したものを用い、かつ、移送速度を流速０．７ｍ／ｓｅｃ以上の条件で行うことを特徴とする。 - 特許庁

The process for manufacturing the W type ferrite comprises formulating an M type ferrite compound and a spinel type compound in a compositional ratio corresponding the W type ferrite compound to obtain a mixed powder, then conducting the powder metallurgy molding of the mixed powder, firing and further pulverizing the same if desired.例文帳に追加

Ｗ型フェライトを製造するにあたり，Ｍ型フェライト化合物とスピネル型フェライト化合物とを，Ｗ型フェライト化合物に対応する組成となる量比で配合した混合粉を得，この混合粉を圧粉成形し，焼成し，さらに，所望により，粉砕することを特徴とするＷ型フェライトの製造方法である。 - 特許庁

To provide a technique for improving the manufacture yield of a semiconductor product without spoiling speediness of inspection for a manufacturing technique for semiconductor product including an inspection process for a multilayer wiring layer by a method of efficiently improving a detection rate and in a manner of reducing the probability that an undetected part becomes defective.例文帳に追加

効率的に検出率を向上する方法及び未検出箇所が不良になる確率を低減させる手法により、多層配線層の検査工程を含む半導体製品の製造技術において、検査の迅速性を損なうことなく、半導体製品の製造歩留まりを向上させる技術を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the circuit board includes a process for forming the adhesive layer 33 to the conductor having at least one patterend surface and bonding the patterned conductor and the board, wherein the adhesive layer 33 contains (a) an organic solvent soluble polyimide, (b) an epoxy compound and (c) a curative agent.例文帳に追加

少なくとも片面がパターニングされた導電体に接着剤層を設け、パターニングされた導電体と基板とを貼り付ける工程を含む回路基板の製造方法であって、接着剤層が、（ａ）有機溶媒可溶性ポリイミド、（ｂ）エポキシ化合物、（ｃ）硬化剤を含有することを含む回路基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor device together with its manufacturing method where an amorphous semiconductor film is crystallized in a heating process along with irradiation of strong beam such as laser beam, ultraviolet ray, and infrared ray to raise orientation of a resultant crystalline semiconductor film, and the crystalline semiconductor film is used to form an active region.例文帳に追加

非晶質半導体膜を加熱処理とレーザー光または紫外線、赤外線などの強光の照射により結晶化して得られる結晶質半導体膜の配向率を高め、そのような結晶質半導体膜で活性領域を形成した半導体装置及びその作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electrically conductive rubber roller having an elastic layer made of vulcanized rubber containing at least epichlorohydrine rubber on a core metal unit to improve dispersion property and the environment in a manufacturing process without causing pollution of a photosensitive body and affecting quality of the appearance adversely.例文帳に追加

芯金上に少なくともエピクロルヒドリンゴムを含有する加硫ゴムからなる弾性層を有する導電性ゴムローラにおいて、感光体汚染や外観品質に悪影響を与えること無しに、分散性や製造工程での環境面を向上させた導電性ゴムローラを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a new rubbery polymer latex which enables industrial production by large equipment without having a process to remove remaining monomers from a rubbery polymer latex of which the reaction has been finished, and/or without causing an increase of gel content (an excess cross linking) in latex storage time.例文帳に追加

反応を完結したゴム質重合体ラテックスから残存単量体を除去する工程及び／又はラテックス貯蔵時においてゲル含有量の上昇（過剰架橋）を発生させることなく、大型装置での工業的生産を可能とする新たなゴム質重合体ラテックスの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a syringe which can utilize the former design and the manufacturing process as it is without a drastic change of design, does not generate an oil droplet even when it is used for the injection of a liquid medicine having a surface-active function and can suppress an increase in the sliding resistance of a gasket.例文帳に追加

大幅な設計変更を行うことなく、従来のシリンジの設計および製造工程をそのまま利用でき、かつ界面活性作用を有する薬液の注入に使用してもシリンジ内面に油滴が発生せず、ガスケットの摺動抵抗の上昇を抑えることが可能なシリンジを提供する。 - 特許庁

In the lamination process of this manufacturing method for the composite material honeycomb sandwich structure, uncured prepregs 2, of which the end parts have a non-linear shape, are stepwise laminated on an uncured prepreg 1, which is obtained by impregnating reinforcing fibers with a thermosetting synthetic resin, to form a first prepreg laminated surface plate 3.例文帳に追加

本発明に係る複合材料ハニカムサンドイッチ構造の製造方法は、その積層工程において、熱硬化性合成樹脂を強化繊維に含浸させた未硬化のプリプレグ１に、端部が非直線形状をなす未硬化のプリプレグ２を段状に積層し、第１プリプレグ積層面板３を形成する。 - 特許庁

A method of manufacturing an electrode for a lithium secondary battery includes a process of depositing an active material capable of storing and releasing lithium on a collector to form a thin film under a decompressed atmosphere containing steam, with a pressure of steam under the decompressed atmosphere of 1/17 or more of the decompressed atmosphere.例文帳に追加

水蒸気を含む減圧雰囲気下で、リチウムを吸蔵および放出可能である活物質を集電体上に堆積させて薄膜を形成する工程を含み、前記減圧雰囲気における水蒸気の圧力が前記減圧雰囲気の圧力の１７分の１以上である、リチウム二次電池用電極の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing process of the flexible metal foil laminate is characterized in that a heat-resistant polyimide layer and the metal foil are laminated through a thermo-compression and cooling under pressure with a double belting press, wherein the double belting press is capable of high temperature heating and cooling under pressure.例文帳に追加

