「fine pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve an yield due to variations in film thicknesses and film qualities among wafers by enabling measurement of surface roughness of the wafer with a pattern having fine irregular patterns in a midway of wafer working, in a method for obtaining roughness of a substrate and a device for obtaining the roughness of the substrate.例文帳に追加

基板の粗さを得る方法、及び基板の粗さを得るための装置において、ウェハ加工途中の微細な凹凸のパターンを有するパターン付きウェハの表面粗さを測定することを可能にすることで、ウェハ間の膜厚や膜質のばらつきによる歩留まりを向上させることを目的とする。 - 特許庁

To manufacture a circuit wiring board having a minute fine pitch, high dimension accuracy and reliability of bonding between a circuit wiring and an insulating resin layer by preventing the deterioration of dimension accuracy of a wiring having a formed pattern which is caused by heat treatment in a process of manufacturing the circuit wiring board.例文帳に追加

回路配線基板の製造過程における加熱処理によって生じるパターン形成された配線の寸法精度の低下を防止し、微細なファインピッチで、寸法精度が高く、しかも回路配線と絶縁樹脂層との密着信頼性が高い回路配線基板を製造する。 - 特許庁

To provide a shape profile measuring device capable of realizing highly accurate measurement of a fine short-wavelength pattern by imparting a scatterometer device for solving the problem of grazing incidence in the case of using a reflection type objective lens and the problem of chromatic aberration in the case of using the reflection type objective lens.例文帳に追加

反射型対物レンズを用いる場合の斜入射の問題と、反射型対物レンズを用いる場合の色収差の問題を解決するスキャテロメトリィ装置を与えることで、短波長で微細パターンの高精度な測定を実現できる形状プロファイル測定装置を提供する。 - 特許庁

In the method for forming a fine pattern, a light shielding film of photomask is brought into contact with a photoresist on a substrate and then pressed against the photoresist thus bringing micro openings, formed by the light shielding film, close to the photoresist before the photoresist is exposed with evanescent light.例文帳に追加

微細パターン作製方法において、フォトマスクの遮光膜を、基板上のフォトレジストに接触させた後、さらに押し付け、遮光膜によって形成された微小開口と前記フォトレジストとの距離を近付けてから、エバネッセント光によってフォトレジストを露光するように構成する。 - 特許庁

The method for forming the fine pattern of the semiconductor device includes pretreating a top portion of a photoresist film with an alkane or alcohol solvent in the immersion lithography process and forming an over-coating film, whereby a uniform over-coating film can be formed with a small amount of the solvent.例文帳に追加

液浸露光工程でフォトレジスト膜の上部をアルカンまたはアルコール溶媒で前処理した後、オーバーコーティング膜を形成する段階を含むことにより、少量の溶媒でむらのないオーバーコーティング膜を形成することのできる半導体素子の微細パターン形成方法。 - 特許庁

Then, the semiconductor crystal is dry-etched by using the mask to form a primary fine pattern on the semiconductor crystal.例文帳に追加

次いで、上記マスクを用いて上記半導体結晶をドライエッチングすることで上記半導体結晶上に１次微細パターンを形成し、上記１次微細パターンが形成された半導体結晶をウェットエッチングすることで上記１次微細パターンが水平方向に延びた２次微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a processing method having sufficient etching resistance and capable of closely transferring a formed pattern formed by self-organization and obtain a formed body in a fine processing technology using an etching mask formed by self-organization of a block copolymer.例文帳に追加

ブロックコポリマーの自己組織化より形成されるエッチングマスクを用いた微細加工技術において、十分なエッチング耐性を有し、しかも自己組織化により形成されるパターンを忠実に転写することができる加工方法及び成形体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass which can eliminate defects due to the fluorescence emission of an optical material used for a stepper exposure device used for the exposure and the transfer of a fine pattern of an exposure device, a laser processing device, an optical cleaning device, an integrated circuit or the like to reduce intensity of fluorescence emission, and which has excellent transmission performance.例文帳に追加

露光装置、レーザ加工装置、光洗浄装置等、集積回路等の微細パターンを露光・転写に用いるステッパ露光装置に用いられる光学系材の蛍光発光による欠陥をなくし、強度低減できるより優れた透過性能を備えた合成石英ガラスの提供。 - 特許庁

To provide a roll forming method which facilitates machining, can reduce machining cost, forms fine holes in a metal foil at a prescribed pattern and an aperture ratio, and removes dust, machining wastes, and fines resulting from an environment or a machining process itself during machining, and also to provide the metal foil formed by the same.例文帳に追加

