「fine pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

The light and shade pattern has an annular light part 14a capable of irradiating the fine flaw of the coating surface from the whole peripheral direction and the annular light part 14a is extended into a background-like shade part 16 in a reticulated state.例文帳に追加

明暗パターンは、塗装面の微小欠陥を全周方向から照射可能な環状の明部１４ａを有し、環状の明部１４ａはバックグラウンド状の暗部１６内に網目状に延びている照射装置とした。 - 特許庁

The surfaces of the first and the second members through which they are adhered to each other are preferably provided with different adhesion and connection properties through the provision of a surface adhesion promoter or the formation of a fine-structured pattern on only one member, or the like.例文帳に追加

第１及び第２部材のそれぞれの合せることができる表面は、表面接着促進剤、又は部材の１つにのみ微構造の模様を設けることによってなど、異なる接着接合特性を備えることが好ましい。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having excellent sensitivity, resolution and adhesion property as a mask material for sand blasting with which a fine pattern can be worked with high yield in a base material to be worked, and to provide a method of sand blast surface working by using the laminate.例文帳に追加

感度、解像度、密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁

To form a fine pattern of an organic material film in an easy process and reduce the fringing capacitance of the gate electrode of a field effect transistor using a selective dry recess etching to improve the operating speed of a semiconductor device.例文帳に追加

容易なプロセスで有機材料膜の微細パターンを形成し、選択ドライリセスエッチングを用いて、電界効果型トランジスタのゲート電極のフリンジング容量を低減し、半導体装置の動作速度を向上することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is sensitive to visible ray, enables a process in which problems such as ensuring of etching solution and plating solution resistances and lowering of productivity are solved and can form a fine high density pattern.例文帳に追加

可視光感光性で、エッチング液耐性とメッキ液耐性の確保の問題や生産性低下などの問題を解決するプロセスを可能にし、微細かつ高密度なパターンを形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an organic antireflection forming material that is deposited in the same process as the conventional art, effectively prevents reflection of exposure light with an antireflective coating, has high dry etching speed, and is useful for forming a fine pattern.例文帳に追加

従来と同じプロセスで成膜可能で、その反射防止膜は効果的に露光光の反射を防止し、更に、高いドライエッチング速度を兼ね備え、微細パターン形成に有用である有機反射防止形成材料を提供する。 - 特許庁

The printed matter having an anisotropic reflection characteristic whose surface is formed from an aggregate of fine grooves is manufactured by forming grooves on a paper base material on the base of the binary data and printing an image pattern on the paper base material.例文帳に追加

そして、作成した二値データを基に、紙基材に溝を形成するとともに、紙基材に画像の絵柄を印刷することで、表面が微小な溝の集合から形成された異方性反射特性を有する印刷物を製造する。 - 特許庁

To maintain the fine pattern of wiring and keep conductivity appropriately in a three-dimensional wiring body for manufacturing a wiring body in which wiring is formed on a base, and to improve the adhesiveness between the wiring and the base.例文帳に追加

基材上に配線を形成した配線形成体を製造する立体配線形成体において、配線の微細パターンを維持しながらも導電性を良好に保ち、また、配線と基材との密着性を向上させる。 - 特許庁

To provide a method of removing resist materials on an object which become unnecessary, such as a semiconductor wafer, in the process of forming a fine pattern in the manufacture of a semiconductor, a circuit, various printed boards, a liquid crystal panel, or the like.例文帳に追加

本発明は、半導体、回路、各種プリント基板、液晶パネルなどの製造における微細パタ—ンを形成する工程において、半導体ウエハなどの物品上の不要となつたレジスト材を除去する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a screen printing press which, even in the case of printing of a fine pattern, can effectively transfer cream solder filling openings in a mask to an electronic circuit board and, further, is less likely to cause bleeding of the cream solder component on the electronic circuit board.例文帳に追加

微細パターンの印刷であっても、マスクの開口部に充填されたクリームはんだを効果的に電子回路基板に転写でき、しかも、クリームはんだ成分の電子回路基板へのにじみ出しが少ない装置が要望されている。 - 特許庁