ダブルベルトプレスは加圧下に高温加熱−冷却を行なうことができるものを用い、熱圧着性の芳香族ポリイミド層を介して、高耐熱性の芳香族ポリイミド層と金属箔とが、ダブルベルトプレスを用いて加圧下に熱圧着−冷却して積層することを特徴とするフレキシブル金属箔積層体の製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a heterojunction bipolar transistor that can be selectively etched, can adopt an HBT layer structure containing a semiconductor material with improved adhesion with a mask pattern, forms a guard ring with improved reproducibility without losing the easiness of a guard ring formation process, and has the improved reproducibility of HBT element characteristics, and its manufacturing method.例文帳に追加

選択エッチング可能であり、マスクパターンとの密着性の良好な半導体材料を含むＨＢＴ層構造を採用し、ガードリング形成工程の容易さを損なうことなくガードリングを再現性よく形成し、ＨＢＴ素子特性の再現性が良好なヘテロ接合バイポーラトランジスタおよびその作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a tape carrier for a semiconductor device which can improve a transfer property in the case of flip chip connection in a carrier tape for a semiconductor device, eliminate thermal deformation in the case of heating in a manufacturing process, and improve the yield and productivity of a product (semiconductor device).例文帳に追加

本半導体装置用テープキャリアにおけるフリップチップ接続時の搬送性を良くすることができると共に製造過程での加熱時の熱変形を無くすことができ、これによって製品（半導体装置）の歩留まりと生産性を向上させることができる半導体装置用テープキャリアを提供する。 - 特許庁

To provide a sheet embedding an electrode in which degradation of short rate and fall of breakdown strength can be suppressed even if a dielectric layer is made thin, and to provide a process for manufacturing a highly reliable high capacity multilayer ceramic capacitor by using a thin sheet.例文帳に追加

本発明は、薄いシートを用いて高容量・高信頼性の積層セラミックコンデンサを製造する方法に関するものであり、誘電体層を薄層化してもショート率の悪化・絶縁耐圧の低下を抑制できる、電極埋め込みシート及びそれを用いた積層セラミックコンデンサの製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To lessen dispersion in etched dimensions in a base barrier metal layer by completing with one patterning of a resist into an etching mask when an aluminum alloy wiring layer not less than 3 μm in thickness deposited on the base barrier metal layer is patterned as desired in a semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加

半導体装置の製造プロセスにおいて、下地バリアメタル層の上に、３μｍ以上の厚さのアルミニウム合金層が積層された積層配線層を所望のパターンに成形するにあたり、エッチングマスクとなるレジストのパターニングを１回で済ませ、下地バリアメタル層のエッチング寸法のばらつきを小さくすること。 - 特許庁

(5) The term "Oil Refinery" as used in this Act means an business that manufactures Designated Oil Products using Specified Facilities (excluding by-products of Designated Oil Products technically produced in the manufacturing process of non-Designated Oil Products), and "Oil Refiner" means any individual or juridical person operating a Oil Refinery. 例文帳に追加

５　この法律において「石油精製業」とは、特定設備を用いて指定石油製品の製造（指定石油製品以外の物品の製造工程における技術的理由による指定石油製品の副生を除く。）を行う事業をいい、「石油精製業者」とは、石油精製業を行う者をいう。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a dresser capable of suppressing the decline of dressing capability by suppressing the deflected abrasion of abrasive grains of the dresser and to provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of suppressing the generation of scratches and the generation of polishing amount fluctuation in the CMP(chemical mechanical polishing) process of the surface of a semiconductor substrate by the dresser.例文帳に追加

ドレッサの砥粒の偏摩耗を抑制することにより、ドレス能力の低下を抑制可能なドレッサを提供し、また、上記ドレッサにより、半導体基板の表面のＣＭＰ工程において、スクラッチの発生および研磨量ばらつきの発生を抑制可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a process for manufacturing the easily polymerizable compound e.g. (meth)acrylic acid, this method is characterized in that the temperature of feeding a liquid containing (meth)acrylic acid discharged as the out-of- specification product into the storage tank is controlled to the temperature of the out-of-specification liquid stored in the storage tank or below.例文帳に追加

（メタ）アクリル酸類である易重合性化合物を製造するプロセスにおいて、オフスペック品として排出される（メタ）アクリル酸類を含有する液を貯蔵タンクへ供給する際の温度を、当該貯蔵タンク内に貯蔵されたオフスペック液の温度以下に制御することを特徴とする易重合性化合物の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an organic EL panel having at least a first electrode, one layer or more of organic functional layers, a second electrode, and a sealing layer on a belt-shaped flexible base material, in which a roll-to-roll process realizes high production efficiency and stable performance quality, and provide an organic EL display.例文帳に追加

帯状の可撓性基材上に少なくとも第１電極と、１層以上の有機機能層と、第２電極と、封止層とを有する有機ＥＬパネルを、ロールツーロール方式により生産効率が高く、性能品質が安定している有機ＥＬパネルの製造方法及び有機ＥＬ表示装置の提供。 - 特許庁

The method of manufacturing a strontium carbonate particle includes: a wet type reaction process of a strontium source and a carbonate source, wherein the reaction is performed in a reaction vessel having a stirring means by the stirring condition of 1.0×10^2 kW/m^3 to 1.0×10^4 kW/m^3 of a stirring input density.例文帳に追加

炭酸ストロンチウム粒子の製造方法であって、ストロンチウム源と炭酸源との湿式反応工程を含み、前記反応は、攪拌手段を備えた反応器中で、１．０×１０^２ｋＷ／ｍ^３〜１．０×１０^４ｋＷ／ｍ^３の攪拌動力密度での攪拌下で行われる製造方法を提供する。 - 特許庁