「The Dresser」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a dressing device capable of enhancing flatness of a polished surface of a turn table by giving a dressing to the surface while controlling the attitude of a dresser main body by electromagnetic force and provide a polishing device provided with the dressing device.例文帳に追加

ドレッサー本体の姿勢を電磁気力によって制御しながらターンテーブルの研磨面のドレッシングを行うことにより、ターンテーブルの研磨面の平坦度を高めることができるドレッシング装置及び該ドレッシング装置を備えたポリッシング装置を提供する。 - 特許庁

When this is used to diamond dresser for CMP, the TiN or TiC content should preferably be not less than, 90% because not only a grain retaining force but an anti-corrosion property is of important as the properties required of the binder.例文帳に追加

ＣＭＰ用ダイヤモンドドレッサーとして用いる場合には、結合材に要求される性能が、ダイヤモンド砥粒の保持力だけでなく、耐食性も重要視されるので結合材の主成分である、ＴｉＮ又はＴｉＣは９０％以上とすることが好ましい。 - 特許庁

To eliminate danger of fall of diamond abrasive grains to a polishing cloth, reduce dresser dressing ability irregularity among products, achieve a long service life of the polishing cloth after dressing, and maintain a high polishing rate in dressing the surface of the polishing cloth to be used for polishing chemical machines.例文帳に追加

化学機械研磨に用いる研磨布表面のドレッシングに際して、研磨布へのダイヤモンド砥粒脱落の恐れがなく、ドレッサーのドレッシング能力の製品間ばらつきを低減し、ドレッシング後の研磨布の長寿命化、研磨レートの高レート維持を可能にする。 - 特許庁

To prevent generation of a micro scratch on a polished object resulting from chipping of abrasive grains by reducing dispersion in the projection height and contact surface of the abrasive grains, in a dresser for dressing abrasive cloth used in surface finishing of a semiconductor wafer and the like by CMP machining.例文帳に追加

ＣＭＰ加工による半導体ウエハなどの表面仕上げに用いる研磨布をドレッシングするためのドレッサにおいて、砥粒の突出高さおよび接触面のばらつきを低減して、砥粒の欠けに起因する被研磨物のマイクロスクラッチの発生を防止する。 - 特許庁

This constitution coacts the newly provided X slide 16 with a conventional and well-known Y slide 17 and brings the grinding wheel 4 in contact with a fixedly installed single-stone dresser 20 so as to dress the grinding wheel 4.例文帳に追加

これにより、新しく設けられた上記Ｘスライド１６と、従来から公知であったＹスライド１７とを協働せしめて、固定的に設置されている単石ドレッサ２０に対して研削砥石４を接触させることにより、該研削砥石４をドレッシングすることができる。 - 特許庁

To provide a rod for perming and a perming method using the rod enabling any hair dresser to perm the hair in a short period of time and fully expect to satisfy a customer with its naturally finished hair.例文帳に追加

どのような美容師であっても、施術を短時間で済ませることができ、しかも、仕上がりが自然となって顧客が満足することが十分期待できるパーマネント加工に用いるロッド及びそのロッドを用いた加工方法を提供しようとする。 - 特許庁

To provide a dresser of polishing cloth for a semiconductor substrate which allows manufacture of a semiconductor of long life and high quality and yield for a metal CMP using an acidic slurry, by removing the blinding of the polishing cloth and stabilizing a polishing speed.例文帳に追加

酸性スラリーを使用したメタルＣＭＰにおいて、研磨布の目詰まりを除去し、研磨速度を安定化し、長寿命であり、品質および歩留まりの高い半導体製造を可能とする半導体基板用研磨布のドレッサーを提供する。 - 特許庁

Pure water 7 is supplied from a pure water supply nozzle 8 to a polishing pad 3 by rotating a turn table 4 stuck with the polishing pad 3, a polishing head 5 for holding a semiconductor wafer 2, and a dresser 6 for dressing the polishing pad 3, respectively.例文帳に追加

研磨パッド３を貼り付けた研磨定盤４と、半導体ウエハ２を保持する研磨ヘッド５と、研磨パッド３をドレッシング処理するためのドレッサ６とをそれぞれ回転させ、純水供給ノズル８から純水７を研磨パッド３に供給する。 - 特許庁

