「fine pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

A resistor 7 for base bias fine adjustment arranged in the vicinity of a layout 5 for power supply and the base bias resistor 8 are connected in a wiring pattern 9 that forms high impedance with respect to an oscillation frequency.例文帳に追加

また、電源供給用レイアウト５の近傍に配置されたベースバイアス微調整用抵抗７と前記ベースバイアス抵抗８の間を発振周波数に対してハイインピーダンスとなる配線パターン９で接続する。 - 特許庁

To provide a paste composition suitable for a laser direct imaging device using a laser oscillation light source having a maximum wavelength of 350-420 nm, useful for efficiently forming a fine pattern, and excellent in storage stability.例文帳に追加

最大波長が３５０ｎｍ〜４２０ｎｍのレーザー発振光源を用いたレーザー・ダイレクト・イメージング装置に適し、精細なパターンを効率良く形成するのに有用で、かつ保存安定性に優れたペースト組成物を提供する。 - 特許庁

This injection molded form with a fine pattern transferred in high accuracy is obtained by injection molding of a cyclic olefin resin or a thermoplastic resin composition comprising the above cyclic olefin resin and a specific hydrocarbon resin.例文帳に追加

環状オレフィン樹脂または環状オレフィン樹脂と特定の炭化水素樹脂からなる熱可塑性樹脂組成物を用いて射出成形することにより、微細なパターンが高転写された射出成形体を得る。 - 特許庁

To carry out press forming by performing not only efficient heating by adapting induction heating to a die and dielectric heating to a work in a pressing machine for forming a fine pattern but also efficient cooling using a Peltier element.例文帳に追加

微細パターン形成を行うプレス機において金型に誘導加熱、ワークに誘電加熱を適用して効率的な加熱を行うと共にペルチェ素子を使用することで効率的な冷却をも行ってプレス成形する。 - 特許庁

To provide a resist material with excellent linearity capable of forming a fine resist pattern less than 2.0 μm in a low NA condition with NA less than 0.2, suitably used for system LCD manufacturing.例文帳に追加

ＮＡが０．２以下のような、システムＬＣＤの製造に好適に使用される低ＮＡ条件下でも、２．０μｍ以下の微細なレジストパターンを形成可能であるようなリニアリティに優れたレジスト材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a coating apparatus that is capable of precisely molding a belt-like pattern even in use for a long term and is capable of easily processing fine discharge apertures, and to provide a manufacturing method for a plasma display panel.例文帳に追加

長期間の使用でも帯状のパターンを高精度に成形することができ、微小な吐出孔を容易に加工することができる塗工装置およびプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a high-quality artificial leather base in which an extra fine fiber (A) having a fineness of 0.01-0.5 dtex and a cut length of 2-6 mm and a knitted base fabric (B) are entangled and integrated and which has no lateral bar pattern.例文帳に追加

繊度０．０１〜０．５ｄｔｅｘ、カット長２〜６ｍｍの超極細繊維（Ａ）と編地基布（Ｂ）とが交絡一体化された横段模様のない高品位な人工皮革基体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a low cost chip for a high frequency circuit which is small in size and has a fine and highly precise pattern, and method for manufacturing the chip for the high frequency circuit capable of effectively manufacturing the chip for the high frequency circuit.例文帳に追加

小型で、微細、高精度の配線パターンを備えた低コストの高周波用回路チップ及び該高周波用回路チップを効率よく製造することが可能な高周波用回路チップの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curable resin composition which enables obtaining a high-definition pattern excellent in the shape in preparing an optical waveguide by the pattern-forming method using a fine lithography technique and has excellent storage stability, an optical waveguide using the resin composition, and a method for manufacturing an optical waveguide.例文帳に追加

微細なリソグラフィ技術を用いたパタン形成方法によって光導波路を作製するに際し、高精細で形状の優れたパタンを得ることを可能とするとともに保存安定性に優れた放射線硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光導波路及び光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type silicone-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region with ArF or KrF as a light source in the production of a semiconductor device, having high resolving power and giving a resist pattern excellent in density dependency and margin for exposure particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコーン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

A diaphragm 11 for a capacitor microphone is formed of a thermoplastic resin film and includes a metal film on one surface, wherein a first unevenness pattern 12 of long-cycle rough unevenness 12a and a second unevenness pattern 13 of short-cycle fine unevenness 13a are formed over the entire area of the diaphragm 11.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルムからなり、一方の面に金属膜を有するコンデンサマイクロホン用の振動板１１において、周期の長い粗い凹凸１２ａからなる第１凹凸パターン１２と、周期の短い微細な凹凸１３ａからなる第２凹凸パターン１３とを、それぞれ振動板１１の全域にわたって形成する。 - 特許庁

