「Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(956ページ目) - Weblio英語例文検索

Later, the connection terminal part 15 is inserted into a hole part 4b formed on the circuit board 4, soldered to the ground pattern 4a of the circuit board 4, and static electricity charged on the jack 7 is discharged from the grounding connection wire rod 10 to the ground pattern 4a.例文帳に追加

この後、接続端部１５を回路基板４に形成する孔部４ｂに挿入し、回路基板４のグランドパターン４ａに接続端部１５を半田付けして、ジャック７に帯電する静電気をアース接続用線材１０からグランドパターン４ａへ放電する。 - 特許庁

Each color image pattern of a rectangular shape on the moving medium 53, which is formed on the second area sensor 66, is photoelectrically converted as an optical image, edge positions of both major sides of the image pattern are detected while setting a threshold and the center of the edge positions is set as a forming position.例文帳に追加

第２エリアセンサ６６に結像された移動媒体５３上の矩形状の各色画像パターンが光学像として光電変換され、画像パターンの長辺両側のエッジ位置を、しきい値を設定して検出し、その中央を形成位置とする。 - 特許庁

Each interval between a reference color pattern image and a pattern image of each color other than the reference color is determined as an interval for decreasing each difference between a total change amount of the reference color and a total change amount of each color other than the reference color.例文帳に追加

基準色のパターン画像と基準色以外の各色のパターン画像との間の間隔はそれぞれ、基準色についての合計変化量と、基準色以外の各色の合計変化量との差分をそれぞれ低減する間隔として定められる。 - 特許庁

A circuit board 3 is also arranged at the middle position between the probe 6 and the termination face 1b of the waveguide, a first probe 5 for main polarization detection is subjected to pattern formation on the circuit board 3, and a reflecting surface 4 of the probe 6 is also subjected to pattern formation.例文帳に追加

また、第２のプローブ６と導波管１の終端面１ｂの中間位置に回路基板３を設置し、この回路基板３に主偏波検出用の第１のプローブ５をパターン形成すると共に、第２のプローブ６の反射面４をパターン形成する。 - 特許庁

A test pattern data is input into a data input of the IP core 12, an output data output from a data output of the IP core 12 is compared with an expected value for the test pattern data, and the power source noise resistance is inspected when testing a function of the IP core 12.例文帳に追加

ＩＰコア１２のデータ入力にはテストパターンデータが印加され、ＩＰコア１２のデータ出力から出力される出力データとテストパターンデータに対する期待値と比較してＩＰコア１２のファンクションテスト時に電源ノイズ耐性の検査を行う。 - 特許庁

A first correction component (an amount of OPC correction) of the optical proximity effect is determined from an amount of deviation ΔP from the ideal (design) pattern of the prediction pattern and the amount of the correction is calculated by adding a second correction component (ΔF/MEEF) meeting the simulation error to the first correction component.例文帳に追加

予測パターンの理想（設計）パターンからのずれ量ΔＰから光近接効果の第１補正成分（ＯＰＣ補正量）を求め、当該第１補正成分にシミュレーション誤差に応じた第２補正成分（ΔＦ／ＭＥＥＦ）を付加して補正量を算出する。 - 特許庁

When the generation of a specified variation pattern (super ready-to-win state or the like) has been determined conforming to a suspended memory, a reading-ahead notice which is executed over a plurality of times of variations prior to the starting of variations based on the specified variation pattern conforming to the suspended storage is executed.例文帳に追加

保留記憶にもとづいて特定の変動パターン（スーパーリーチ等）になると決定されている場合に、当該保留記憶による特定の変動パターンにもとづく変動が開始される前の複数回の変動に亘って実行される先読み予告を実行する。 - 特許庁

In a control part 19, an instruction of the effect for renewing the reference pattern candidate for an instruction renewal part 15 in response to the processed result of the comparison part 18, and the instructed reference patterns 41, 42,..., 4n are taken out from the reference pattern registration part 14 by the designation candidate taking-out part 17.例文帳に追加

制御部19では、比較部18での処理結果に応じて、指定候補更新部16に対して基準パターンの候補を更新する旨の指令が出され、指定候補取出し部17により、基準パターン登録部14からその指定された基準パターン41，42，…，4nが取り出される。 - 特許庁

Then correction figure data to modify the figure of a correction portion to correct the optical proximity effect are created based on the design pattern data, and the obtained correction figure data are compounded in the width-corrected pattern data by using the correction portion data (S12, S14).例文帳に追加

次いで、光近接効果を補正するために補正部分の形状を変形させるための補正用形状データを、設計パターンデータに基づいて生成し、この補正用形状データを、補正部分データを用いて、幅補正後パターンデータに合成する（Ｓ１２及びＳ１４）。 - 特許庁

