| 例文 |
in process processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4275件
To realize highly efficient solution process and particularly realize highly efficient simultaneous solution process of a plurality of substrates by fully utilizing sufficient processing capability of bubbles to the processing surface at the time of solution processing through introduction of bubbles under the condition that the substrate is soaked in the solution.例文帳に追加
基板を液体内に浸漬させた状態で気泡を導入して液体処理を行う場合に、気泡が被処理面に対して十分な処理能力を発揮することで、液体処理の効率化を図ること、特に複数の基板を同時に液体処理する場合の効率化を図ること。 - 特許庁
To efficiently perform picking work of merchandise and to process processing of information in regard to the picking work and process from receiving to shipping as a flow of a series of information.例文帳に追加
商品のピッキング作業を効率良く行わせるとともに、ピッキングにおける情報の処理と、入荷から発送までの工程を一連の情報の流れとして処理できるようにする。 - 特許庁
After sticking one mother substrate 35 to the other mother substrate 31, the substrate remaining on positions (recessed parts of the upper substrate) opposed to the electrode taking-out portions is removed in a strip process or an external processing process.例文帳に追加
一方と他方のマザー基板35、31を貼り合わせた後、短冊工程ないし外形加工工程で電極取り出し部と対向する位置(上基板の凹部)に残った基板を取り除く。 - 特許庁
To shorten the washing time of a tip of ball pen and improve the washing effect in the manufacturing method of the ball pen consisting of, at least, a processing process and a washing process.例文帳に追加
少なくとも加工工程と洗浄工程とから成るボールペンチップの製造方法において、ボールペンチップの洗浄時間を短縮すると共に、その洗浄効果を向上させる。 - 特許庁
To provide a processing device capable of efficiently carrying out a process for securing a conductivity by making to occur dielectric breakdown in a conductive resin and a process for measuring a capacitance of a piezoelectric body.例文帳に追加
導電性樹脂に絶縁破壊を生じさせて導通性を確保する工程と、圧電体のキャパシタンスを測定する工程とを能率良く行なうことができる処理装置を提供する。 - 特許庁
In addition, when receiving a read/write request from the processing device, the control device has a function for causing the R/W device assigned to the recovery process to suspend and restart the recovery process.例文帳に追加
さらに、制御装置は、回復処理用に割り当てたR/W装置に、処理装置からのリ−ド/ライト要求を受付ると、回復処理を一時中断させ、再開させる機能をもつ。 - 特許庁
In this garbage treatment machine, the photographing device 1 photographs the garbage 16, an image processor 2 performs data processing and a controller 3 decides operation contents of drying process or stirring process.例文帳に追加
厨芥16を撮影装置1で撮影し、画像処理装置2でデータ処理し、制御手段3は乾燥工程あるいは攪拌工程の運転内容を決定する厨芥処理機としている。 - 特許庁
To maximally highly hold a processing rate in this case, by minimally reducing the negative action of arc discharge to a plasma process and a device used for performing the plasma process.例文帳に追加
プラズマプロセスへのアーク放電のネガティブな作用及びプラズマプロセスの実施に使用される装置を最小限にまで低減し、この際に処理レートをできるだけ高く保持することである。 - 特許庁
Further excellent efficiency in processing is attained because a process for removing impurities from carbon nanotube crude product and a process for separating the semiconducting carbon nanotubes are carried out at the same time.例文帳に追加
また、カーボンナノチューブ粗生成物から不純物を除去する工程と半導体性カーボンナノチューブを分離する工程とを共に行えるので工程の効率面で非常に優秀である。 - 特許庁
The preparation process of the hydrophilic-group containing resin structure consists in introducing the hydrophilic group by the laser processing utilizing the multiple photon absorption process.例文帳に追加
親水性基含有樹脂構造体の製造方法は、多光子吸収過程を利用したレーザー加工により、親水性基を導入して、親水性基含有樹脂構造体を製造する。 - 特許庁
The method comprises a process of forming a layer doped with fluorine on the surface of a glass material, and a process for immersing the glass material in an etching liquid and processing.例文帳に追加