This polishing device includes a wafer polishing part including a polishing platen, an abrasive material supplying part for supplying an abrasive material to a polishing pad arranged on the polishing platen and a wafer holding part for holding a semiconductor wafer, and a dressing part including the dresser.例文帳に追加

研磨装置は、研磨定盤と、研磨定盤上に配置される研磨パッドに研磨剤を供給する研磨剤供給部と、半導体ウェーハを保持するウェーハ保持部とを備えるウェーハ研磨部と、ドレッサを備えるドレッシング部とを具備する。 - 特許庁

A cutter 7 driven by compressed air is installed in an inserting hole 6 formed through a cutter support section 4 of the tip dresser body 1, and performs dressing (cutting and shaping) of a top face of a welding tip T which is inserted from one side of opening 6a of the inserting hole 6.例文帳に追加

チップドレッサ本体１のカッタ支持部４に貫通形成された挿入口６に圧縮空気駆動のカッタ７を設けて、挿入口６の一方の開口部６ａから挿入される溶接チップＴの先端面をカッタ７にてドレッシング（切削整形）する。 - 特許庁

To provide a dresser for polishing cloth, creating a uniformly polished surface on a surface of the polishing cloth, eliminating scratches on a wafer by the polishing cloth, in particular, caused by dissociation of grains, and decreasing a sintering temperature of a holding material, and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

研磨布用ドレッサーが研磨布表面に均一な研磨面を創出し、特に脱粒に起因する研磨布によるウェハのスクラッチがなくなり、しかも、保持材の焼結温度を低くできるようにした研磨布用ドレッサー及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A dresser body 6a is sidewise installed, a chip capturing case 12A is fitted to the tip thereof, chips generated when shaping electrode tips are captured within a case, and discharged into a chip collection vessel 13 from a chip outlet 12g opened in a lower part of the case.例文帳に追加

ドレッサ本体６ａを横向きに設置し、その先端に切粉捕捉ケース１２Ａを装着し、電極チップを整形する際に発生する切粉をケース内で捕捉し、その下部に開口されている切粉排出口１２ｇから切粉収集容器１３に排出する。 - 特許庁

By an arm entering port 41a for entering a gun arm opened on a chip catching case 41 covering a dresser body 1a, and a compressed air blown from an air nozzle 42 disposed on both sides of the arm entering port, an air curtain is formed to prevent the splashing outward of a chip generated in shaping.例文帳に追加

ドレッサ本体１１ａを覆う切粉捕捉ケース４１に開口されているガンアームを進入させるアーム進入口４１ａを、その両側に配設したエアーノズル４２から吹き出す圧縮エアーによってエアカーテンを生成し、整形時に発生する切粉の外部への飛散を防止する。 - 特許庁

To provide a dresser with a washing stand easily operable even by a physically disabled person, a child and an aged person without taking a forward falling posture by stretching arms when trying to operate an operation part arranged at the innermost side of a bowl of a face-washing counter.例文帳に追加

洗面カウンターのボウル部の奥側に配置された操作部を操作しようとして腕を伸ばして前のめりの姿勢となってしまうことがなく、身体障害者や子供、お年寄りにとっても操作し易い洗面化粧台を提供する。 - 特許庁

To provide a dressing method capable of conducting predetermined dress cutting on both a straight part and a tapered part, and appropriately dressing even when positioning relationship between a grinding wheel and a dresser is displaced due to thermal deformation in a grinding panel or the like.例文帳に追加

研削盤の熱変形等が生じて研削砥石とドレッサとの位置関係に狂いが生じてもストレート部分とテーパ部分の両者に所定のドレス切込みを行うことができ、適正なドレスを行うことができるドレス方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a high-hardness, electrically conductive polycrystalline diamond that has sufficient strength, hardness, heat resistance and oxidation resistance for use as a cutting bit, a tool such as a dresser and a die or a drill bit, is highly pure and enables electrical discharge machining at a low cost, and a method for producing the same.例文帳に追加