To provide a photocatalyst lithography method using a template provided with a predetermined pattern made of a photocatalyst on a light-transmissive substrate, the photocatalyst lithography method being characterized in that a high-precision fine pattern with a high contrast can be formed on a work surface in a short time; and to provide the template used therefor.例文帳に追加

光透過性基板上に光触媒よりなる所定のパターンを設けたテンプレートを用いた光触媒リソグラフィ法において、被加工物表面にコントラストが高く高精度の微細パターンを短時間に形成することができる光触媒リソグラフィ法およびそれに用いるテンプレートを提供する。 - 特許庁

To provide a photomask blank having a light shielding film that can respond to effects by the depth of focus when a high NA exposure method is employed for an exposure device upon transferring a pattern and that is suitable for transferring a fine pattern having a half pitch of 45 nm or smaller with high accuracy, and to provide a method for manufacturing a photomask.例文帳に追加

パターン転写時の露光装置に高ＮＡの露光方法を利用した場合の焦点深度による影響に対応でき、ハーフピッチ４５ｎｍ以降の微細パターンを精度良くパターン転写するのに好適な遮光膜を備えたフォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a permanent pattern forming method by which fine permanent patterns such as a protective film, an insulating film and a solder resist pattern can be formed with a high degree of accuracy, by making each drawing unit uniform in light quantity while curbing costs, in exposure using a digital exposure apparatus equipped with an exposure head in which drawing units are two-dimensionally distributed.例文帳に追加

描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなどの微細な永久パターンを高精度に形成可能な永久パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a dry etching process of the fine mask pattern of a membrane mask, a radical and an ion, containing at least one of nitrogen, carbon, and oxygen that do not contribute to pattering, are generated by plasma for supplying to the upper and side surfaces and foundation of the mask pattern, and a layer (membrane) for restraining the generation of stress is reliably formed on the side.例文帳に追加

メンブレンマスクの微細マスクパターンのドライエッチング工程において、パターニングに寄与しない窒素、炭素もしくは酸素の少なくとも一つ以上を含むラジカルやイオンをプラズマにより発生させて、マスクパターンの上面、側面および下地に供給し、側面に応力発生を抑制する層（膜）を確実に形成する。 - 特許庁

To provide a mask which has a reinforcing section that is arranged on the top face of a main body of the mask and reinforces a wiring pattern having a plurality of linear open holes adjacently arranged to each other, facilitates a metallic film to be formed so as to sneak into the backside of the reinforcing section, and consequently enables a fine wiring pattern to be precisely formed.例文帳に追加

複数の直線状の貫通孔が並設された配線パターンを補強するために、マスク本体の上面に補強部を設けたマスクにおいて、補強部を回り込んで行われる金属膜の成膜を行いやすくでき、微細な配線パターンを精度よく形成することができるマスクを提供することにある。 - 特許庁

To provides method and device for exposure capable of exposing a pattern, having a fine hole diameter and patterns of rows of contact holes or mixed independent contact holes with the rows of contact holes, with a high degree of resolution (or the degree of resolution equal to L-and-S pattern employing a phase shift mask for the rows of contact holes) without exchanging any mask.例文帳に追加

微細なホール径を持ち、コンタクトホール列のパターン、あるいは孤立コンタクトホールとコンタクトホール列とが混在するパターンを、マスクを交換せずに、高解像度（即ち、コンタクトホール列については位相シフトマスクを用いたＬ＆Ｓパターンと同等の解像度）で露光可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

This method for forming the fine wiring comprises a step of (a) treating at least one side of a wiring pattern to be formed on a base substrate with alkali metal hydroxide solution, and (b) treating hydrophobic ink in accordance to the wiring pattern to be formed.例文帳に追加

本発明の一側面によれば、（ａ）アルカリ金属水酸化溶液によってベース基材上に形成しようとする配線パターンの少なくとも一側を処理する段階、及び（ｂ）上記形成しようとする配線パターンに沿って疎水性インクを処理する段階を含む微細配線の形成方法が提供される。 - 特許庁

To provide a method or manufacturing a diffraction optical element by which a blaze diffraction pattern having a fine pattern pitch can easily be manufactured highly precisely, and to provide a diffraction optical element manufactured by the method, an optical system having the element, an exposure device, a method for manufacturing a device and the device.例文帳に追加