ガラス材料表面に予めフッ素をドープした層を形成する工程と、そのガラス材料をエッチング液に浸漬して加工する工程とを具備することを特徴とするガラス加工方法。 - 特許庁
A processing time setting means 1c determines a process executed by each server from a pair of a request message and a response message in a message storage means 1b and stores start time and end time of the process in a processing time information storage means 1d.例文帳に追加
処理時間設定手段1cにより、メッセージ記憶手段1b内の要求メッセージと応答メッセージとの組から各サーバで実行された処理が判断され、処理の開始時刻と終了時刻とが処理時間情報記憶手段1dに格納される。 - 特許庁
In addition, the sheet post-processing part 21 is provided with first and second dividing process parts 30 and 31 capable of independently performing post- processes, so that post-processing of sheets of small sizes is carried out concurrently with the processes in the two dividing process parts 30 and 31.例文帳に追加
加えて、シート後処理部21には、各々独立して後処理を実施可能な第1及び第2の分割処理部30・31が設けられており、小サイズシートに対しては、2つの分割処理部30・31にて並行してシートに対する後処理が実施される。 - 特許庁
In a front plate forming process, a dielectric layer 4 is subjected to planarizing treatment and thereafter a protective membrane is formed, or in a rear plate forming process, a surface of a partition layer 6 (the layer before processing to the partition) is subjected to planarizing treatment and thereafter a partition is formed by processing.例文帳に追加
前面板の形成工程において、誘電体層4を平坦化処理し、その後保護膜を形成する、または、背面板の形成工程において、隔壁層6(隔壁に加工する前の層)の表面を平坦化処理し、その後隔壁を加工形成する。 - 特許庁
By this, obtaining money by mistake in license sales is eliminated, a table or a process for checking charged fees and fees to be charged in a license sales process becomes unnecessary, and simplification of processing action, simplification of a processing program, and effective utilization of a memory are carried out.例文帳に追加
これにより、ライセンス販売に際しての金銭の取得ミスを無くすことができる上、ライセンス販売処理において課金、未課金をチェックするテーブルや処理が不要となり、処理動作の簡素化と処理プログラムの簡素化およびメモリの有効利用を図り得る。 - 特許庁
In a step S6, variables on a DRAM and a stack area used when a process performed in the cell refreshing process of a RAM started in a step S8 is performed, or when a process responding to a command from an input part carrying out processing is performed are fed to a cache memory.例文帳に追加
ステップS6で、ステップS8で開始されるRAMのセルフリフレッシュ処理中に実行される処理を実行するとき、または処理中の入力部からの指令に対応する処理を実行するとき使用される、DRAM上の変数およびスタックエリアが、キャッシュメモリに読み込まれる。 - 特許庁
For example, when an output inhibition pin 16-1 is described in the output inhibition column 16 in the low speed lowering process of a process No. 7, the writing processing of data to be outputted to an output signal address is set so as to be non-executable in the process No. 7 when the stepping program is executed.例文帳に追加
例えば工程No.7の低速下降工程の出力禁止欄16に出力禁止ピン●16−1を記述すると、この歩進プログラムの実行時にはNo.7工程は出力信号アドレスに出力されるデータの書込み処理を非実行に設定される。 - 特許庁
To perform a treatment which reduces adverse influences due to treatment liquid, treatment liquid in the last process which remains on a substrate is performed, while preventing that rinse liquid flows backwards to the processing tank of a previous process to the substrate, even in a case where the treatment liquid, the treatment liquid which is hard to remove from the substrate in the last process is given, etc.例文帳に追加
前工程において基板から除去し難い処理液が付与されていた場合等であっても、基板に対してリンス液が前工程の処理槽に逆流することを防止しつつ、基板上に残存する前工程での処理液による悪影響を低減する処理を行う。 - 特許庁
In a processing cost calculating process C, the mixture ratio of dust contained in the processing target is calculated on the basis of the measured result of each of weights; the processing targets are classified corresponding to the calculated dust mixture ratio; and processing costs corresponding to classes are calculated.例文帳に追加
