「electrolytic processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In the aluminum support for the lithographic printing plate, an oxide film is formed on an aluminum plate, to which at least an electrochemical roughening processing is applied with an electrolytic solution including sulfuric acid, through anodizing processing and further an oxide film is formed on the oxide film through anodizing processing with an electrolytic solution including phosphoric acid.例文帳に追加

少なくとも電気化学的粗面化処理を施されたアルミニウム板上に硫酸を含む電解液で陽極酸化処理を行って形成された酸化膜を有し、更にその上にりん酸を含む電解液で陽極酸化処理を行って形成された酸化膜を有することを特徴とする平版印刷版用アルミニウム支持体。 - 特許庁

To provide an efficient method in the case of improving the leakage current characteristic and the breakdown voltage characteristic of a solid electrolytic capacitor by interposing a heat treatment processing in the midway of anodic oxidation processes, in a manufacturing method of the solid electrolytic capacitor.例文帳に追加

固体電解コンデンサの製造方法であって、陽極酸化処理の途中で熱処理工程を介在させることによって、漏れ電流特性、破壊電圧特性の改善を行う場合の効率的な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a domestic gingival sulcus washing system for simultaneously satisfying conditions which are the maintenance of the sterilization power of disinfectant electrolytic water, the protection of tissue in the oral cavity, and the immediate processing of non-disinfectant electrolytic water, etc., in washing inside a gingival sulcus using electrolytic water generated by electrolyzing water containing a chlorine compound.例文帳に追加

塩素化合物を含んだ水を電気分解して生じる電解水を用いた歯肉溝内の洗浄において、殺菌性電解水の殺菌力の維持と口腔内組織の保護、並びに非殺菌性電解水の即時処理等の条件を同時に満たす、家庭用歯肉溝洗浄システムを提供する。 - 特許庁

The residue of grinding of copper 1 is eliminated by the combination of the detection of a locally-remaining grinding region of the copper 1 and local electrolytic grinding processing.例文帳に追加

局所的な銅１の研磨残り領域の検出と局所的な電解研磨加工の組み合わせにより銅１の研磨残りを解消する。 - 特許庁

To perform aging of a lot of solid electrolytic capacitors at once without limiting the current by connecting individual resistors or constant current diodes in series with respective solid electrolytic capacitors and then applying a DC voltage thereto, in the aging method of solid electrolytic capacitors where a plurality of solid electrolytic capacitors having external terminals on both sides are connected in parallel with two processing electrodes for aging.例文帳に追加

両側に外部端子を有する固体電解コンデンサを、複数個、二本の処理電極に並列接続してエージングする固体電解コンデンサのエージング処理方法において、それぞれの固体電解コンデンサに、個別の抵抗または定電流ダイオードを直列に接続して直流電圧を並列に印加し、電流を制限しながら行うことなく、一度に大量の固体電解コンデンサをエージング処理する点である。 - 特許庁

The electrolytic processing apparatus includes a transport line 202 to transport the electrolyte and electrolyzed gas generated by electrolysis in an electrolytic device, and a gas-liquid separating means 20 disposed in the transport line 202 and separating the electrolyte from the electrolyzed gas.例文帳に追加

電解反応装置における電解により生成した電解液及び電解ガスを移送する移送ライン２０２と、該移送ライン２０２に設けられ、前記電解液と電解ガスとを分離する気液分離手段２０とを備える電解処理装置とする。 - 特許庁

A sulfuric acid recycle type cleaning system includes a cleaning device 1 to clean an object material to be cleaned with persulfuric acid solution as a cleaning liquid, an electrolytic device 4 to regenerate a persulfuric acid solution by an electrolytic reaction to generate persulfate ion from sulfate ion included in a cleaning waste liquid of the cleaned material, and the above electrolytic processing apparatus 20.例文帳に追加

