「fine pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a radiation-sensitive composition which is sensitive to radiation, particularly (extreme) far-ultraviolet radiation such as EUV with excellent sensitivity, and forms a chemically amplified positive resist film which enables to stably form a high-accuracy fine pattern excellent in nano edge roughness.例文帳に追加

放射線、特にＥＵＶ等の（極）遠紫外線に優れた感度で感応するとともに、ナノエッジラフネスに優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することのできる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

When an operating unit 1 selects a fine letter mode, a history pattern detecting means 4 detects a pixel disposed at a profile of the image of the data, and variably controls an applying time of a voltage to corresponding element so as to reduce the diameter of the hole of the pixel.例文帳に追加

操作部１で細字モードを選択すると、履歴パターン検出手段４は、画像データのうち画像の輪郭部に位置する画素を検出してこの画素の穿孔径が小さくなるよう、対応する発熱体への電圧の印加時間を可変制御する。 - 特許庁

To provide a copper foil with a carrier easy to handle, superior in workability of a laminating process, and of course realizing a high bonding strength with a board and a large Ef(etch factor) value even with a fine wiring pattern having a line breadth and a pitch between wires of about 30 μm.例文帳に追加

線幅や線間ピッチが３０μm前後のファインな配線パターンの場合であっても大きいＥｆ値と、基板との高い接合強度を実現できるのは勿論のこと、取扱も容易で、積層工程の作業性に優れるキャリヤー付き銅箔を提供する。 - 特許庁

To provide a negative image forming method, using a negative type developer, which greatly reduces defects due to residue during formation of a negative image so as to stably form a high-precision fine pattern in order to manufacture an electronic device of high integration and high precision.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ画像の形成において、残渣系の欠陥を著しく低減できる、ネガ型現像液を用いたネガ画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-quality laminate which is equipped with a conductive metallic foil layer and a fluororesin layer provided on at least one side of the conductive metallic foil layer, which has an unprecedentedly low dielectric constant, and which is suitable for fine pattern working of the conductive metallic foil layer.例文帳に追加

導電性金属箔層と少なくともその片面側に設けられるフッ素系樹脂層とを備えるものにあって、従来にない低い誘電率を有し、さらに導電性金属箔層のファインパターン加工に適する高品質な積層体を提供する。 - 特許庁

To obtain the subject composition having excellent moldability and not eliminating a matte fine skin pattern, even when a dark color and molded product characteristics such as a plasticizer non-migrating property are imparted, by compounding a vinyl chloride-based resin, a plasticizer, chlorinated polyethylene, a specific acrylic resin, and calcium carbonate.例文帳に追加

可塑剤非移行性などの製品特性付与や暗色系（特に黒色系）の着色を施しても、高温成形や製品形状によって肌理の細かい艶消し性が消失しない、成形性に優れた塩化ビニル系樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The metal mask 1 is comprised of a stainless steel (SUS) type material and the like, is provided with an opening pattern 2 at a predeterimed position for forming the molded material and is provided with a distance retaining part 3 which retains the distance D between the surface of the metal mask 1 and the substrate of the fine shape forming apparatus which is not illustrated.例文帳に追加

メタルマスク１は、ステンレス（ＳＵＳ）系材料等からなり、所定位置に造形物形成用の開口パターン２が設けられ、メタルマスク１と図示しない微細造形装置の基板との間の距離Ｄを一定に保持する間隔保持部３が設けられる。 - 特許庁

To provide a volume change resin molding, containing a water absorption high molecular resin, that is easy to insert to a mold, easy to mold and fabricate, and enables fine processings, and to provide its manufacturing method, a forming method of a minute pattern and an optical element manufactured by using them.例文帳に追加

型取りや成型加工が容易で、微細加工を可能とする、吸水性高分子樹脂を含む体積変化率の大きい体積変化樹脂成形体およびその製造方法、微細パターンの形成方法、これらを用いて製造された光学素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a printing plate by which a stable fine image pattern can be reproduced by improving the adhesive property of a light shielding ink to a photosensitive printing plate material and to provide a screen printing plate and a gravure printing plate each produced using the method.例文帳に追加

遮光性インクの感光性版材へのインク付着性を向上させることにより、安定且つ精細な画像パターンの再現を可能とする印刷版の製造方法並びにそれを用いて製造されたスクリーン印刷版及びグラビア印刷版を提供する。 - 特許庁

The printing of predetermined patterns 101-105 on the surface of the lens 10 of the eye glass is performed by ejecting as a fine liquid drop a hot-melt ink which is thermally melted based on the patterns generated by a pattern generating section 43 from an inkjet head 41 to the surface of the lens 10 of the eye glass.例文帳に追加