そして、処理費用算出工程Cでは、各重量の計測結果に基づいて処理対象物に含まれていたゴミの混入率を算出するとともに、算出されたゴミ混入率に応じて処理対象物をクラス分けし、クラスに対応した処理費用を算出する。 - 特許庁
To obtain a substrate processing device, which can eliminate a use amount of a processing solution and can contain a specified chemical solution component of a sufficient amount in the processing solution at the time when a substrate is processed, when the substrate is impregnated in the processing solution having the chemical solution component incidental to a natural deterioration to process it.例文帳に追加
自然劣化を伴う薬液成分を有する処理液に基板を浸漬して処理するにあたって、処理液の使用量を削減するとともに、基板処理時において処理液中に十分な量の所定の薬液成分を含有させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide: an image forming apparatus such that the independence of a function unit performing inter-process communication is high in data processing in the image forming apparatus, and functions of a transmission and a reception side can be easily expanded; a data processing method in image forming apparatus; and a data processing program.例文帳に追加
画像形成装置内のデータ処理において、プロセス間通信を行う機能部の独立性が高く、送受信側の機能を容易に拡張することができる画像形成装置、画像形成装置内のデータ処理方法、及びデータ処理プログラムを提供する。 - 特許庁
To provide a batch type vacuum processing apparatus capable of efficiently performing surface processing such as removal of a natural oxide film of a wafer by using remote plasma processing process and capable of reducing deterioration in wafer yield, device loads and so on.例文帳に追加
遠隔プラズマ処理プロセス処理を用い、ウェハの自然酸化膜除去などの表面処理を効率的に行うことができ、ウェハの歩留り悪化や装置負担を軽減し得るバッチ式真空処理装置を提供する。 - 特許庁
A schedular 40 selects a process or protocol processing execution entry with the highest priority from processes and protocol processing execution entries laid in the execution waiting state, and a processing part 50 executes the selected one.例文帳に追加
そして、スケジューラ40で、実行待ち状態となっているプロセス及びプロトコル処理の実行エントリから、最も優先度の高いプロセス又はプロトコル処理の実行エントリを選択し、処理部50でこれを実行する。 - 特許庁
The control section 11 selects, in accordance with the original scan conditions a first processing to start the original reading process after the user authentication or a second processing to perform the user authentication after starting the original reading processing.例文帳に追加
制御部11は、ユーザ認証後に原稿の読み取り処理を開始する第1の処理、あるいは、原稿の読み取り処理の開始後にユーザ認証する第2の処理を、原稿の読取条件に応じて選択する。 - 特許庁
To provide an end processing method and an end processing method of a skin on a laminated molded article capable of certainly and uniformly processing an entraining margin back surface in a heating process of an entraining margin of the skin.例文帳に追加
貼り合わせ成形品における表皮の端末処理方法並びに端末処理装置であって、表皮の巻込みシロの加熱工程時、巻込みシロ裏面を確実かつ均一に加熱処理することを可能にする。 - 特許庁
The wireless processing unit then updates the function of the wireless processing unit, if reception of wireless function update information is detected, by performing an update process specified in the wireless function update information without involving the application processing unit.例文帳に追加
その後、無線処理部は、無線機能更新情報の受信が検知された場合に、アプリ処理部を介さずに、無線機能更新情報によって特定される更新処理を実行し、無線処理部の機能を更新する。 - 特許庁
When the signal processing operation of the pre-process section 14 is revised, the signal processing operation is revised in the unit of a frame summing period at a frame summing processing section 15 based on a discrimination signal TW denoting the frame summing period.例文帳に追加
プリプロセス部14の信号処理動作を変更するときには、フレーム加算期間を示す判別信号TWに基づいて、信号処理動作の変更をフレーム加算処理部15でのフレーム加算期間単位で行う。 - 特許庁