過硫酸溶液を洗浄液として被洗浄材を洗浄する洗浄装置１と、電解反応により、被洗浄材の洗浄廃液に含まれる硫酸イオンから過硫酸イオンを生成して過硫酸溶液を再生する電解反応装置４と、上記電解処理装置２０を備える硫酸リサイクル型洗浄システムとする。 - 特許庁

A ruthenium film as an anode and a processing electrode as a cathode are arranged with a prescribed interval, and while supplying an electrolytic solution 15 containing halide to a gap between the ruthenium film and the processing electrode 22, voltage is impressed between the ruthenium film and the processing electrode 22.例文帳に追加

陽極としたルテニウム膜と陰極とした加工電極２２とを所定の間隔をおいて配置し、ルテニウム膜と加工電極２２との間にハロゲン化物を含む電解液１５を供給しながらルテニウム膜と加工電極２２との間に電圧を印加する。 - 特許庁

This method for processing the laver is provided by spraying a solution containing a hypochlorite generated by the electrolysis of sea water by using an electrolytic vessel installed e.g. on a laver-collecting boat, over the laver and laver net.例文帳に追加

例えばモグリ船上に設けた電解槽により海水を電解して生成する次亜塩素酸塩を含む溶液を、海苔及び海苔網に散布する。 - 特許庁

Non-electrolytic plating processing is conducted to a wiring pattern 12 provided on a base substrate 10 by utilizing a plating solution 20 including at least one of thiourea and its derivative.例文帳に追加

チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液２０を利用して、ベース基板１０に設けられた配線パターン１２に無電解メッキ処理を行う。 - 特許庁

An electroless plating layer 2 and an electrolytic plating layer 3 are laminated on the surface of the resin film 1, to which processing for enhancing the adhesion with the electroless plating layer 2 is applied, in this order.例文帳に追加

無電解めっき層２との密着性を高める加工を施した樹脂フィルム１の表面に、無電解めっき層２と電解めっき層３とをこの順に積層する。 - 特許庁

To provide an image fiber scope having excellent resistance to a corrosive solution and corrosive gaseous atmosphere in order to allow the observation on the spot in etching or electrolytic processing.例文帳に追加

エッチングや電解加工におけるその場観察を可能とするため、腐食性溶液や腐食性ガス雰囲気に対する耐性に優れたイメージファイバスコープを提供することにある。 - 特許庁

This method for oxidizing waste photographic processing solution electrolytically (this method for improving the electrolytic oxidation efficiency) comprises a step to electrolytically oxidize the waste photographic processing solution while diluting the gas to be generated in/emitted from the waste photographic processing solution with air or oxidizing gas-mixed air.例文帳に追加

写真廃液の電解酸化処理において、該処理によって写真廃液中に発生して放出されるガスを空気又は酸化性気体混合空気によって希釈しながら電解酸化することを特徴とする写真廃液の電解酸化処理方法（電解酸化処理効率の改良方法）。 - 特許庁

The method of forming the conductive pattern includes: subjecting a photographic sensitive material having at least one photosensitive silver halide emulsion layer on a substrate to fixing processing using a processing agent containing a silver halide solvent in at least one process among processing processes up to electrolytic plating processing after (A) image exposure, (B) curing development processing, and (C) removal of uncured parts.例文帳に追加

基板上に、少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料を、（Ａ）画像状露光、（Ｂ）硬化現像処理、（Ｃ）未硬化部の除去を実施した後、無電解めっき処理を施すまでの処理工程の少なくとも一工程で、ハロゲン化銀溶剤を含有する処理剤で定着処理することを特徴とする導電性パターンの形成方法。 - 特許庁

To discriminate difference in the polarization direction of an electrolytic capacitor or the like, without decreasing insertion tact and to prevent continuous mounting failure due to the placement errors for polarized parts by detecting and discriminating the polarity direction of the polarized parts, such as an electrolytic capacitor by the use of processing.例文帳に追加