微細なパターンピッチを有するブレーズ型回折パターンを容易にかつ高精度に製造することができる回折光学素子の製造方法、該回折光学素子の製造方法によって製造した回折光学素子、および該回折光学素子を有する光学系、露光装置、デバイス製造方法、デバイスを提供する。 - 特許庁

To solve problems on the technique for improving performances of microphotofabrication using far ultraviolet light, especially ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, in particular, to provide a negative resist composition which avoids pattern collapse even in fine pattern formation and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide an alkali-developable photosetting composition excellent in preservation stability (viscosity stability), coating work efficiency and developability with an aqueous alkali solution even when an inorganic fine powder is contained in large quantities and capable of forming a high-definition pattern having a high aspect ratio without causing warpage or peeling of a pattern after firing.例文帳に追加

多量に無機微粉体を含有しても保存安定性（粘度安定性）や塗布作業性、アルカリ水溶液による現像性に優れると共に、焼成後パターンの反りや剥れなどを生じることなく、高精細、高アスペクト比のパターンを形成できるアルカリ現像型の光硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

The plate is used for printing a fine pattern and is provided with a plate pattern comprising projecting parts corresponding to non-streak parts or streak parts on a base material, and recessed parts corresponding to the streak parts or non-streak parts, wherein the recessed parts are formed in a substrate layer, and an adsorption layer is formed on the substrate layer of the recessed part.例文帳に追加

基材上に非画線部もしくは画線部に対応する凸部と画線部もしくは非画線部に対応する凹部とからなる版パターンが設けられている微細パターンを印刷するのに用いる版であって、前記凹部が下地層に形成され、該凹部の下地層上に吸着層が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a laminated structure in which members are joined together via the cured product of a composition which can form the cured product of a fine adhesive pattern excellent in properties such as adhesion to various members, hardness, heat and chemical resistances, the adhesive pattern being formed by photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法により精細な接着剤パターンを形成し、各種部材に対する接着性、硬度や耐熱性、耐薬品性等の特性に優れる接着剤パターンの硬化物を形成できる組成物の硬化物を介して部材同士が接合された積層構造物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electroconductive ink, being a low temperature processing type electroconductive ink, capable of forming an extremely fine electroconductive pattern by screen printing, moreover requiring no specialized production process, and excellent in resistance value stability; to provide a laminate with the electroconductive pattern using the electroconductive ink; and to provide a method for producing the laminate.例文帳に追加

低温処理型の導電性インキであって、かつ、スクリーン印刷によって高精細な導電性パターンを形成することが可能であり、さらに、特殊な製造工程を必須とせず、かつ、抵抗値安定性に優れた導電性インキ、及びそれを用いた導電パターン付き積層体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having an enhanced etching resistance and an excellent resolution and providing an excellent pattern profile on a substrate boundary face, in photolithography for fine processing, and particularly in lithography adopting, as an exposure source, KrF laser, extreme ultraviolet rays, electron beam, X-rays, or the like, and to provide a pattern forming method utilizing the positive resist composition.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an etchant that can etch a fine pattern without generating bubbles during etching at room temperature, can be easily removed by washing with water when it becomes no more necessary after etching, and can achieve an extremely precise pattern of a transparent conductive film without residual etching portions and overetched portions while having excellent electric properties, and also to provide a method of etching.例文帳に追加

常温にて、エッチングの際に、泡立ちがなくて微細パターンのエッチング入り、およびエッチング後、不要になったエッチング液の水洗浄除性が優れており、エッチング残り、およびオーバーエッチングのない高微細精度の電気特性が優れた透明導電膜のパターンが得られるエッチング液およびエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type silicon-containing photosensitive composition adaptable to exposure in the far UV region using ArF or KrF as a light source and having high resolving power in the production of semiconductor device and giving a resist pattern excellent in density dependency particularly in a fine pattern of ≤0.18 μm and in margin for exposure.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、ＡｒＦやＫｒＦを光源とする遠紫外線領域の露光に対応し得、高い解像力を有し、更に、特に０．１８μｍ以下の微細パターンにおける疎密依存性、および露光マージンに優れたレジストパターンを与えるポジ型シリコン含有感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

To increase the heat-shrink rate of a coating forming agent in heating and to obtain a fine pattern having a good profile and properties required by the existing semiconductor device when the fineness of a pattern is increased using the coating forming agent.例文帳に追加