加工が容易であり、加工コストの低減が図れ、金属箔に所定の配置・開口率で微細孔明け加工を行い、該加工での、環境または加工そのものにより発生する塵・加工屑・微粉を排除するロール成形方法及びその方法で製造された金属箔の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming a fine pattern by photolithography and forming an insulating film without performing heat treatment at >200°C and having no problem that a carrier is trapped and the degree of charge transfer is reduced when used as a gate insulating film of an organic thin film transistor.例文帳に追加

フォトリソグラフィにより微細なパターン形成でき、２００℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a light beam scanning optical device which can restrain interference between the displacement of a beam and image processing means (screen pattern) even when magnification correction in a sub-scanning direction is carried out by fine adjustment of a rotational speed of a rotating polygon in interlace scanning by plural beams.例文帳に追加

複数のビームによる飛び越し走査において、副走査方向の倍率補正を回転多面鏡の回転速度を微調整して行う場合にあっても、ビームの位置ずれと画像処理手段（スクリーンパターン）との干渉を抑制できる光ビーム走査光学装置を得る。 - 特許庁

The mask blank is used in producing a sub-master mold 20 by imprint-transferring the fine pattern prepared on a surface of master mold 30, and has a hard mask layer on its substrate 1, wherein the hard mask layer contains a layer of chromium compound having a chemical formula CrO_xN_yC_z (where x>0).例文帳に追加

元型モールド３０の表面に設けられている微細パターンをインプリントにより転写してサブマスターモールド２０を製造する際に用いられるマスクブランクスであって、化学式ＣｒＯ_ｘＮ_ｙＣ_ｚ（ただしｘ＞０）であるクロム化合物層を含むハードマスク層を基板１上に有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromagnetic element which can form a fine pattern without increasing a leak current caused by a resist residue, and prevent a leak current from increasing with a reduction in the thickness of an insulating film on an electrode edge.例文帳に追加

レジスト残渣に起因するリーク電流の増大を生じさせることがなく、微細パターンの形成が可能であり、電極のエッジ部分の絶縁膜が薄くなることに起因するリーク電流の増大を抑制することが可能な電磁気素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a wiring pattern forming method, capable of accurately forming a fine and linear conductive wiring with high accuracy, by forming an insulating wiring of requisite minimum by an ink-jet method and forming the cross-sectional shape of the insulating wiring to be in a form of a groove.例文帳に追加

インクジェット法により必要最小限の絶縁性の配線を形成し、絶縁性配線の断面形状を凹溝状に形成することで、高精度で正確な微細な線状の導電性配線を形成することができる配線パターン形成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a conductive film in which a fine pattern of a high permeability low resistance conductive film can be formed easily while improving insulation significantly, and to provide a touch panel in which durability against writing pressure and flexibility are improved, and an integrated solar cell in which conversion efficiency is improved.例文帳に追加

絶縁性が著しく改善でき、高透過性、低抵抗である導電膜及び簡易にファインなパターンを形成できる導電膜の製造方法、並びに筆圧耐久性及び可撓性が向上したタッチパネル、及び変換効率が向上した集積型太陽電池の提供。 - 特許庁

The stamper includes a plate-like body having a Young's modulus of not less than 50 to not more than 500 GPa, a thickness of not less than 200 to not more than 1,000 μm, and a warp with a curvature of not less than 2×10^-5 to not more than 2×10^-3, and a fine structure pattern to be transferred is mounted on one surface.例文帳に追加

ヤング率が５０ＧＰａ以上５００Ｇｐａ以下、厚さが２００μｍ以上１０００μｍ以下であって、曲率が２×10^-5以上２×10^-3以下である反りを有する板状体からなり、その一面に転写すべき微細構造パターンが設けられているスタンパ。 - 特許庁

To provide a polishing pad capable of sustaining excellent flattening performance and polishing speed for a long period of time and reduced in the supplying amount of slurry, in the polishing pad employed in a polishing process for flattening minute unevens of a fine pattern formed on a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハ上に微細なパターンが形成されており、該パターンの微小な凹凸を平坦化する研磨工程に使われる研磨パッドにおいて、良好な平坦化性能および研磨速度を長時間に亘って持続させ、かつ、スラリーの供給量が少なくて済む研磨パッドを提供すること。 - 特許庁

To prevent the occurrence of breaking of a wire to a fine wiring pattern at a lithography process carried out at an after process for a print substrate by rapidly discharging a solvent in resist ink to the atmosphere from the surface of a print substrate in a state to radiate far infrared rays to resist ink coated on the print substrate.例文帳に追加