To provide a cylinder inner surface working method forming a fine rugged pattern on an inner surface of even a comparatively small cylindrical component, and a rugged component manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、比較的小さな円筒状部品であっても内部表面に良好な凹凸パターンを形成することができる円筒内部表面の加工方法および凹凸部品の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a printed wiring board wherein a bulge is not generated on a lid plating layer even if the lid plating layer on a through hole plating layer is thin in which a fine pattern can be formed, and a method for manufacturing the printed wiring board.例文帳に追加

フタめっき層の厚さがスルーホールめっき層上において、微細なパターンを形成することのできる薄い厚さであっても、フタめっき層に膨れが発生することのないプリント配線板及び製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a cover member for a push-button switch on which a pattern with an elegant and fine cutout letter is applied, having a key top with a specular gloss, and to provide a method of economically and stably manufacturing the cover member in mass.例文帳に追加

抜き文字の高品位な微細な模様加工が施され、鏡面光沢も備えたキートップを備えた押釦スイッチ用カバー部材とその押釦スイッチ用カバー部材を経済的に安定的に量産可能な製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing substrate with built-in element in which a semiconductor chip having electrode pad sections arranged at fine pitches can be connected to a conductor pattern formed on a substrate without changing the pitches of the pad sections, and to provide a substrate with built-in element manufactured by the method.例文帳に追加

ファインピッチの電極パッド部を有する半導体チップをピッチ変換することなく基板上の導体パターンに接続することができる素子内蔵基板の製造方法および素子内蔵基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a mask pattern that can reduce the number of processes, can prevent melting of a first resist film in depositing a second resist film, and can form fine openings having a size equal to or less than the resolution of an exposure device.例文帳に追加

工程数を削減でき、第２のレジスト膜を成膜する際の第１のレジスト膜の溶解を防止できるとともに、露光装置の解像度以下の微細な開口部を形成できるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The grain pattern is applied to the end surface 2 of the wood- like molded article 1, which is formed by molding a mixture consisting of cellulosic fine particles and a resin in a molten state, so as to form lines 3 inclined or arcuated with respect to the edges of the end surface 2.例文帳に追加

セルロース系微粉粒と樹脂とを混合しかつ溶融させて成形してなる木質様成形品１の端面２に、端面２の縁に対して傾斜した線３や円弧状の線をなした木目模様を施す。 - 特許庁

A fine pattern is joined to a substrate W1 by a first group of the coating step and a micropattern forming step by etching a transfer step, and a second group of a coating step and a micropattern forming step by etching the transfer step.例文帳に追加

第１群の被覆工程と転写工程エッチングによる微細パターン形成工程と、第２群の被覆工程と転写工程エッチングによる微細パターン形成工程とによって、微細パターンを基材Ｗ１につなげて形成する。 - 特許庁

To provide an electric charge beam exposing method, and a method for manufacturing a semiconductor device using the beam, wherein a predetermined fine pattern is transferred on the entire face of a substrate without causing reduction of an exposure positional accuracy or an occurrence of particle.例文帳に追加

露光位置精度の低下やパーティクルの発生を伴わずに、基板の全面に所定の微細パターンを転写することのできる荷電粒子ビーム露光方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for producing the fine particle pattern, the composite particle-forming process may be carried out either before or after the dendritic branch molecule-adding process.例文帳に追加

該微粒子パターンの製造方法においては、前記複合粒子形成工程が前記樹状分岐分子付与工程の前、及び前記複合粒子形成工程が前記樹状分岐分子付与工程の後、のいずれに行われてもよい。 - 特許庁

To provide a mold which is capable of performing accurate transfer with no residual film in a product, in a mold which is used in a transfer method for transferring a fine transfer pattern formed in the mold to the product to be molded.例文帳に追加

転写用の型に形成されている微細な転写パターンを被成形品に転写する転写方法に使用される型において、被成形品に形成される残膜を無くし正確な転写を行うことができる型を提供する。 - 特許庁