To provide a colorful pile gauze while making most of the characteristic of the gauze in a method of weaving the pile gauze having a picture pattern of a colorful multiple-layered structure by making multiple layers with piling different color pile layers on a gauze layer while realizing the color of each layers at a substrate and the part of the pattern.例文帳に追加

ガーゼ層に異なる色のパイル層を重ねて多層化し、基体や柄の部分に各層の色を具現しながらカラフルな多層構造の絵柄付パイルガーゼを製織する方法において、ガーゼの特質を活かしつつカラフルなパイルガーゼを提供する。 - 特許庁

Thereby, since the energizing structure is formed, when a pattern is deep etched at the silicon layer 150 and the oxide layer 130, it is hard to concentrate charge on the lower part of the etching pattern which touches the oxide film layer 150, and the generation of the notch can be suppressed.例文帳に追加

これにより、前記通電構造が形成されるので、シリコン層１５０および酸化膜層１３０にかけてパターンをディープエッチングする際に、酸化膜層１５０と接するエッチングパターンの下部に電荷が集中しにくく、ノッチの発生を抑えることができる。 - 特許庁

A special pattern display device 6 has a total of nine display areas including eight special pattern display areas 6a to 6h to display special patterns, and another operation display area 6i to display notification patterns to notify a coming finalization condition.例文帳に追加

特別図柄表示装置６は、特別図柄を表示する８つの特別図柄表示領域６ａ〜６ｈと、リーチ状態となることを予告する予告図柄を表示する別動作表示領域６ｉとの、合わせて９つの可変表示領域を有している。 - 特許庁

A mask 10 having a machining pattern for a laser machining is formed of a mask member layer 12 made of a metallic material having the machining pattern and a first and a second base plate members 11 and 13, composed of a laser beam transmissible material, which clamp the mask member layers on the upper and lower faces.例文帳に追加

レーザ加工用の加工パターンを持つマスク１０を、前記加工パターンを持つ金属材料によるマスク部材層１２と、該マスク部材層を上下両面から挟んでいるレーザ光の透過材料より成る第１、第２の基板部材１１、１３とで形成した。 - 特許庁

The method for reflow soldering comprises the steps of setting a board 1 having a conductor pattern 2 to a jig 10 (1), supplying a solder foil 14 without flux onto the conductor pattern 2, further supplying a ceramic capacitor 4 and a power semiconductor element 5, and supporting the capacitor 4 to a receiving member 17 (2).例文帳に追加

導体パターン２を設けた基板１を治具１０にセットした後（ ）、導体パターン２上に、フラックスレスのはんだ箔１４を供給し、さらに、セラミックコンデンサ４とパワー半導体素子５とを供給し、セラミックコンデンサ４は受部材１７に支承させる（ ）。 - 特許庁

Using the feature in which the pattern of the "acupuncture point" positions has specificity per type of diseases, database for the pattern is stored in advance from clinical data, and patient's state is compared with the database every time the patient is diagnosed so that the prodromal stage of a disease can be found at an early stage.例文帳に追加

「ツボ」位置のパターンに疾病の種類毎に特異性がある特徴を利用して、あらかじめ臨床データからこのパターンに係るデータベース積み上げ、患者を検診する毎にデータベースと比較検討して、疾病の前駆状態を早期に発見可能とする。 - 特許庁

A CPU 10, measurement pattern data generation parts 2, 3, 4, 5, 6, and 7, design-side data generation parts 12 and 13, a comparison circuit 14 for comparing measurement pattern data with design-side data, a retry requirement-judging means 69, and a repeated inspection instruction means 61 are at least provided.例文帳に追加

ＣＰＵ１０と、測定パターンデータ生成部（２，３，４，５，６，７）と、設計側データ生成部（１２，１３）と、測定パターンデータと設計側データとを比較する比較回路１４と、リトライ必要性判定手段６９と、繰り返し検査命令手段６１とを少なくとも有する。 - 特許庁

When a specific pattern combination is formed on a pattern display device, the prize-winning ball temporarily held by the ball holding and guiding member is discharged to a first ball passage and discharge route and detected by a prize-winning device operation switch provided at the first ball passage and discharge route.例文帳に追加

図柄表示装置で特定の図柄組合わせが成立した場合には、球停留誘導部材に一時停留されていた入賞球は第１球通出路へ通出され、該第１球通出路に設けた入賞装置作動スイッチで検出される。 - 特許庁