被覆形成剤を用いたパターンの微細化において、加熱処理時における被覆形成剤の熱収縮率を格段に向上させ、良好なプロフィルおよび現在の半導体デバイスにおける要求特性を備えた微細パターンを得ることができる被覆形成剤、およびこれを用いた微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a component configuration for reducing a packaging surface and thinning the thickness of a film incorporating components when incorporating the chip component into a substrate, and manufacturing method for accurately packaging and incorporating such chip passive component as an LCR by forming a fine wiring pattern on a circuit board and at the same time forming the connection with the wiring pattern.例文帳に追加

チップ部品を基板に内蔵するにあたって実装面積が小さく、部品内蔵層厚が薄くできる部品構成、及び回路基板に微細な配線パターンを形成しつつ、配線パターンとの接続を形成しながらＬＣＲ等のチップ受動部品を正確に実装、内蔵する製造方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of the performance improving technique of microphotofabrication using far-ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, specifically to provide a negative resist composition which, even in fine pattern formation, avoids pattern collapse and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

A transmittance distribution or a reflectance distribution of a scale allows an integrated values in a direction perpendicular to a positioning direction to constitute a distribution of the summation of a modulation component corresponding to a fine periodic pattern having a uniform modulation amplitude in the positioning direction, and another modulation component corresponding to a coarse periodic pattern having a uniform modulation amplitude in the positioning direction.例文帳に追加

スケールの透過率分布または反射率分布を、測位方向に垂直な方向の積分値が測位方向に均一な変調振幅となる細周期パターンに対応した変調成分と、測位方向に均一な変調振幅となる粗周期パターンに対応した変調成分と、の加算された値となる分布とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a fine pattern for mass-producing the highly precise pattern of high density with high positional accuracy on a board having flexibility, such as an insulating board with copper foil, which is used for a flexible wiring board, and to provide the printed wiring board using the manufacturing method, and to provide the manufacturing method of the printed wiring board.例文帳に追加

本発明は、フレキシブル配線板に用いるような銅箔付絶縁性基板等の可撓性を有する基板に対して、高精度で高密度な微細パターンを高い位置精度で量産できる微細パターンの製造方法、それを用いたプリント配線板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To uniformly bring a pattern formed surface of a mold into pressure contact with the surface to be imprinted of a magnetic recording medium over the entire surfaces for forming a pattern shape which is uniform and has excellent reliability, in a process for performing patterning of a fine shape on a discrete track medium and a patterned medium using an imprint technique.例文帳に追加

インプリント技術を用いてディスクリートトラックメディアやパターンドメディアに微細な形状パターニングを行うプロセスにおいて、均一かつ信頼性に優れた形状パターンの形成を行うためには、モールドのパターン形成面と磁気記録媒体の被インプリント面とを全面に渡って均一に圧接することが必要である。 - 特許庁

To provide a highly practical negative photoresist suitable for lithography using light of ≤220 nm such as ArF excimer laser light as exposure light and having resistance to pattern deformation due to swelling and adhesion to a substrate (a fine pattern is less liable to peel off a substrate) in addition to dry etching resistance and high resolution.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ光等の２２０ｎｍ以下の光を露光光に用いたリソグラフィ用として好適に用いられる、ドライエッチング耐性、高解像性に加え、膨潤によるパターン変形及び基板密着性（微細なパターンが基板から剥がれにくい）を兼ね備えた実用性が高いネガ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film transistor which easily realizes a fine electrode pattern, and forms so that a substrate front surface and an electrode pattern front surface may turn into the same plane, thereby laminating an insulating film which is laminated on the upper surface of the electrode, and which can, as a result, lower the drive voltage of a transistor.例文帳に追加

微細な電極パターンを容易に実現し、かつ基材表面と電極パターン表面とが同一平面となるように形成することにより、電極の上部に積層する絶縁膜を薄膜化することができ、その結果トランジスタの駆動電圧を下げることが出来る薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an element built-in substrate which can form a fine-pitch conductor pattern on an insulating layer with high precision while securing the size stability of the conductor pattern and to provide the element built-in substrate, and a method for manufacturing a printed wiring board and the printed wiring board.例文帳に追加

導体パターンの寸法安定性を確保して絶縁層上にファインピッチな導体パターンを高精度に形成でき、転写シートの除去も適正に行うことができる素子内蔵基板の製造方法および素子内蔵基板、ならびに、プリント配線板の製造方法およびプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

To provide an adhesive which can be easily peeled without detriment to the pattern shape, even when a fine pattern exists on the surface of an adherend, and which permits a ready peeling operation without deformation of an adherend even when the adherend is thin and easily deformable, to provide a self-adhesive tape and a method for peeling the adhesive.例文帳に追加