遠赤外線をプリント基板に塗布されたレジストインクに放射させた状態でその表面からレジストインク中の溶剤を大気に迅速に排出させることによって、プリント基板の後工程で行われるリソグラフィ工程で微細な配線パターンに断線を生じることを防止できる。 - 特許庁

To provide a highly accurate drift correction method with which a photomask is scarcely damaged, by solving problems associated with the conventional photomask correction method using a one-point-drift correction such as occurrence of a scan damage on a place other than a place with a defect on the photomask, inability to open any pin hole in the case of a fine pattern, and so on.例文帳に追加

ワンポイントドリフト補正を用いた従来のフォトマスク修正方法の抱えるフォトマスク上の欠陥以外の箇所にスキャンダメージが生じる、微細パターンの場合にピンホールを開けることができないといった問題を解決し、ダメージの少ない、精度のよいドリフト補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metallic pattern forming method capable of forming fine metallic patterns, without performing etching process and forming the metallic patterns having superior adhesiveness between a base material and a metal film and having a high thermal resistance, even when there is little irregularities of the base material interface.例文帳に追加

エッチング工程を行うことなく微細な金属パターンの形成が可能であり、且つ、基材界面の凹凸が少ない場合でも基材と金属膜との密着性に優れた耐熱性の高い金属パターンを形成しうる金属パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive substrate which is adjusted so as to obtain a product having uniform quality even if an unevenness is caused in the intrasurface reflectance of a substrate when a fine pattern is formed using the photosensitive substrate obtained by disposing a photoresist layer on the substrate by way of an organic antireflection layer.例文帳に追加

基板上に有機反射防止層を介してホトレジスト層を設けた感光性基材を用いて微細パターンを形成する際に、基板の面内の反射率にバラツキを生じても品質の一定した製品が得られるように調整された感光性基材を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent conductive film with improved yields without losing appearance quality by accurately forming a fine line having a line width of 50 μm or smaller without any defects, such as variations in line width and disconnection, when printing a shield pattern by a screen print method.例文帳に追加

スクリーン印刷法によりシールドパターンを印刷する際に、線幅５０μｍ以下の微細なラインを正確に、線幅のばらつきや断線といった欠陥なく形成し、外観品質を損なうことなく、且つ歩留まりよく透明導電性フィルムを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a circuit wiring board having a minute fine pitch, high dimension accuracy and reliability of bonding between a circuit wiring and an insulating resin layer by preventing the deterioration of dimension accuracy of a wiring having formed pattern which is caused by heat treatment in a process of manufacturing the circuit wiring board.例文帳に追加

回路配線基板の製造過程における加熱処理によって生じるパターン形成された配線の寸法精度の低下を防止し、微細なファインピッチで、寸法精度が高く、しかも回路配線と絶縁樹脂層との密着信頼性が高い回路配線基板を製造する。 - 特許庁

To provide an active energy ray-curable resin composition capable of easily producing a cured product having high surface hydrophilicity despite having unswelling tendency to water and giving extremely fine structure through active energy ray pattern exposure.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、水に対して非膨潤性でありながら高い表面親水性を示し、且つ活性エネルギー線のパターン露光によって極めて微細な構造を有する硬化物を容易に形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を提供することにある。 - 特許庁

This invention concretely provides the method for forming the semiconductor structure including a plurality of fin FET devices, and provides a method for using a mask getting across it together with a chemical oxide removing (COR) process when a rectangular pattern is formed to demarcate a relatively fine fin.例文帳に追加

具体的には本発明は、複数のフィンＦＥＴデバイスを含む半導体構造を形成する方法であって、長方形のパターンを形成して相対的に細いフィンを画定する際に、これを横切るマスクを、化学的酸化物除去（ＣＯＲ）プロセスとともに使用する方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that word line and data line ends are short-circuited or broken at boundary parts between a memory array and a sub-word driver or a sense amplifier due to interference of diffracted light generated at a pattern end part when a fine word line and a data line having a line width less than a wavelength are patterned in a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決する。 - 特許庁

To provide an excellent method for manufacturing a colored and patterned mold capable of easily forming a colored pattern in which fully interesting fine recesses and projections are colored at a low cost and flexibly changing the specifications, and the colored and patterned mold obtained by it.例文帳に追加

低コストで簡単に、興趣に富む微細な凹凸に着色を施した着色模様を形成することができ、しかもその仕様を柔軟に変更することのできる、優れた着色模様付成形体の製法と、それによって得られる着色模様付成形体を提供する。 - 特許庁