The method for manufacturing the thin film magnetic head has a stage for film-depositing a material 13 lifted-off by a resist pattern 12 for lift-off and a stage for successively deforming the resist pattern 12 for lift-off by heat treatment to give stress to the film 13 of the material lifted-off.例文帳に追加

リフトオフ用レジストパターン１２にリフトオフされる材料１３を成膜する工程と、その後熱処理によりリフトオフ用レジストパターン１２を変形させてリフトオフされる材料の膜１３にストレスを与える工程とを有して薄膜磁気ヘッドを製造する。 - 特許庁

To reduce control burdens relating to command transmission and reception when restarting power supply and to prevent the fact that a specified display result is to be derived and displayed at one special pattern display device from being predicted by the display form of the other special pattern display device.例文帳に追加

電力供給再開時のコマンド送受に関わる制御負担を軽減し、一方の特別図柄表示器に特定表示結果が導出表示されることが、他方の特別図柄表示器の表示態様によって予測可能となってしまうことを防止する。 - 特許庁

The method of forming wiring includes: jetting a colloidal metal solution onto a base material 10 by an inkjet system based on image data of a conductive pattern 14 and drawing; and then executing wet heat treatment on the base material to form a wiring having the conductive pattern.例文帳に追加

基材１０上に、導電性パターン１４の画像データに基づいて、金属コロイド溶液をインクジェット方式により吐出して描画した後、前記基材上に、湿熱処理を施して前記導電性パターンを持つ配線を形成する配線形成方法。 - 特許庁

In this case, a required bobbin thread quantity operation program storage means 17 is arranged to thereby arithmetically operate required bobbin thread quantity by required bobbin thread quantity corresponding to pattern seam information prestored in a storage means 19 and an operation expression of a correction factor different by a thickness of cloth, a kind of the cloth, a kind of thread and deformation of a pattern.例文帳に追加

本発明は、所望の模様を選択するだけで予め必要な下糸の量が表示されるので、ボビンの下糸量を確認して縫うことができ、縫製途中での下糸不足による下糸切れを生じる恐れがなくなる。 - 特許庁

When the scanning of the data of the image memory 3 is completed, a pattern confirmation image and a structural analysis result displaying the original image stored in the pattern confirmation part 5 and the stored symbolic mark in consideration of the phase coupling relation of the spatial arrangement of molecule constituting elements are displayed.例文帳に追加

画像メモリ３のデータを走査し終えると、パターン認識部５に保存された原画像、保存した象徴する記号を分子構成要素の空間配列の位相結合関係に配慮しながら表示したパターン認識画像、及び構造解析結果を表示する。 - 特許庁

To provide a titanium black dispersion composition for a solid state imaging element, wherein the storage stability of a dispersion composition containing titanium black is high, and to provide a black radiation-sensitive composition, in which roughness is not generated on the upper face of the pattern and flatness is excellent when forming a pattern.例文帳に追加

チタンブラックを含む分散組成物の保存安定性の高い固体撮像素子用のチタンブラック分散組成物、およびパターン形成したときに、パターン上面の荒れが発生せず、平坦性の良好な黒色感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for suppressing the generation of residues after the development of a resist film thereof, while maintaining good adhesion of the resist film to a substrate so as to form a fine resist pattern, and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

微細なレジストパターンを形成するためにレジスト膜と基板との密着性を良好に維持しつつも、レジスト膜の現像後の残渣の発生を少なく抑えることができるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

A changeover means MUX is provided to each of test pattern supply routes and, by this changeover means, a state applying a terst pattern to each semiconductor device to be tested and a state applying an original parameter to each semiconductor device to be tested can be changed over.例文帳に追加

各試験パターン供給経路に切替手段ＭＵＸを設け、この切替手段により試験パターンを被試験半導体デバイスに印加する状態と、各被試験半導体デバイスの各個に独自のパラメータを印加する状態に切り替ることができる構成とした。 - 特許庁

In a code block for a scanner designed for the scanner, the synchronization pattern belonging to A set is arranged in a block 740 at the upper left, and the synchronization pattern belonging to B set is arranged at a block 744 at the upper left of a code block for a pen designed for a pen device in it.例文帳に追加

スキャナ向けに設計されたスキャナ用符号ブロックでは、左上のブロック７４０にＡ組に属する同期パターンを配置し、その中のペンデバイス向けに設計されたペン用符号ブロックの左上のブロック７４４にＢ組に属する同期パターンを配置する。 - 特許庁

A rectangular test pattern is actually drawn in the drawing apparatus to obtain test pattern images 91a to 91f influenced by the distortion of the reflection faces or the like, and an object drawing region 92 is set in a common region 911 that is independent from the reflection faces.例文帳に追加