電解コンデンサー等の有極性部品の極性方向を画像処理により検出・判別することで、電解コンデンサー等の極性方向違いを挿入タクトを落とさず判別し、有極性部品の掛け間違いによる連続実装不良の未然防止を図る。 - 特許庁

To solve a problem which has become important in material cost, man-hour, environmental load, and quality in a process to form the cathode layer of a solid-state catalyst electrolytic capacitor that the electrolytic polymerization liquid used for polymerization is wholly discarded and replaced if the amount of electricity for processing reaches a certain level due to the problem of electrical properties.例文帳に追加

固体電解コンデンサの陰極層を形成する工程において、重合時に使用する電解重合液は電気特性の問題から処理電気量があるレベルに達すると全液廃棄交換しており、材料コスト、工数、環境負荷、品質で重要な課題となっている。 - 特許庁

To provide a polishing pad with which variation of processing speed becomes smaller than permitted variation ratio if rotation speed of the polishing pad is set within a range of 25-150 rpm which is the normally used rotation speed, to provide an electrolytic compound polishing device, and to provide an electrolytic compound polishing method.例文帳に追加

研磨パッドの回転速度を通常使用される回転速度である２５ｒｐｍ〜１５０ｒｐｍの範囲で設定すれば、加工速度の変化が許容される変化割合よりも小さくなる研磨パッド、並びに電解複合研磨装置及び電解複合研磨方法を提供する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus comprises: an electrolysis treatment apparatus 22 which performs an electrolysis treatment by using the ruthenium film on the substrate as a cathode, to electrolytically remove the passivity layer formed on the ruthenium film surface; an electrolytic copper plating apparatus 24 which performs electrolytic copper plating of the ruthenium film surface on the substrate; and an apparatus frame 12 which houses the electrolysis treatment apparatus 22 and the electrolytic copper plating apparatus 24.例文帳に追加

基板上のルテニウム膜をカソードとした電解処理により該ルテニウム膜表面に形成された不動態層を電気化学的に除去する電解処理装置２２と、基板上のルテニウム膜の表面に電解銅めっきを行う電解銅めっき装置２４と、電解前処理部２２と電解銅めっき装置２４とを収容する装置フレーム１２とを有する。 - 特許庁

To provide an electrolytic polishing device capable of simplifying a device constitution, lengthening the service life of a polishing pad and keeping a polishing characteristic constant in a continuous processing.例文帳に追加

電解研磨装置の装置構成を簡単化し、研磨パッドの寿命を延ばすとともに、連続処理した場合の研磨特性を一定に保つことができる電解研磨装置の提供を図る。 - 特許庁

To electrolytically etch the surface of a disk extremely precisely with a single disk processing by supplying an electrolytic liquid from a nozzle to the disk while driving to rotate the disk by a spindle.例文帳に追加

ディスクをスピンドルにより回転駆動する間に、電解液をノズルからディスクに供給することにより枚葉処理で、ディスクの表面を極めて高精度に電解エッチング加工を行う。 - 特許庁

The ingot processor also includes a processing electrode 10 for dissolving and cutting the ingot member I in the electrolytic solution E by supplying a current to form the plurality of slice members S.例文帳に追加

インゴット処理装置は、電流が流されることによってインゴット部材Ｉを電解液Ｅ内で溶解して切断し、複数のスライス部材Ｓを生成する加工用電極１０も備えている。 - 特許庁

To provide an electrolytic capacitor which has tab terminals having been subjected to surface expansion processing and is free of short-circuiting of the tab terminals even when charging and discharging are repeated, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

拡面処理されたタブ端子を有する電解コンデンサにおいて、充放電を繰り返してもタブ端子にショートを生じさせない電解コンデンサおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a flattening processing device for a semiconductor device which makes the residue of grinding free by locally effecting electrolytic grinding for multiplying copper wiring, highly improve flattening performance by using a grinding stone, and effects low-damage flattening by low frictional power by the electrolytic grinding.例文帳に追加