パターン生成部４３で生成したパターンに基づいて熱溶融したホットメルトインクをインクジェットヘッド４１から微小液滴として眼鏡レンズ１０表面に吐出して眼鏡レンズ１０表面に所定のパターン１０１〜１０５等の印刷を行う。 - 特許庁

To provide a gradation photomask substrate on which a fine pattern can be formed with high precision by wet etching of high productivity while an etching solution and manufacturing steps such as a film forming step and a photoprocess are reduced as much as possible, the gradation photomask, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

エッチング液、成膜工程、フォトプロセス等の製造工程をできるだけ少なくして、生産性の高い湿式エッチングにより微細なパターンを高精度に形成可能な階調フォトマスク基板及び階調フォトマスク、並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a bilayer flexible substrate capable of preventing a tight contact strength (peeling strength) between an insulating film and a copper layer from getting worse, even in a thermal history received under a manufacturing process of the flexible substrate, in particular, suitable for forming a fine pattern and for mounting a COF.例文帳に追加

フレキシブル基板の製造工程下で受ける熱履歴においても、絶縁フィルムと銅層との密着強度（ピール強度）の低下が少ない２層フレキシブル基板、特にファインパターン形成、ＣＯＦ実装に適した２層フレキシブル基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

The transfer sheet composed of a peelable protective layer 12, a printing layer 13 and a bonding layer 14 is produced to be transferred to a base material layer 11, on one side of which a fine unevenness is formed, resulting in simultaneously realizing the transferring of the pattern to and the roughening of the surface of the matter to be transferred.例文帳に追加

片面に微細な凹凸を形成した基材層１１に、剥離性保護層１２，印刷層１３，接着層１４を設けた転写シートを作製し、これを転写することによって、絵柄を転写するとともに、その表面を粗面化する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resist composition capable of forming a resist pattern high in resolution and good in sectional forms and high in transmittance of F2 laser beams and suitable for a lithographic process of forming ultra-fine resist patterns having ≤0.15 μm by using F2 laser beams.例文帳に追加

高解像性で断面形状の良好なレジストパターンが形成可能であり、またＦ_2レーザーに対する透過性が高く、Ｆ_2レーザーを用いる０．１５μｍ以下の超微細レジストパターン形成のリソグラフィープロセスに有効な感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a metallic paste which can be formed into a thin film while maintaining conductivity and adhesion strength with a substrate, capable of forming a dense and flat thin film, and that, a fine pattern, as well as a conductive film on which the metallic paste is baked.例文帳に追加

本発明は、導電性及び基板との密着強度を確保しつつ薄膜化を可能とし、緻密で平坦な薄膜が形成可能であり、かつ、微細パターンを形成しうる金属ペースト及びそれを焼き付けた導電膜を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a mask by which defects in a fine pattern and a hole on a mask for exposure with charged particle rays are accurately detected and to provide an apparatus for inspecting a mask capable of shortening inspection time while ensuring high resolution.例文帳に追加

荷電粒子線露光用のマスク上の微小なパターンやホールの欠陥を高精度に検出するマスク検査方法を提供すると共に、高解像度でありながら検査時間の大幅な短縮が可能なマスク検査装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having excellent adhesion and flocculation resistance in development, reducing rib top defects and working a fine pattern on a substrate to be worked in a good yield as a mask material for sandblast, and a sandblast surface working method using the same.例文帳に追加

密着性、現像凝集性に優れ、かつリブ頂部欠損を低減し、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of unidirectional diffusion plate capable of manufacturing a diffusion plate having a fine relief pattern of the order of several micrometer pitch which can be used also for a high precision display device, and to provide a surface relief type diffusion plate.例文帳に追加

本発明は、高精細なディスプレイ装置にも用いることができるような、数μｍピッチ程度の細かいレリーフパターンの拡散板の作成ができるような、一方向性拡散板の作成方法および表面レリーフ型拡散板を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern by which dimensional deviations due to out of focusing of an aligner can be detected and uniformity of dimensions in a chip can be easily ensured, without having to directly dip a resist after baking in a developer.例文帳に追加

ベーク後のレジストを現像液へと直接的に浸漬する必要がなく、露光装置のフォーカスぼけによる寸法はずれを検出することも可能であり、チップ内寸法の均一性を容易に確保することができる微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a semiconductor device, in which fins of an SRAM region having an extremely fine pattern and an active region of a peripheral circuit region are formed inexpensively and with accurate design, and to provide a photomask used for the method of fabricating the semiconductor device.例文帳に追加