描画装置では矩形のテストパターンを実際に描画して反射面等の歪みの影響を受けたテストパターン画像９１ａ〜９１ｆが取得され、反射面に依存しない共通領域９１１内に対象描画領域９２が設定される。 - 特許庁

Si plates 2 disposed to surround a substrate 1 adsorb and trap the radicals produced by the decomposition of an etching gas by plasma so that the radical reaction on the pattern side faces of the etched film can be decreased and so that etching on the pattern side face can be suppressed.例文帳に追加

基板１を包囲するように配置されたＳｉ板２が、プラズマによりエッチングガスが分解されて発生したラジカルを吸着してトラップすることにより、被エッチング膜のパターン側面でのラジカル反応の確率が低下し、パターン側面でのエッチングが抑制される。 - 特許庁

The fine periodic structure m2 in submicron order is formed in the upper face of the printing plate having a printing pattern forming section corresponding to an ink pattern and in the front end face 41b' of the ring blade 41b arranged around the opening portion of the lower end of the ink container using a femto second laser.例文帳に追加

インキパターンに対応する印刷パターン成形部を有する印版の上面と、インキ容器の下端の開口部周縁に備えられたリングブレード４１ｂの先端面４１ｂ′とに、フェムト秒レーザを使用してサブミクロンオーダの微細周期構造ｍ２を形成する。 - 特許庁

The magnetic S-N servo band section and the magnetic N-S servo band section are relatively recorded on the servo track, and, based on the servo pattern of the polarity of the N magnetic pole and the servo pattern of the polarity of the S magnetic pole, servo-position information encoded by the magnetic polarity is represented.例文帳に追加

磁気Ｓ−Ｎサーボ・バンド・セクションと磁気Ｎ−Ｓサーボ・バンド・セクションとをサーボ・トラック上に相対的に記録して、Ｎ磁極の極性のサーボ・パターンとＳ磁極の極性のサーボ・パターンとに基づいて、磁極性により符号化されたサーボ位置情報を表す。 - 特許庁

To eliminate the electrode cut of an edge part and to accurately form the auxiliary conductor of a prescribed pattern with respect to a dielectric filter composed by forming the auxiliary conductor of the prescribed pattern on an open end face and conducting the auxiliary conductor with an outer conductor on the side of a side surface.例文帳に追加

開放端面に所定パターンの補助導体を形成し、該補助導体を側面側の外導体と導通させてなる誘電体フィルタにあって、エッジ部分の電極切れをなくし、所定パターンの補助導体を精度よく形成し得るようにする。 - 特許庁

Also, the objective lens is provided with a diffracted pattern on at least one surface, when luminous fluxes from the light sources of different wavelengths are condensed on an information recording surface, the 1st order diffracted light from the diffracted pattern is used in reproducing a plurality of recording media.例文帳に追加

また、対物レンズは少なくとも１つの面に回折パターンを有し、異なる波長の光源からの光束を情報記録面に集光させるとき、複数の記録媒体の再生において、共に前記回折パターンからの１次回折光を用いる。 - 特許庁

By using a density controlling transfer body having a plurality of pattern forming areas and transferring and forming the toner image of a density controlling pattern on the density controlling transfer body, the density of the toner image is detected and the result of detection is fed back to the filtering processing of image data.例文帳に追加

複数のパターン形成領域を有する濃度制御用転写体を用い、該濃度制御用転写体に濃度制御用パターンのトナー像を転写し形成して、該トナー像の濃度を検知し、検知結果を画像データのフィルタ処理にフィードバックする。 - 特許庁

By adopting the reflector 7 and using the lens 5 whose half value angle in the vertical direction is larger than that in the horizontal direction of a radiation pattern (light distribution pattern), the desirable communication angle is provided in terms of practical use and the communication distance is made longer.例文帳に追加

反射板７の採用と、放射パターン（配光パターン）の水平方向の半値角よりも垂直方向の半値角が広い投光レンズ５を用いることで、実用上、好ましい通信角を備えるとともに通信距離も長いものを得たものである。 - 特許庁

In the face of the shade subjected to the non-transmissive treatment, a plurality of fine holes 20 are formed to produce the amount of transmissive light required to form the overhead light distribution pattern in an area A required to form the overhead light distribution pattern.例文帳に追加

そして、シェードは、その不透過処理が施された面上において、オーバーヘッド用配光パターンを形成するために必要な部分Ａに、オーバーヘッド用配光パターンを形成するために必要な透過光量を得るための複数の微細な穴２０、２０…を形成している。 - 特許庁