To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which damage on the interlayer insulating film group is reduced during laser processing, and the processing profile of a trench formed by laser processing can be improved.例文帳に追加
本発明は、レーザ加工をする際における層間絶縁膜群のダメージを低減するとともにレーザ加工によって形成される溝の加工形状を改善することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image processing system avoiding trouble due to noncompatibility with a software installed in a terminal processing device with a photograph processing device, and easily carrying out an update process and management of the software.例文帳に追加
端末処理装置に搭載されたソフトウェアが写真処理装置に対応しないことによる不具合を回避することができ、そのソフトウェアの更新処理、管理を容易に行いうる画像処理システムを提供すること。 - 特許庁
The video recorder starts the secret video recording processing (#4) at set start time of the secret video recording processing (YES at #1) on condition that the video recorder is powered OFF (YES at #2) and the normal video recording processing is not in process (NO at #3).例文帳に追加
録画装置は、シークレット録画処理の設定開始時刻になったとき(#1でYES)、電源オフ状態であって(#2でYES)、通常録画処理中でなければ(#3でNO)、シークレット録画処理を開始する(#4)。 - 特許庁
Further, when the printing request file in which the plurality of printing processes are defined in the specified structure is received from the clients 3 and 4, the processor for executing the processing of the process is specified for each process defined by a processing request by using the processing request and a stored list.例文帳に追加
さらに、クライアント3、4から複数の印刷プロセスが特定構造で定義されている印刷要求ファイルを受信したら、処理要求と記憶されているリストとを用いて、処理要求により定義されている処理プロセス毎に当該処理プロセスの処理を実行するプロセス処理装置を特定する。 - 特許庁
To provide a managing method for processing procedures of a manufacturing process for a photomask in which wrong processing is avoided by preventing the confirmation of a product name, the material of a substrate, processing conditions, etc., from being erroneously performed or with an omission when a photomask substrate is collated with its manufacture instruction form in the manufacturing process for the photomask.例文帳に追加
フォトマスクの製造工程内において、フォトマスク基板とその製造指示書とを照合する際、製品名、基板の材質、処理条件等の確認の誤りや漏れの防止により、誤った処理を行うことを回避するフォトマスクの製造工程の処理手順の管理方法を提供する。 - 特許庁
In addition, the method includes the process of forming a first recessed part by laser processing in a region in which at least a region in which the beam 19 is formed in the face to be etched is excluded, and has the process of performing a first wet etching from the face to be etched to the silicon substrate.例文帳に追加
さらに、被エッチング面のうち梁19を形成する領域を少なくとも除いた領域に、レーザー加工によって第1の凹部を形成する工程と、シリコン基板に対して、被エッチング面から第1のウエットエッチングを行う工程とを有する。 - 特許庁
In a MBTYPE analysis unit, it is decided which circumference prediction process or a time Direct prediction processing is to be performed for an object macroblock, and data is directed to a time Direct prediction process unit or to a circumference prediction process unit, according to the decision result.例文帳に追加
MBTYPE解析部において、対象のマクロブロックが周辺予測処理を行うものか、時間Direct予測処理を行うものかを判断し、判断結果に応じてデータを時間Direct予測処理部と周辺予測処理部に振り分ける。 - 特許庁
The substrate processor has a reaction chamber 10 for processing a substrate 41, process-gas feeding means 11, 12, 13 for feeding a process gas into the reaction chamber 10, and heat sources 20 for activating the process gas to generate active species in it.例文帳に追加
基板41に処理を施す反応室10と、反応室10内に処理用ガスを供給する処理用ガス供給手段11、12、13と、処理用ガスを活性化して活性種を生成するための熱源20とを備える。 - 特許庁