極微細なパターンを有するＳＲＡＭ領域のフィンと周辺回路領域の活性領域とを低コストかつ正確なデザインで形成することのできる半導体装置の製造方法、およびその製造方法に用いられるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a plastic material, which enables the faithful formation of a fine pattern with a high aspect ratio and which can make the thickness of a molded article extremely uniform, the molded article formed by the processing method, and processing equipment.例文帳に追加

微細でハイアスペクト比のパターンを忠実に形成することができ、さらに成形品の厚みを極めて均一にすることが可能なプラスチック材料の加工方法及びその加工方法により形成された成形品並びに加工装置を提供すること。 - 特許庁

To use an aqueous solution of which the handling is easy and the load to an environment is small to easily form an adhesive fine electrode or wiring pattern, thereby improving the stability of a process when used for the manufacturing process of an image forming device.例文帳に追加

取り扱いが容易で環境負荷の小さな水系溶液を用い、密着性のよい微細な電極や配線パターンを容易に形成できるようにし、もって画像形成装置の製造プロセスに用いた場合の当該プロセスの安定性を向上させる。 - 特許庁

To provide a mold having not only proper wetness and excellent mold releasability with respect to a photosetting resin, having mechanical strength and shape stability and also having a fine pattern for molding the photosetting resin, and a method capable of manufacturing the mold without causing a flaw.例文帳に追加

光硬化性樹脂に対して適度な濡れ性を有するとともに、優れた離型性を有し、機械的強度、形状安定性を備えた、光硬化性樹脂を成形するための微細パターンを有するモールド、および該モールドを欠陥なく製造できる方法の提供。 - 特許庁

To provide a method which can remove easily the resist material and the planarizing material, without damaging an insulating film, after a fine pattern is formed in an interlayer insulating film of low permittivity on a substrate, in a manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造工程において、基板上の低誘電層間絶縁膜に微細パターンを形成した後、絶縁膜にダメージを与えることなく、絶縁膜加工に用いたレジスト材や平坦化材を容易に除去することができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin for heat imprint with low resin modulus of elasticity at fluidization and sufficient fine pattern transferring property excellent in thermal deterioration resistance in order to suppress generation of a particulate substance in fine processing by heat imprint, a resin solution for heat imprint using the resin, an injection molded body for heat imprint using the resin, a thin film for heat imprint using the resin, and its manufacturing method.例文帳に追加

熱インプリントによる微細加工において、パーティクル状物の発生を抑制するために、耐熱劣化性に優れ、かつ流動化時の樹脂弾性率が低く微細パターン転写性の良好な熱インプリント用樹脂、当該樹脂を用いた熱インプリント用樹脂溶液、当該樹脂を用いた熱インプリント用射出成型体、当該樹脂を用いた熱インプリント用薄膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a connection structure of a multicore cable capable of evading inconveniences caused by soldering connection and capable of easily connecting extra-fine coaxial cables arranged with a narrow pitch in connecting the center conductor of the multicore cable provided with a plurality numbers of the extra-fine coaxial cables to a conductor pattern part of a circuit board, and provide a manufacturing method of the multicore cable and the multicore cable connection structural body.例文帳に追加

複数本の極細同軸ケーブルを備えた多心ケーブルの、中心導体を回路基板の導体パターン部に接続するに際し、半田付け接続により生じる不都合を回避することができるとともに、狭ピッチで配列された極細同軸ケーブルを容易に接続できる多心ケーブルの接続構造、多心ケーブル及び多心ケーブル接続構造体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine and accurate pattern even on a substrate having high reflectivity, a substrate or the like in which a transparent film is interleaved by solving a problem (deterioration of a dimensional accuracy) due to halation or interference of a reflected light from the substrate and conducting an accurate mask alignment.例文帳に追加

基板からの反射光によるハレーションや干渉現象による問題（寸法精度劣化）を解決し、精度の高いマスクアライメントを行うことで、反射率の高い基板，透明膜が介在する基板等においても微細で高精度のパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a high density semiconductor device, and a method of fabrication, by forming plugs and an interconnection readily for a fine pattern when conductive plugs buried in contact holes and an interconnection are formed simultaneously.例文帳に追加

本発明は、コンタクトホールに埋め込んだ導電性プラグと溝を利用した配線を同時に形成する際に、微細なパターンに対して容易にプラグと配線を形成することが可能となり、その結果、高密度な半導体デバイスを作製することができる半導体装置および半導体装置製造方法を得る。 - 特許庁