切削バイトや、ドレッサー、ダイスなどの工具や、掘削ビットとして適用できる、十分な強度、硬度、耐熱性、耐酸化性を有し、高純度で、かつ、低コストの放電加工が可能な、高硬度で導電性のあるダイヤモンド多結晶体及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a dresser washstand capable of keeping glasses or toothbrushes in a sanitary state such that water dropping therefrom hardly stay in the bottom of a storage box even if they are put therein in a side cabinet just after they are used.例文帳に追加

たとえば使用直後のコップや歯ブラシをサイドキャビネットの収納ボックスに置いても、コップや歯ブラシから垂れ落ちた水が収納ボックスの底部にほとんど滞留することなく衛生的に保つことのできる洗面化粧台。 - 特許庁

Pressure fluid introduced from the upper end part of the pressure fluid feed passage of the dresser body 11 is supplied in the second space part 15 from the first space part 13 through a through-hole 17, whereby the diamonds 18c arranged at each of the vertical movement members 18 is forced into slide contact with the polishing surface of the polishing pad 2 with a uniform pressure.例文帳に追加

ドレッサー本体１１の加圧流体供給路１９の上端部から導入される加圧流体は第１の空間部１３から貫通孔１７を通って第２の空間部１５に供給されるので、各上下動部材１８に設けられたダイヤモンド１８ｃは均一な圧力で研磨パッド２の研磨面と摺接する。 - 特許庁

The dresser for the abrasive cloth is provided wherein a plurality of abrasive grains are fixed in a single layer, onto the surface of a resin supporting material, a metal layer exists between the resin supporting material and the abrasive grains, and the surface of the metal layer on the side contacting the resin supporting material, has irregularities.例文帳に追加

樹脂製支持材の表面に複数個の砥粒が単層に固着された研磨布用ドレッサーであって、前記樹脂製支持材と前記砥粒との間には金属層が存在し、前記樹脂製支持材に接する側の前記金属層の表面は凹凸部を有することを特徴とする研磨布用ドレッサーを提供する。 - 特許庁

On the top face of a vacuum work table 11, a core metal blank 1a with a flange constituting a core metal 1 of the diamond rotary dresser is loaded with the flange part 1b beneath through an O ring 13, and a mother die 10 with a diamond layer formed in the previous process is fitted with the core metal port at the center and loaded on the top face of the flange 1b.例文帳に追加

真空作業台１１の上面に、ダイヤモンドロータリードレッサの芯金１を構成するフランジ付き芯金ブランク１ａを、そのフランジ部１ｂを下にしてＯリング１３を介して載置し、その芯金部分を中心に、前工程で形成されたダイヤモンド層付き母型１０を嵌め、そのフランジ１ｂ上面に載置する。 - 特許庁

To provide a dresser and dressing method for an internal gear type grinding wheel, enabling to reduce time and labor for dressing work by eliminating or simplifying the adjustment of the position of a dressing axial center relative to the center axis of the internal gear type grinding wheel when dressing the addendum face of the internal gear type grinding wheel and dressing the tooth face thereof.例文帳に追加

内歯車型砥石の歯先面のドレッシングと歯面のドレッシングとで内歯車型砥石の中心軸に対するドレス軸中心の位置の調整を不要もしくは簡略化することができて、ドレッシング作業に要する時間や労力の軽減を図ることが可能な内歯車型砥石用ドレッサーおよびドレッシング方法を提供する。 - 特許庁

The polishing device comprises a polishing table 12 to which a polishing pad 10 having a polishing face 10a is stuck, a motor 30 driving the polishing table, a holding mechanism 14 holding a substrate W having a polished object and pressing the substrate against the polishing face 10a, a dresser 20 dressing the polishing face, and a monitoring unit 53 monitoring removal amount of the polished object.例文帳に追加

本発明の研磨装置は、研磨面１０ａを有する研磨パッド１０が貼付される研磨テーブル１２と、研磨テーブルを駆動するモータ３０と、被研磨物を有する基板Ｗを保持し、基板を研磨面１０ａへ押圧する保持機構１４と、研磨面の目立てを行うドレッサー２０と、被研磨物の研磨量を監視するモニタリング装置５３とを備える。 - 特許庁