銅配線の多層化ために、電解研磨を局所的に行なうことによる研磨残りフリー化、砥石を用いることによる平坦化性能の高度化、電解研磨に起因する低摩擦力による低ダメージ平坦化を可能とする半導体装置の製造方法及び平坦化加工装置を提供する。 - 特許庁

Especially, on the tip part of the spray nozzle for secondary cooling used for water-cooling the surface of the cast slab in the continuous casting process, the excellent preventive effect for clogging of the water-cooling spray nozzle, is obtained by applying the metallic surface film having 10-50 μm film thickness with electrolytic plating or non-electrolytic plating processing.例文帳に追加

とりわけ、連続鋳造工程において鋳片の表面を水冷却するために用いる二次冷却用スプレーノズルのチップ部に、電解めっきまたは無電解めっき処理により、皮膜厚さが１０〜５０μｍの金属の表面皮膜を施すことにより、水冷却スプレーノズルの優れた閉塞防止効果が得られる。 - 特許庁

In this method of manufacturing the electrolytic capacitor, this impregnation device 1 and this assembly machine, a depressurization process of depressurizing the inside of a processing chamber 2 is executed in a state where an impregnated capacitor element 11 is extracted from an electrolyte 12, and thereafter the processing chamber 2 is restored to atmospheric pressure in a pressure restoration process.例文帳に追加

電解コンデンサの製造方法、含浸装置１および組立機において、含浸済みのコンデンサ素子１１を電解液１２から出した状態で処理室２内を減圧する減圧工程を行い、その後、復圧工程で処理室２を大気圧に戻す。 - 特許庁

To provide a solubility displaying method useful for evaluating the solute solubility of water or an aqueous solution, especially the degree of dissociation of water for use in electrolytic water, drinking water, food processing, medicines, cosmetics, a detergent and the like.例文帳に追加

電解水等、飲用、食品加工用、薬用、化粧品用、洗剤等に使用される水又は水溶液の溶質溶解性、特に水の解離度を評価するのに有用な表示方法を提供する。 - 特許庁

The machining device 10 includes a processing vessel 11 for accommodating electrolytic solution 12, an ingot holding part 13 for holding the silicon ingot 30 immersed in the electrolytic solution 12 in the processing vessel 11 and an electrode line 38 for cutting the silicon ingot 30, an electrode device 14 for slicing the silicon ingot 30 by the electrode line 38 and an electrode device holding part 15 for holding the electrode device 14.例文帳に追加

この加工装置１０は、電解液１２を収容する処理槽１１と、処理槽１１内の電解液１２に浸漬した状態でシリコンインゴット３０を保持するインゴット保持部１３と、シリコンインゴット３０を切断する電極線３８を含み、この電極線３８によりシリコンインゴット３０をスライス加工するための電極装置１４と、電極装置１４を保持する電極装置保持部１５とを備えている。 - 特許庁

To provide an electrolytic processing method to process a work furnished with a first hole and a second hole to be open in the wall portion surrounding the first hole, capable of processing the edge part as the contacting part of the first hole surrounding wall with the second hole surrounding wall into an approximately curved surface.例文帳に追加

被加工物に、第１の孔と、第１の孔の周壁部に開口する第２の孔とが形成されている場合に、第１の孔の周壁部と第２の孔の周壁部とが接する部分であるエッジ部を、略曲面状に加工することが可能な電解加工方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrode foil for an electrolytic capacitor includes an etching step with an aluminum foil, an immersion step in which the aluminum foil is immerged in a processing liquid at least once, a thermal treatment step, and a chemical formation step.例文帳に追加

電解コンデンサ用電極箔を製造するにあたっては、アルミニウム箔に対するエッチング工程、アルミニウム箔を処理液に１回以上浸漬する浸漬工程と、熱処理工程、および化成工程を行う。 - 特許庁