In a MISFETQ, although the mask 10 is used to expose a gate electrode pattern having a larger gate length Lg, similarly the mask 20 is used to expose a connecting interconnection section which has a fine interconnection width Wj and a contact section having a contact width Wp.例文帳に追加

MISFETＱにおいて、レベンソン位相シフトマスク１０は最も微細なゲート長Ｌｇを持つゲート電極のパターンを露光し、ハーフトーン位相シフトマスク２０はゲート長Ｌｇよりは大きいが同様に微細な配線幅Ｗｊを持つ接続配線部、コンタクト幅Ｗｐを持つコンタクト部を露光する。 - 特許庁

A heat-resistant protective layer 2 mainly comprising a polyamideimide resin with a Tg of 250°C and a diffraction lattice forming layer 3 mainly comprising a urethane resin are applied to a support 1 and a fine uneven pattern constituting a diffraction lattice is formed on the surface of the diffraction lattice forming layer 3 by a roll embossing method.例文帳に追加

支持体１に、Ｔｇ．２５０℃のポリアミドイミド樹脂を主成分とする耐熱保護層２、ウレタン樹脂を主成分とする回折構造形成層３を塗布し、次いで、ロールエンボス法により回折格子を構成する微小凹凸パターンを回折構造形成層３の表面に形成した。 - 特許庁

To provide a roll for rolling embosses and a method of manufacturing copper bars and copper foils for always forming a fine projecting solid pattern having desired dimensions are formed always accurately and uniformly on the surface of the copper bar and the copper foil without causing the degradation or production efficiency and manufacturing yield.例文帳に追加

生産能率や製造歩留まりの低下を引き起こすことなく、銅条材や銅箔材の表面に所望の寸法の微細な凸状の立体パターンを常に正確かつ均一に形成することが可能なエンボス圧延加工用ロール、銅条・銅箔の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a barrier element in which a fine barrier pattern with excellent accuracy of dimension is formed by using a conventional process for manufacturing a liquid crystal display device, and in which no picture is deteriorated by gradation and which performs displays by switching between two-dimensional and three-dimensional pictures, and also to obtain a three-dimensional image display device equipped with the barrier element.例文帳に追加

従来の液晶表示装置の製造プロセスを用いて、微細なバリアパターンを寸法精度良く形成することができ、また、グラデーションによる画像劣化が無い、３次元画像と２次元画像を切り換えて表示するバリア素子およびそれを備えた立体映像表示装置を得る。 - 特許庁

Since the reactant gas of fluoride gas and the assist gas of noble gas and/or halogen gas are made into plasma and etching is performed, even a substrate with the large content of metal components such as an alkali glass substrate 31 is etched, and the substrate with the texture for which the fine recessed and projected pattern is formed on the surface is manufactured.例文帳に追加

フッ化ガスの反応ガスと、希ガス及び／又はハロゲンガスのアシストガスをプラズマ化させてエッチングを行なうから、アルカリガラス基板３１のように金属成分の含有量が多いものでもエッチングされ、表面に微細な凹凸パターンが形成されたテクスチャ付基板を製造できる。 - 特許庁

Since a liquid droplet Fb ejected from an ejection head 30 and impacting on the green sheet 18 adheres to the impact position on a writing surface 18a and then evaporates and dries up at the impact position, a fine liquid wiring pattern PL can be written on a writing surface 18a with metal ink F.例文帳に追加

吐出ヘッド３０から吐出しグリーンシート１８に着弾する液滴Ｆｂは、描画面１８ａ上の着弾位置で付着され該着弾位置で蒸発・乾燥することから、描画面１８ａに金属インクＦによる微細な液状配線パターンＰＬを描画することができる。 - 特許庁

To provide a metal foil having an adhesive layer that has an improved peel strength at the minimum loss of shear adhesive strength, is effective for encapsulating a fine pattern having a small adhesion area, has a good balance of fluidity and hardenability and is excellent in through-hole plugging property.例文帳に追加

せん断接着力を極力損なわずに剥離接着力を大幅に向上でき、接着面積の少ないファインパターンへの封止接着に有効であり、また、流動性と硬化性のバランスに優れ、スルーホール穴埋め性に優れる接着剤層付き金属箔を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask that can decrease changes in a polarization state of exposure light induced by the mask itself and transfer a preferable fine image onto a wafer in photolithography with a 45 nm half pitch node or further advanced techniques, and to provide a method for easily manufacturing the mask and a pattern forming method using the photomask.例文帳に追加

ハーフピッチ４５ｎｍノード以降のフォトリソグラフィにおいて、マスク自身により誘引される露光光の偏光状態の変化を緩和し、良好な微細画像をウェハ上に形成するためのフォトマスク、および簡易なその製造方法、さらに、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