To provide a dresser and its quality control method whereby the variation of individuals is reduced and the increase of their life-time is realized with respect to the dressers used in a CMP process, to provide a CMP apparatus having the improved stability and repeatability of its polishing characteristic, and further, to provide a highly accurate and excellent semiconductor device and its manufacturing technique using the CMP apparatus.例文帳に追加

ＣＭＰ工程で使用されるドレッサにおいて、個体ばらつきを低減させ、長寿命化を実現するドレッサとその品質管理方法、また、研磨特性の安定性、再現性を向上させるＣＭＰ装置、さらに、ＣＭＰ装置を用いた高精度、高品位な半導体装置及びその製造技術を提供する。 - 特許庁

In the dressing step, to a dresser for dressing a pad on which a polished surface of a base plate abuts to chemically and mechanically polish the base pate, dressing control is carried out about each position on the pad surface according to positions in the pad surface and pad surface state information about a surface state of the pad of each position.例文帳に追加

ドレスステップでは、基板の被研磨面が押し当てられて前記基板の化学的機械的研磨を行うパッドをドレッシングするドレッサに対し、前記パッド面内での位置と、当該位置毎の前記パッドの表面状態に関するパッド表面状態情報と、に基づいて、前記パッド面の位置毎に、ドレス制御を行う。 - 特許庁

To provide a dresser for a pad-attached surface of an upper surface plate of a double-face polishing device capable of eliminating foreign matter such as fixed material and rust adhered to a pad-attached surface of the surface plate and capable of maintaining surface roughness of the pad-attached surface at the same time in good balance without changing flatness of the pad-attached surface.例文帳に追加

定盤のパッド貼着面に固着した凝縮物や錆びなどの異物の除去と、該パッド貼着面の表面粗さの維持とを、該パッド貼着面の平坦度を変化させることなく同時にかつバランス良く行うことができる、両面研磨装置における上定盤のパッド貼着面用のドレッサを得る。 - 特許庁

A semiconductor substrate 3 is placed on the upper surface of a disc-like semiconductor substrate holder table 4, with an annular bank 40 at its outer circumferential edge in a substrate holder mechanism with dresser, and a turning cup wheel-type grinding stone 50 is lowered to the rotating semiconductor substrate 3 so as to notch and grind it.例文帳に追加

ドレッサ付基盤ホルダー機構の円盤状半導体基板ホルダーテーブル４上面の外周縁部に環状堤４０を設けた円盤状半導体基板ホルダーテーブル上面に半導体基板３を載置し、回転している前記半導体基板３面に回転しているカップホイール型砥石５０を下降させながら切り込み研削をかける。 - 特許庁

This dresser has a triangular hollow polishing surface, wherein an envelope surface (p) of an outer peripheral surface of a grinding wheel 11 is formed in a triangle shape, and recess portions 12 for passing a polishing liquid are provided at positions corresponding to vertices of the triangle and contacts with an inscribed circle (q) of the envelope surface of a grinding wheel inner peripheral surface.例文帳に追加

砥石１１の外側周面の包絡面ｐがなす形状が三角形に設けられており、研磨液通過用の凹部１２がその三角形の頂点に相当する部位および砥石内周面の包絡面の内接円ｑとの接点に設けられている、中空の三角形状の研磨面を有するドレッサである。 - 特許庁

A cylindrical grinder 1 is equipped with a rotary dresser 21 rotating around an axis parallel to a horizontal axis direction of a workpiece w chucked by a headstock 2 and a tailstock 3 on the right side facing the tailstock, and includes a whetstone forming mechanism having a coarse single-stone diamond edge 22 and a fine single-stone diamond edge 23 toward a whetstone base 10.例文帳に追加

主軸台２と心押台３によりチャックされたワ−クｗの水平軸方向に平行な軸回りに回転するロ−タリ−ドレッサ２１を心押台に対向する右側に設け、粗単石ダイヤモンド刃２２と精単石ダイヤモンド刃２３を砥石台１０側に向けて備える砥石成形機構を備える円筒研削装置１。 - 特許庁