To provide a mold with fine convexo-concave patterns where production can be achieved in a simple manufacturing process with a good repeatability, and both warpage and bending due to repetitive use can be handled, and to provide methods for manufacturing the mold, transcribing a convexo-concave pattern, and manufacturing a material with concaves.例文帳に追加

簡略な作製プロセスにより再現性良く作製することができ、繰り返し使用による反りや曲りに対応することが可能となる微細な凹凸パターンを有するモールドとその製造方法、凹凸パターンの転写方法、凹部を有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner which can improve the positioning precision of a substrate surface by precisely detecting the tilting of a substrate without making an optical system complex, even when a step is formed on the substrate surface and then precisely projects a fine pattern for exposure.例文帳に追加

光学系を複雑化することなく基板表面に段差が形成されていても基板の傾きを精度良く検出して基板表面の位置決め精度の向上を図り、その結果、微細なパターンの投影露光を精度良く行うことのできる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mechanism of laminate device pressurization capable of easily obtaining a stable and fine pressure control pattern for an extensive pressure control range of a thermo-compression bonding step, obtaining high control accuracy over the extensive pressure control range from a low pressure to a high pressure, and enhancing the quality of an IC card or the like.例文帳に追加

熱圧着工程等の広い圧力制御範囲に対する安定した細かな圧力制御パターンを容易に得るとともに、低圧から高圧までの広い圧力制御範囲全体における高度の制御精度を得、ＩＣカード等の更なる品質向上を図る。 - 特許庁

The method may also comprise the steps of coating a paint obtained by kneading the diamond powder of 10 to 15 microns with a glaze of 1.0 g on the surface of a biscuit firing porcelain material, and backing the material at 800 to 900°C, thereby displaying the picture pattern irradiated with the reflected light of the diamond fine particles on the surface of the porcelain.例文帳に追加

釉薬１．０ｇに１０〜１５ミクロンのダイヤモンドパウダーを０．ｌ〜０．３ｇの割合で混練した塗料を素焼き陶磁材表面に塗布し、８００〜９００℃で焼成して陶磁器表面にダイヤモンド微粒子の反射光を帯びた絵模様を表すこともできる。 - 特許庁

To provide a wiring board having a highly precise and fine wiring pattern without deteriorating peeling strength by maintaining satisfactory inter-layer electric connection reliability by forming a plurality of types of different conductive materials like a layer in a through-hole.例文帳に追加

貫通孔内に異なる複数の種類の導電性材料を、層状に形成することにより、良好な層間の電気的接続信頼性を保持するとともに、剥離強度を低下させることなく、高精度且つ微細な配線パターンを有する配線基板を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing a semiconductor device and other fine-structured parts, by using a projection objective lens (5), the image of a pattern arranged in the object plane of the projection objective lens is projected on a photosensitive substrate arranged in the region of an image surface (12) of the projection objective lens.例文帳に追加

半導体素子およびその他の微細構造部品を製造する方法において、投影対物レンズ（５）を用いて、該投影対物レンズの物体平面内に配置されるパターンの像が、前記投影対物レンズの像面（１２）の領域内に配置される感光性基板上に投影される。 - 特許庁

To provide a resist composition for immersion exposure which inhibits elution into an immersion medium and does not impair the function of resist in an immersion exposure technique, has a high contact angle to the immersion medium, and is capable of forming a fine resist pattern, and a method for manufacturing a semiconductor device using the same.例文帳に追加

液浸露光技術において、液浸媒体への溶出を抑制してレジストの機能を損なわず、前記液浸媒体に対して高い接触角を有し、微細なレジストパターンを形成可能な液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いた半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a new compound suitable for preparing a polymer compound which enables to obtain a highly sensitive photoresist composition which forms a fine pattern with excellent resolution and good rectangular shape, and gives good resist characteristics even when the acid generated by an acid generator is weak.例文帳に追加

優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物の調製に好適な新規化合物を提供する。 - 特許庁

To obtain a developer for a resist excellent in such dissolution selectivity as to promote solvent power to a part to be dissolved and to inhibit solvent power to a part not to be dissolved even in a fine resist pattern and attaining development in a shorter time and to provide a developing method using the developer.例文帳に追加

微細なレジストパターンにおいても、溶解部に対しては溶解性を促進し、非溶解部に対しては溶解性を抑制するという溶解選択性に優れ、より短い時間で現像できるレジスト用現像液及びこの現像液を用いた現像方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition capable of forming a chemically amplified resist film which effectively responds to electron beams or extreme ultraviolet rays and has excellent nano edge roughness, sensitivity, and resolution to stably produce a fine pattern with a high degree of accuracy, and to provide a polymer used therefor.例文帳に追加