One side of a semiconductor wafer is polished to comparatively higher degree that is suitable for making a fine pattern by a lithography process, and the other side thereof is polished to comparatively low degree, that is appropriate to provide alignment marks WM3 and WM4 effective for arranging wafers in the lithography process.例文帳に追加

一方の側を、リソグラフィ・プロセスによって微細パターンを作り出すために適した比較的高い程度にまで研磨し、他方の側を、比較的低い程度であるが、それでもリソグラフィ・プロセス中にウェハを整列させるために有効なアラインメント・マークを備えるのに適している程度にまで研磨する。 - 特許庁

To provide a technology of preventing occurrence of void at an edge part when a controller and an image forming engine respectively provided from manufacturers between which a code system of an arrangement pattern of fine pixels used for promoting a high resolution of pixels cannot be shared with each other and are mounted and activated on one and same composite machine.例文帳に追加

画素の解像度化に用いる微画素の配列パターンのコード体系を共有化し得ていないメーカから夫々提供されるコントローラと画像形成エンジンとを同一の複合機に搭載させて稼動させる場合におけるエッジ部の白抜けの発生を防ぐこと。 - 特許庁

To provide a resist composition for negative development excellent in line width roughness (LWR), exposure latitude (EL) and depth of focus (DOF) and a pattering process using the same, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly-integrated and high-accuracy electronic device.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、露光ラチチュード（ＥＬ）及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for an inkjet which is coated by an inkjet system, is optically settable with efficiency even if exposure is low, and further, can make thermosettability after optical setting satisfactory, thus can form a fine resist pattern with high precision.例文帳に追加

インクジェット方式により塗工される硬化性組成物であって、露光量が少なくても、効率的に光硬化させることができ、更に光硬化後の熱硬化性を良好にすることができ、従って微細なレジストパターンを精度よく形成することができるインクジェット用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a blank for a reflective photomask and a manufacturing method thereof, and a reflective photomask and a manufacturing method thereof, in and by which the blank and the photomask are clean against an outgas component present in a resin-made mask case and a clean room environment, cause no contamination of the inside of an exposure device and allow a fine pattern to be formed.例文帳に追加

樹脂製マスクケースやクリーンルーム環境中に存在するアウトガス成分に対して清浄で露光装置内部を汚染することのなく、微細なパターン形成ができる、反射型フォトマスク用ブランク及びその製造方法並びに反射型フォトマスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

When, using such the photocurable/thermosetting conductive composition, a pattern of a coating film is formed by exposure and development and then hardened by heating at 80-300°C, the fine conductive circuit having excellent conductivity and adhesiveness can easily be formed without the use of a complicated process.例文帳に追加

このような光硬化性熱硬化性導電組成物によれば、塗膜のパターンを露光現像にて形成し、その後、８０℃〜３００℃で熱硬化することにより、導電性と密着性が共に優れる微細な導電回路を複雑な工程を経ることなく容易に形成することができる。 - 特許庁

On the frame of the replaceable part such as a process unit, a toner cartridge, a tone bolt to be used in the state of being attachable and detachable to/from the device main body of the image forming apparatus such as the electrostatic copying device, the printer, a hologram (container identification code) 7 having the light reflecting layer of a fine recessed and projecting pattern 71 is carved.例文帳に追加

静電式複写装置、プリンタなどの画像形成装置の装置本体に対して着脱自在に使用されるプロセスユニット、トナーカートリッジ、トナーボトルなどの交換可能部品の枠体上に、微細な凹凸模様７１の光反射層を有するホログラム（容器識別コード）７を刻設する。 - 特許庁

To provide an ultraviolet-sensitive compound having an action such as development of adhesiveness by ultraviolet irradiation, an adhesive for nanoimprint technology having excellent adhesiveness between a metallic thin film and a thermoplastic polymer, a substrate having a fine metal thin film pattern and a method for producing the substrate.例文帳に追加

紫外線照射により接着性を発揮する等の作用を示す感紫外線化合物、該化合物を用いた、金属薄膜と熱可塑性高分子との接着性に優れたナノインプリント用接着剤、微細な金属薄膜パターンを有する基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a film-like object capable of selectively performing surface treatment by a fine cutting action by non-contactly and easily finishing a smooth surface of a prescribed pattern by a conventional procedure without requiring a special scanning operation.例文帳に追加

非接触で微細な削り作用による表面処理を選択的に行うことができ、特別な走査動作は必要なく一般的な手順により所定パターンの平滑面を容易に仕上げることができるフィルム状の対象物の表面処理方法を提供すること - 特許庁