To provide a niobium solid electrolytic capacitor capable of reducing a leakage current caused by high temperature heat processing such as a reflow process and the like, and keeping a capacity before and after the heat treatment, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

リフロー工程などの高熱処理により発生する漏れ電流を低減することができ、かつ熱処理前後における容量を維持することができるニオブ固体電解コンデンサ及びその製造方法を得る。 - 特許庁

To obtain a method for chemical-polishing a metal mask by laser processing which can suppress deviation of the amount of polishing due to the size of an opening part and can obtain an uniform amount of polishing compared to electrolytic polishing for a component having a complicated shape or a minute structure.例文帳に追加

電解研磨と比べて、複雑な形状や微小な部品、は開口部の大小による研磨量の偏りがなく、均一した研磨量が得られるレーザ加工によるメタルマスクの化学研磨方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrolytic capacitor having a large electrostatic capacitance and a small leakage current with these characteristics hardly deteriorated even though it is heat treated by such as a reflow processing or the like.例文帳に追加

静電容量が大きいとともに漏れ電流が小さく、さらに、リフロー工程等の熱処理工程を行った場合においてもこれらの特性が劣化しにくい電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

By further conducting sulfonation processing (step S140) to introduce sulfonic groups into the side chains, the solid-polymer electrolytic membrane in which sulfonic group introduced only in regions corresponding to perforated portions of the mask is obtained.例文帳に追加

さらにスルホン化の処理を行なって（ステップＳ１４０）、側鎖にスルホン酸基を導入することによって、上記マスクの穴あき部に対応する領域だけにスルホン酸基が導入された固体高分子電解質膜を得る。 - 特許庁

The spool cut in a cutting process 1 is polished in a polish process 2 and soaked in an electrolytic solution to be given anodizing processing in an anodizing filming process 3 so as to form a porous anodizing film on the surface of the spool.例文帳に追加

切削工程１で切削加工したスプールを研磨工程２で研磨し、陽極酸化被膜工程３で電解液に浸漬して陽極酸化処理し、スプール表面に多孔性の陽極酸化被膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for keeping quality of an animal protein- containing food material, extending a keeping-quality period to become remark ably longer by treating non-processed or processed products (food material containing animal protein) of fish and shellfish, or meats, using electrolytic water well known as functional water, as a processing liquid.例文帳に追加

機能水として知られている電解生成水を処理液として、魚介類や畜肉類等の非加工物および加工物（動物性蛋白質を含有する食材）を処理して、品質保持期間を飛躍的に長くする。 - 特許庁

When the electrolytic polishing of the processing region 3 is then further implemented, the surface is electrolytically polished at 60°C in an electrolyte consisting of a thickened sulfuric acid and phosphoric acid, by which the electrolytically polished component surface 9 of the metal is obtained (c).例文帳に追加

次いで更に加工領域３の電解研磨を実施する場合は、濃縮された硫酸とリン酸とから成る電解液において６０℃の温度で電解研磨し、電解研磨された金属の構成部材表面９を得る（ｃ）。 - 特許庁

To provide an automatic analyzer capable of realizing the control of temperature of a standard solution and a diluted sample with high accuracy in electrolyte analysis while inhibiting the impairing of the processing performance of a colorimetric analyzing part when the electrolytic analyzing part is used.例文帳に追加

電解質分析部使用時の比色分析部の処理能力の低下を抑えつつ、電解質分析において高精度の標準液および希釈試料の温度制御を実現できる自動分析装置を提供する。 - 特許庁

An electrolytic processing liquid for a molybdenum-based metallic material, is formed through dissolving an electrolyte selected from a group consisting of an alkali metal chloride and an alkaline-earth metal chloride, and a citric acid with an aqueous solvent containing a glycol-based compound.例文帳に追加

グリコール系化合物を含む水系溶媒に、アルカリ金属塩化物およびアルカリ土類金属塩化物からなる群から選ばれる電解質ならびにクエン酸が溶解されてなるモリブデン系金属材料用電解加工液。 - 特許庁