To provide a thin-film pattern forming method using an adhesive sheet for peeling off a thin film, utilizable in methods of forming metal electrode patterns on a semiconductor substrate, etc., whereby a thin film pattern without contamination of adhesives, etc., can be formed surely.例文帳に追加

半導体基板上に金属電極パターンを形成する方法等に利用できる、薄膜剥離除去用接着シートを用いた薄膜のパターン形成方法であって、接着剤による汚染等のない薄膜パターンを確実に形成しうる方法を提供すること。 - 特許庁

The two-dimensional code pattern sheet 1 has a plane substrate 11 made of a flexible resin, a printing layer 15 with a specified two-dimensional code pattern 15 printed with oil ink on one face of the plane substrate 11, and a mat resin layer 17 covering the printing layer 15.例文帳に追加

二次元コードパターンシート１は、可撓性のある樹脂製の平面基材１１と、平面基材１１の一方の面に油性インクで印刷された所定の二次元コードパターン１５を有する印刷層１５と、印刷層１５を覆うマット樹脂層１７と、を有する。 - 特許庁

A photomask 1 has a circuit pattern forming area 13 in the central part of a mask substrate 11, and a repetitive pattern in a first area part 15a facing each side of the mask substrate 11 and in a second area parts 15b facing each of the four corners.例文帳に追加

本発明では、フォトマスク１はマスク基板１１の中央部に回路パターン形成領域１３を有し、マスク基板１１の各辺に対向する第１領域部分１５ａ及び４つの角部に対向する第２領域部分１５ｂに、繰り返しパターンを有する。 - 特許庁

A base pattern (aluminum film) 3 and an insulation film 4 being exposed on a silicon substrate 1 is treated with plasma to reform the surface (fluorination) to facilitate peeling it on the insulation film surface, without peeling the metal film on the base pattern 3.例文帳に追加

シリコン基板１の上に下地用パターン（アルミ薄膜）３と絶縁膜４が露出した状態で、プラズマ処理による表面改質を行い（Ｆ化し）、下地用パターン３では金属膜の剥離を発生させず絶縁膜部表面での剥離を容易にさせる。 - 特許庁

If the digital camera loses the object during the performance of pattern driving AF control (in a normal control state) (lost object time TL), the pattern driving AF control (an extended control state) 403 is maintained for at least a specified time t'.例文帳に追加

デジタルカメラが、パターン駆動ＡＦ制御（通常制御状態）４０２を実行中に被写体をロストした場合（被写体ロスト時点ＴＬ）、少なくとも所定時間ｔ’が経過するまでは、パターン駆動ＡＦ制御（延長制御状態）４０３が継続される。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of forming an extremely fine pattern of a high resolution, suppressing a parasitic effect and forming a field effect transistor of high performance by using electron beam lithography, and to provide a manufacturing method for a semiconductor device and the semiconductor device.例文帳に追加

電子ビームリソグラフィを用いて、高解像度の極めて微細なパターンを形成するとともに、寄生効果を抑えて高性能の電界効果型トランジスタを形成することができるパターン形成方法、半導体装置の製造方法、及び、半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which is capable of making the best of a merit of a silylation process although width of a line can be precisely and uniformly controlled through a plane independently of size and density of a pattern, a method of manufacturing a semiconductor device, and a silylation device.例文帳に追加

パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびシリル化装置を提供すること。 - 特許庁

When a certificate photograph of the person 20 wearing a dress with a pattern of lateral or longitudinal fine stripes or cross stripes is taken, the resolution of the dress can be lowered to restrain a moire pattern of the dress without deteriorating the sharpness of the face picture.例文帳に追加

被撮影者２０が細いストライプ等の縦縞や横縞、格子模様等の服装を着て証明写真を撮った場合に、服装部分の解像度を低減できるので、顔画像のシャープネスを損なうことなく、服装部分のモアレ模様を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a photomask having a new structure, which has a high contrast of transfer pattern to exposing beam, and is reduced in manufacturing cost by omitting developing step in a transfer pattern forming process, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、露光ビームに対する転写パターンのコントラストが高く、且つ、転写パターン形成過程において現像工程を省くことで製造コストの低減が図られた全く新規な構成のフォトマスク、及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A projecting and recessing pattern is constructed by using a recessing pattern formed with openings on an insulation film 3 simultaneously deposited with an insulation film composing the TFTs.例文帳に追加

基板の１主面上に、配線群と、薄膜トランジスタと、補助容量部と、凹パターン１４ｂ上に形成された反射電極１５とを有し、凹凸パターンが、薄膜トランジスタを構成する絶縁膜と同時に成膜された絶縁膜３を開口して形成した凹パターンを用いて構成される。 - 特許庁