To restrict a reduction in alkali concentration of a developer, a generation of fine air bubbles or the like, enhance uniformity in a pattern dimension after a development process, and also decrease a generation of defective regions in the development process of a photoresist.例文帳に追加

フォトレジストの現像処理において、現像液のアルカリ濃度の低下や微細な気泡の発生等を抑制し、現像処理後のパターン寸法の均一性を向上させ、同時に欠陥箇所の発生も低減させることを課題とする。 - 特許庁

When the pattern is formed by arranging arrays on the surface of a base material, the respective arrays contain cells by 0 to 100% area and light scattering elements are formed of fine recessed parts or projection parts in the cells.例文帳に追加

基材表面にアレイを配置して前記パターンを形成する際、各アレイは、それぞれの内部に０〜１００％の面積を占めるセルを包含し、前記セル内に微細な凹部または凸部からなる光散乱要素を形成する。 - 特許庁

An ejection head 33 having an ejection opening diameter of 20 μm or less imparts a plurality of liquid drops of a solution containing fine particles onto a substrate 14 to form a pattern wiring or a device on the substrate 14 and an electrode region.例文帳に追加

吐出口径がΦ２０μｍ以下の噴射ヘッド３３によって微粒子含有溶液の液滴を基板１４上に複数滴噴射付与し、基板１４上と電極領域にパターン配線あるいはデバイスを形成する。 - 特許庁

In the method for preparing the mold for precision casting with a lost wax method, slurry is spray-coated to the fine shape part on the surface of the wax pattern and dried to form a coating part, and thereafter, each layer on and after the first layer is formed.例文帳に追加

精密鋳造用鋳型をロストワックス法により作製する方法において、ワックス模型の表面の形状細部にスラリーをスプレー塗布し、乾燥してコーティング部を形成した後、第１層以降の各層を形成した。 - 特許庁

To provide a method for making fine printing pattern by applying inkjet printing being on-demand printing and to provide an electroconductive inkjet ink exhibiting excellent adhesion to various substrates, strengths, conductivity, and jettability.例文帳に追加

オンデマンド印刷であるインクジェットを応用し、微細な印刷パターンを作製する方法、並びに、様々な基体に対して優れた付着性、強度、導電性を示し、出射性に優れる導電性のインクジェットインクを提供することにある。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a mounting substrate having a high yield, reduced manufacturing costs, and a short lead time, to provide a mounting substrate having a fine conductive pattern manufactured by the foregoing manufacturing method, and further to provide a master substrate for manufacturing the mounting substrate.例文帳に追加

歩留まりが高く、製造コストを抑制し、リードタイムを短くできる実装基板の製造方法と、この方法で製造された微細な導電パターンを有する実装基板およびそれを製造するためのマスター基板を提供する。 - 特許庁

To obtain a polyimide varnish used for screen printing on semiconductive wafer, excellent in pattern forming and continuously printing properties, having heat-resisting, high insulating and adhesive properties, and capable of simply forming fine patterns through screen printing, by compounding a specific resin component and a solvent component.例文帳に追加

パターン形状及び連続印刷性に優れており、耐熱性、高絶縁性に優れた接着層または保護層を容易に形成することができる半導体ウエハーにスクリーン印刷するためのポリイミドワニスを提供する。 - 特許庁

To provide a coin identifying device which instantly and exactly detects a signal peculiar to a coin based on the quality of its materials, its shape and a fine uneven pattern on its surface, precisely identifies the kind of the coin and verifies the truth of the coin.例文帳に追加

コインの材質、形状、表面の微細な凹凸模様に基づくコイン固有の信号を、瞬時に且つ正確に検出してコインの種別や真偽を高精度に識別することができるコイン識別装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a hologram device which can be mass-produced at a low cost while production of forming burrs during releasing can be suppressed when a fine pattern is formed by a 2P forming method using a stamper, to provide a stamper for the production of the device, and to provide a method for the production of the stamper.例文帳に追加

スタンパを用いた２Ｐ成形法で微細パターンを形成する際、離型時の成形バリの発生を抑えて、低コストで量産できるホログラム素子、その製造用のスタンパ、このスタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁

An unreproducible fine feature (random pattern) that the article 12 itself originally has is read out of a specified observation area on the top surface of the article 12, and used to identify and collate the article 12 individually.例文帳に追加

物品１２の表面の所定の観測領域から、当該物品１２自体が元来有している再現不能な微小な特徴（ランダムパターン）を読取り、このランダムパターンを利用して個々の物品１２の識別や照合を行う。 - 特許庁

In the prism sheet 45 in which a prism pattern is formed on the lower face, fillers (fine particles) having the average particle diameter of 1 μm or more and 20 μm or less are dispersed uniformly in a translucent resin matrix (polycarbonate resin or the like).例文帳に追加

下面にプリズムパターンが形成されたプリズムシート４５にあっては、透光性樹脂マトリックス（ポリカーボネイト樹脂など）内に平均粒子径が１μｍ以上２０μｍ以下のフィラー（微小な粒子）が均一に分散している。 - 特許庁

The formation of an upper electrode 42 is performed by transforming a liquid 2 containing fine metallic particles into a metallic film through heat treatment after the liquid 2 is applied directly to the surface of a piezoelectric layer 40 in a pattern by means of an ink-jet head 101.例文帳に追加

上部電極４２の形成を、インクジェットヘッド１０１により金属微粒子を含有する液体２を圧電体層４０の上に直接パターン塗布した後、熱処理を施して液体２を金属膜に変換することで行なう。 - 特許庁

The structure comprises layers of an adhesive layer 3, a heat resistance improving layer 4, a cholesteric liquid crystal layer 5 having a fine rugged pattern 5a such as a hologram on its lower face, and a protective layer 6 formed on the object 2 for authenticity identification.例文帳に追加

真正性識別対象物２上に、接着剤層３、耐熱性向上層４、ホログラム等の微細凹凸５ａを下面にするコレステリック液晶層５、および保護層６を積層した構造とし、課題を解決することができた。 - 特許庁

Fine particles are selectively arranged in an exposed area 2 by laminating the photosensitive silane coupling agent on the surface of a base board, exposing the photosensitive silane coupling agent layer 2 in a pattern-like shape and generating the secondary amino groups in the exposed area 3.例文帳に追加

基板１の表面に前記感光性シランカップリング剤を積層し、前記感光性シランカップリング剤層２にパターン状に露光を行ない、露光部３に２級アミノ基を発生させ、露光部２に選択的に微粒子を配する。 - 特許庁

To provide an alkali developable colored photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, adhesion and alkali resistance and capable of accurately forming a fine pattern, and a color filter using the alkali developable colored photosensitive resin composition.例文帳に追加

感度、解像度、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物、及び該着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

Namely, lowering γp and γh concerned with a hydrophilic component of the surface free energy of the resist pattern suppresses permeation of an etchant from the interface between the conductor layer and resist and then fine wires can be formed.例文帳に追加

即ち、レジストパターンの表面自由エネルギーのうち親水性成分に関係するγｐとγｈを低くすることにより導体層とレジスト界面からのエッチング液の浸透を押さえることができ、微細な配線を形成することができる。 - 特許庁

The random pattern structure P40 to P42 is constituted of plural fine rectangular elements E1 to E4 with four kinds of height, and the rectangular elements E1 to E4 are irregularly arranged so as to constitute plural kinds of diffraction gratings having different grating pitches.例文帳に追加

ランダムパターン構造(P40〜P42)は、４種類の高さを有する複数の微小な矩形エレメント(E1〜E4)から成っており、矩形エレメント(E1〜E4)は、格子ピッチの異なる複数種類の回折格子を構成するように不規則に配置されている。 - 特許庁

To provide a fluororesin exhibiting excellent ink repellency, ink dropping properties and developing properties, and a photosensitive resin composition which forms a coating film excellent in ink repellency and ink dropping properties and moreover forms a fine pattern.例文帳に追加