To provide a processing system for a wafer or the like which performs process steps from a wet process to a supercritical drying process, and is highly versatile, stable, and highly productive, satisfying economical requirements in production of semiconductor wafers, liquid crystal substrates, or the like.例文帳に追加
半導体ウェハ、液晶基板等の生産において、湿式処理から超臨界乾燥の工程を、汎用性が高く、安定で生産性が高く、経済的要望を満足しうる、ウェハ等の処理システムを提供することにある。 - 特許庁
Whether there is a setting for avoiding communication breakdown or not is determined (process 100), and when there is the setting, whether the circuit is in a link-up state or not is determined (process 200), and when there is no setting, BPDU processing is performed (process 400).例文帳に追加
通信断回避設定の有無を判定し(処理100)、通信断回避設定ありの場合は回線状態がリンクアップしているか否かを判断し(処理200)、設定なしの場合はBPDU処理を実行する(処理400)。 - 特許庁
To provide a regenerating process system for a color filter substrate, capable of increasing facility efficiency, reducing an amount of chemical liquid required for a regenerating process by a processing device exclusive for regeneration, and preventing cracks or the like in a substrate during a process exclusive for regeneration.例文帳に追加
設備効率を上げ、再生専用処理装置による再生処理に要する薬液の削減と再生専用処理時の基板の割れ等の発生を防ぐことを可能とするカラーフィルタ用基板の再生処理システムを提供する。 - 特許庁
To provide a wafer cleaning method for effectively removing from a wafer surface, organic substances sticking on a semiconductor substrate in a pre-processes, such as CMP process for forming Cu wiring, before moving to a next process, related to a wafer processing process.例文帳に追加
ウェーハ処理工程において、次工程へ移る前に半導体基板上にCu配線を形成するCMP処理などの前工程で付着した有機物をウェーハ表面から有効に除去するウェーハ洗浄方法を提供する。 - 特許庁
To solve the problem in a process of transferring data from an image processing circuit A to an image processing circuit B wherein the image data may be held in a write buffer in a bus bridge when the image processing circuit A completes transfer of data and notifies the fact to the image processing circuit B, so that the data read by the image processing circuit B may be invalid.例文帳に追加
課題は画像処理回路Aから画像処理回路Bへデータを受け渡すプロセスにおいて、画像処理回路Aが画像を転送し終えて画像処理回路Bへ通知した時点で画像データはバスブリッジ内のライトバッファに保持されたままである可能性があり、画像処理回路Bが画像データをリードした時点でのデータは無効となることである。 - 特許庁
To provide a method of separating iron-making slag capable of efficiently separating iron-making slag into an iron content and a non-iron content in order to recycle the iron-making slag produced in an iron-making process (in particular, hot metal preliminary processing and converter process).例文帳に追加
製鉄プロセス(特に、溶銑予備処理や転炉工程)で発生する製鉄スラグの再資源化を図るために、製鉄スラグを鉄分と非鉄分に効率よく分離することができる製鉄スラグの分離方法を提供する。 - 特許庁
To realize a multiplex cooperative processing between PUs such as process synchronization and process contol between PUs in a multiprocessor system in which many PUs are mounted, and to realize improvement of system throughput and improvement of a real-time response in the multiprocessor system.例文帳に追加
PUが多数搭載されるマルチプロセッサシステムにおいて、PU間のプロセス同期やプロセス制御といった、PU間多重連携処理を実現し、マルチプロセッサシステムのシステム・スループット向上およびリアルタイム応答性向上を実現する。 - 特許庁
To provide a method for accurately detecting the concentration of divalent iron ions in a solution in a process of etching a metal when an iron (III) chloride is a main component, in a process of processing a waste liquid containing the divalent and trivalent iron ions, or the like.例文帳に追加
塩化第二鉄を主成分として金属をエッチングする工程または二価と三価の鉄イオンを含有する廃液処理する工程等において、溶液中の二価の鉄イオン濃度を精度よく検出する方法を提供する。 - 特許庁