To provide an electrolytic processing method and device capable of processing a conductive material provided on the surface of a substrate to be flat and further removing (washing) a material stuck on the surface of a substance to be processed such as the substrate while dispensing with CMP treatment itself and reducing the load of the CMP treatment to the upmost for example.例文帳に追加

例えばＣＭＰ処理そのものを省略したり、ＣＭＰ処理の負荷を極力低減しつつ、基板表面に設けられた導電性材料を平坦に加工したり、更には基板等の被加工物の表面に付着した付着物を除去（洗浄）できるようにした電解加工方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The machining device 10 includes a processing vessel 11, an ingot holding part 13 for holding a silicon ingot 30 immersed in electrolytic solution 12 in the processing vessel 11, an electrode device 14 for slicing the silicon ingot 30 by an electrode line 38 and an electrode device holding part 15 for holding the electrode device 14.例文帳に追加

加工装置１０は、処理槽１１と、処理槽１１内の電解液１２に浸漬した状態でシリコンインゴット３０を保持するインゴット保持部１３と、電極線３８によりシリコンインゴット３０をスライス加工するための電極装置１４と、電極装置１４を保持する電極装置保持部１５とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for holding the suspendability of cathode starting sheets in electrolytic refining which is capable of assuring always the finest suspendability by taking the differences in the processing adequateness of the cathode starting sheets K for electrolytic refining and is capable of providing the cathode sheets K with ruggedness of a plurality of depths without preparing many metal molds and a molding device for the cathode starting sheets for implementing the method.例文帳に追加

電解精錬用の陰極種板Ｋの加工適正の違いを考慮し、常に最良の懸垂性を確保することが可能であり、また多数の金型を用意することなくカソード板Ｋに複数の深さの凹凸を設けることが可能な電解精錬における陰極種板の懸垂性保持方法及びその方法を実施するための陰極種板の成型装置提供する。 - 特許庁

A plated layer 15 is formed in a thickness less than 0.1 μm by conducting first non-electrolytic plating processing to a wiring pattern 12 formed on a base board 10 utilizing a plating solution 20 including at least one of thiourea and its derivative.例文帳に追加

チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液２０を利用して、ベース基板１０に設けられた配線パターン１２に第１の無電解めっき処理を行って、厚みが０．１μｍ未満のめっき層１５を形成する。 - 特許庁

After a sealing film 34 is formed, a surface-processing layer 35 for preventing oxidation is formed on the upper surface of the column type electrode 2, by conducting electrolytic plaing using the auxiliary wiring 32, connection line 33 and re-wiring 31 as the plating current path.例文帳に追加

そして、封止膜３４を形成した後に、補助配線３２、接続線３３及び再配線３１をメッキ電流路として電解メッキを行うことにより、柱状電極２９の上面に酸化防止用の表面処理層３５を形成する。 - 特許庁

A V-shaped or a rectangular recess is formed by processing or a circular bore is made at an end of an anode lead 14 derived in the solid electrolytic capacitor, and then the recess is welded to an anode leadframe 9.例文帳に追加

固体電解コンデンサにおいて導出した陽極リード１４先端部に加工によりＶ字状または矩形状の凹部を形成させ、あるいは、円形状に穿孔し、しかる後、凹部に陽極リードフレーム９と溶接することを特徴とする。 - 特許庁

The phosphorus component in the water can be deposited as the insoluble phosphorus salt with the electrolytic bath 4 provided in the pre-processing tank 1, thus the phosphorus component can be removed with the sewage treating device having the activated sludge tank 2.例文帳に追加

前処理槽１内に設けた電解槽４で水中のリン成分を不溶性リン酸塩として析出させることができ、活性汚泥槽２を有して形成される汚水処理装置においてリン成分を除去することが可能になる。 - 特許庁