被着体表面に繊細なパターンが存在する場合でも、パターン形状を損なうことなく容易に剥離することができ、被着体が薄く変形し易い場合でも、被着体の変形を誘発することなく剥離作業が容易な接着剤、粘着テープ及び接着剤の剥離方法を提供する。 - 特許庁

If a phase shift mask formed with the semipermeable film 12 on a transparent glass substrate 10 is regulated in the thickness of the semipermeable film 12 so as to be made optimum for the pitch of the patterns in fine pattern regions 14, the sub-peaks by adjacent apertures overlap each other in some cases in isolated pattern regions 16.例文帳に追加

透明なガラス基板１０上に半透過膜１２が形成された位相シフトマスクで、微細パターン領域１４におけるパターンのピッチに対して最適となるように半透過膜１２の厚さを調整すると、孤立パターン領域１６において、隣接する開口部によるサブピークが重なり合うことがある。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is adaptable to the formation of a fine resist pattern using a light source of a short wavelength up to 90 nm, excels in resolution, ensures small LWR and good PEB temperature dependency, excels in pattern collapse resistance and hardness to cause defect, and is suitably used even in an immersion exposure step.例文帳に追加

９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。 - 特許庁

To provide a highly ductile sheet material able to simply and finely be adhered to an object with many curved parts with a small radius of curvature even though it has a fine and elaborated picture pattern by means of fully increasing a ductility of a base not accompanied with a failure of an appearance of the picture pattern comprising mesh points.例文帳に追加

網点よりなる図柄の外観不良を伴わずにベースの延性を十分に増大させるようにして、微細できめの細かい図柄を有するにも拘わらず、曲率半径の小さなアール部が多い対象物に対しても簡単かつ綺麗に貼り付けることができる多延性シート材を提供する。 - 特許庁

After grooves are formed on a resin layer in accordance with a wiring pattern and a hydrophobic process is performed on the resin layer except the grooves, or after the hydrophobic process is performed on the resin layer and the grooves are formed on the resin layer in accordance with the wiring pattern, fine particle type conductive paste is applied to the surface of the resin layer and sintered.例文帳に追加

樹脂層に配線パターンに応じて溝を形成し、溝以外の部分の樹脂層に対して疎水化処理を施した後、あるいは、樹脂層に対して疎水化処理を施し、樹脂層に配線パターンに応じて溝を形成した後、微粒子型導電ペーストを塗布し、これを焼結する。 - 特許庁

In a pattern forming method, a mask having a hole made in a desired shape is provided on a substrate, and when a pattern having the same shape as the mask is formed by adhering a substance from above the mask, the substance is dissolved in a super critical fluid or a subcritical fluid to jet from a fine hole to the substrate.例文帳に追加

基体上に所望の形状に孔を開けたマスクを設け、マスクの上から物質を付着させることによりマスクの孔の形状通りのパターンを形成するに当たり、該物質を超臨界流体または亜臨界流体に溶解させて微小孔から基体に向けて噴射することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

In the polarization inversion forming method for polarization-inverting a desired area 20 of a ferroelectric substrate 1, an electrode pattern or a mask pattern is formed on the desired area on the surface of the ferroelectric substrate 1 as an aggregate of fine patterns and a prescribed voltage is applied to the desired area.例文帳に追加

強誘電体基板１の所望領域２０を分極反転させる分極反転形成方法において、該強誘電体基板の表面の該所望領域に対し、電極パターン又はマスクパターンを微細なパターンの集合体として形成し、該所望領域に所定の電圧を印加することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern that can solve problems of short-circuit or breaking of word lines and data line ends caused by interference of diffracted light produced at a pattern end on a boundary part between a memory array and a sub-word driver or sense amplifier when fine word lines and data lines having linewidth smaller than a wavelength are patterned on a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of a metal oxide thin film pattern by which distribution of refractive index in an inorg. optical waveguide, photonic band and interference mirror having small transmission loss and excellent heat resistance can be produced and which is advantageous for the surface imaging process in semiconductor microfabrication and for the formation of a fine metal wiring pattern.例文帳に追加

伝搬損失が小さく、耐熱性に優れた無機系の光導波路やフォトニックバンド、干渉鏡などの屈折率分布を形成でき、かつ半導体微細加工における表面イメージング工程や、微細金属配線パターンの形成に有用な、金属酸化物薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