To simplify an operation for executing a process by describing the process to be executed in instruction document information in a configuration in which a plurality of processing means for performing different processes on OSs different from each other are provided.例文帳に追加
互いに異なるOS上で動作し異なる処理を行う複数の処理手段が設けられた構成において、実行対象の処理を指示書情報に記述して処理を実行させる際の操作の簡略化を実現する。 - 特許庁
To provide a storage management system for attaining the storage management of a warehouse storing work in process produced in a preprocessing manufacture line suitable for production in a post processing process manufacture line.例文帳に追加
前処理製造ラインで生産される仕掛品を保管する倉庫の保管管理を、後処理工程製造ラインで生産するのに適した該仕掛品の保管状況とするための保管管理システムを提供することを目的とする。 - 特許庁
By applying a first polishing process of polishing a surface of a lens base body by using a first polishing liquid of mixing a cerium oxide abrasive grain with water and a second polishing process of polishing a processing object surface of the lens base body polished in the first polishing process by using a second polishing liquid being a nonaqueous dispersion medium, a hydration layer formed in the first polishing process can be removed in the second polishing process.例文帳に追加
レンズ基体の表面を、水に酸化セリウム砥粒を混ぜた第1研磨液を用いて研磨する第1研磨工程と、第1研磨工程で研磨されたレンズ基体の被加工面を、非水系分散媒である第2研磨液を用いて研磨する第2研磨工程と、を施すことにより、第2研磨工程で、第1研磨工程で形成された水和層を除去することができる。 - 特許庁
A reception processing priority setting function 13 registers identification information of a process (number of a port in which the process is bound) and a reception processing priority policy in which priority of reception protocol processing for data packets used for this process is associated, on a priority determining function 9 on the basis of information (such as scheduling priority) collected from processes 14-17 and manager input.例文帳に追加
受信処理優先度設定機能部13は、プロセス14〜17から収集した情報(スケジューリング優先度など)と管理者入力にもとづいて、プロセスの識別情報(プロセスがバインドされているポート番号など)と、当該プロセスで用いられるデータパケットに対する受信プロトコル処理の優先度を対応づけた受信処理優先度ポリシーを優先度判断機能部9に登録する。 - 特許庁
A pneumatic powder transport system 400 connected to a process chamber in the apparatus for supplying the powder into the process chamber, a supply line to the apparatus for transporting a virgin powder to a powder processing unit and a powder non-processing unit, and the powder processing unit in which build process for each layer to manufacture the three-dimensional article is carrier out.例文帳に追加
三次元物品を製造するための層毎の構築プロセスがその中で行われる、装置内のプロセス・チャンバ;プロセス・チャンバ中に粉末を供給するための、装置への供給ライン;供給ラインに連結された粉末処理ユニットレおよび粉末処理ユニットにバージン粉末を搬送するための、粉末処理ユニットに連結された空気圧粉末搬送システム400を備える。 - 特許庁
The method for producing a pleat product includes an immersion process 3 for immersing a cloth containing a cellulose-based fiber in a processing liquid containing a glyoxal-based resin, a reaction catalyst for promoting the reaction of the glyoxal-based resin and a silk protein; a drying process 4 for dehydrating or evaporating the processing liquid from the cloth; and a pleat processing process 5 for pleating the cloth in a dry hot state.例文帳に追加
セルロース系繊維を含む生地を、グリオキザール系樹脂、当該グリオキザール系樹脂の反応を促進させる反応触媒および絹タンパク質を含む加工液に浸漬する浸漬工程3と、生地から加工液を脱水、または蒸発させる乾燥工程4と、生地に乾熱状態でプリーツ加工するプリーツ加工工程5と、を含むプリーツ製品の製造方法である。 - 特許庁
To provide a gas barrier laminate enhanced in productivity in the actual production of a coating film, more enhanced in gas barrier properties and suppressed in the lowering of gas barrier properties in a post-processing process in a case used as a packaging material.例文帳に追加
塗工フィルムの実生産において、生産性を高め、ガスバリア性をより向上させ、包装材料として使用する場合の後加工工程においてガスバリア性の低下を抑えたガスバリア性フィルムを提供する。 - 特許庁
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