電子線や極紫外線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物及びそれに用いられる重合体を提供する。 - 特許庁

To provide an improved polymer and photoresist composition in which the formation of a fine pattern in an electronic device production is enabled, and at least one of problems (separately described) relating to a newest technology can be avoided or remarkably improved, and to develop a photolithographic method for negative tone development.例文帳に追加

電子デバイス製造における微細パターンの形成を可能にし、および最新技術に関連する１以上の上記課題を回避するかまたは顕著に改善する、改良されたポリマー、フォトレジスト組成物、およびネガティブトーン現像のためのフォトリソグラフィ方法の開発。 - 特許庁

To provide an original-wood decorative component with high decorativeness and a fine appearance, which can suppress a great increase in the thickness of an existing product and make light evenly emitted all over a woodgrain pattern, by installing an EL performing plane light emission inside sliced veneer of the original-wood decorative component.例文帳に追加

本木加飾部品のつき板より内側に面発光であるＥＬを設置することで、既存品からの厚さの大幅な増加を抑え、且つ、木目柄を全面ムラなく光らせることができる高い装飾性・美観性を持った本木加飾部品を提供することを目的とする。 - 特許庁

The die 2 is heated at an appropriate temperature higher than a glass transition point of the non-crystalline alloy film but lower than a crystallizing temperature, and under the temperature condition, a die transcription surface (convex surface) 2a is formed under pressing by microwave pressing means, whereby a pattern 20 comprising many fine conical concaves 2b is formed.例文帳に追加

この金型２を、非晶質合金膜のガラス転移点を超え、結晶化温度未満の範囲内の適宜温度に加熱保温し、この状態でマイクロ圧子により金型転写面（凸面）２ａを押圧加工して、多数の微細な円錐状くぼみ２ｂからなるパターン２０を形成した。 - 特許庁

To provide a simple flaw inspection device, capable of inspecting flaws of a substrate, without shortening the wavelength of an illumination light source, even when the line width of the repeated pattern on the substrate is fine enough to exceed the lower light value (lower limiting value, based on the wavelength of the illumination light source) in the conventional device.例文帳に追加

基板上の繰り返しパターンの線幅が従来装置における下限値（照明光源の波長に基づく下限値）を超えて微細な場合でも、照明光源の波長を短くすることなく基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet head in which processing and forming a fine electrode wiring pattern are easily performed, which has a thermal expansion coefficient close to the thermal expansion coefficient of a head chip, and in which a driving electrode provided in a channel can be connected with the external wiring from the back end of the head chip by using a wiring substrate excellent in ink resistance.例文帳に追加

加工や微細な電極配線パターンの形成が容易であり、かつ、ヘッドチップの熱膨張係数に近く、かつ、耐インク性に優れた配線基板を用いて、ヘッドチップの後端からチャネル内に設けた駆動電極と外部配線との接続ができるインクジェットヘッドの提供。 - 特許庁

To make the mounting position of an extra length processing part freely changeable as well as to make its processing function demonstrable with at least two mounting holes, to make fine adjustment possible with a few millimeters as a unit, and to perform mounting in a state of high density in installing electronic circuit components and to make high density possible in designing a wiring pattern.例文帳に追加

余長処理部の取付け位置が自由に変更できるとともに最低２カ所の取付け穴で余長処理機能を発揮するすること、数ミリ単位で微少調整を可能にすること、高密度に電子回路部品が実装できるとともにパターン配線設計も高密度化できる。 - 特許庁

To form a fine pattern of a specified metal film with high sureness and to prevent re-sticking of a lifted-off film piece or 'burrs' from occurring.例文帳に追加

本発明は、所定の金属膜からなる微細パターンを高い確実性をもって形成することができると共に、リフトオフされた膜片の再付着や「バリ」の発生を防止することができるリフトオフ方法及びこのリフトオフ方法の実施に使用する有機膜除去装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacture method of a multiyear printed wiring board where the thickness of a metal layer on the surface of an insulating layer is thinned and a conductor layer is formed of a fine circuit pattern, while the thickness of a metal layer in a via hole is secured and connection reliability between the conductor layers is secured.例文帳に追加

ビアホール内の金属層の厚みを確保して導体層間の接続信頼性を確保しながら、絶縁層の表面の金属層の厚みを薄くして微細回路パターンで導体層を形成することができる多層プリント配線板の製造方法を提供する - 特許庁