優れた撥インク性、インク転落性、および現像性を奏する含フッ素樹脂、および撥インク性、インク転落性に優れた塗膜を形成することができ、さらには微細なパターン形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A manufacture of the silicone coat 3 includes a step for preparing a silicone wafer 4 as a base material of the silicone coat 3, and a step for forming the fine pattern 5 on the surface of the silicone wafer 4 by patterning by lithography and anisotropic dry etching.例文帳に追加

シリンコンコート３の作製は、シリコンコート３の基材としてシリコンウエハ４を準備する工程と、シリコンウエハ４の表面に、リソグラフィによるパターニングと異方性ドライエッチングとによって微細パターン５を形成する工程とを含む。 - 特許庁

Servo signals are recorded along spiral positions on the signal recording face of a magnetic disk 11 recorded and reproduced by a magnetic head 13 according to a fine irregular pattern formed by stamping a resin material.例文帳に追加

磁気ヘッド１３により記録再生を行う磁気ディスク１１として、樹脂材料をスタンピングすることによって形成された微細な凹凸パターンに応じて、信号記録面上でスパイラル状となる位置に沿ってサーボ信号を記録する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which a fine pattern having sufficient dry etching durability for a base film can be formed with high reproducibility while preventing spike phenomenon as etching in a photoresist film.例文帳に追加

本発明は、フォトレジスト膜がエッチングされていくスパイク現象を無くし、下地膜に対して十分なドライエッチング耐性を有し、かつ、微細なレジストパターンを再現性良く形成可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In order to dispose a plurality of fine bubbles 16B in the convex dot pattern 16A, laser beam irradiation time is adjusted to 6 to 15 μs when the oscillation wavelength of a laser oscillator 44 is in a 9 μm band.例文帳に追加

凸状のドットパターン１６Ａで内部に複数の微細な気泡１６Ｂを設けるために、レーザービームの照射時間を、レーザー発振器４４の発振波長が９μｍ帯の場合は６μ秒から１５μ秒の範囲とした。 - 特許庁

Depending on how the Martensite looks, the Hamon (blade pattern) that looks like round particles on the surface of the metal to the naked eye, is called Nie (literally "boiling"), and separates from the Nioi (literally "scent") that looks like fine lines because the individual particles cannot be distinguished. 例文帳に追加

マルテンサイトの入り方によって、肉眼で地鉄の表面に刃文が丸い粒子状に見えるものを錵（にえ）又は沸（にえ）と呼び、一つひとつの粒子が見分けられず細かい白い線状に見えるものを匂（におい）と区別する。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Traditional Japanese clothes, kimono (Japanese traditional clothing), Sebiro (business suit), yukata (Japanese summer kimono), Tsutsusode (kimono with tubular style of sleeve), Tomesode (formal, usually black, kimono with designs along the bottom of the skirt worn by married women on ceremonial occasions), Iro-Tomesode (colored, not black, Tomesode), Kariginu (informal clothes worn by Court nobles), Homongi (semi-formal kimono for women), Tsukesage, Komon (kimono with fine pattern), Iromuji (colored kimono without designs), Tsumugi (pongee), Uru kimono (woolen kimono), Haori (Japanese half-coat), Sokutai (traditional ceremonial court dress), Juni-hitoe (twelve-layered ceremonial kimono), Jinbei (informal summer clothes for men (short jacket and trousers)), and Hoi (clerical garment) 例文帳に追加

和服、着物、背広、浴衣、筒袖、留袖、色留袖、狩衣（かりぎぬ）、訪問着、付け下げ、小紋、色無地、紬、ウール着物、羽織、束帯、十二単（じゅうにひとえ）、甚平、法衣 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A lattice pattern having fine resolution features reaching the limit of optical exposure is obtained rapidly by utilizing high dissolubility to developer of multi-exposed parts 10 and non-dissolubility to developer of the non-exposed parts 13.例文帳に追加

多重露光部１０の現像液への高い溶解特性、または非感光部１３の現像液への非溶解性を利用して、高速性とともに、光学露光法の限界に達する微細解像特性をもつ格子パターンが得られる。 - 特許庁