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in process processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4275件
This method for processing the purple sweet potatoes comprises a preliminary treatment for soaking the purple sweet potatoes in an ascorbic acid treating solution at a temperature at the vicinity of the gelatinization temperature of starch contained in the purple sweet potatoes, a steaming process for steaming the purple sweet potatoes after going through the preliminary treatment, and a dry process for drying the steamed purple sweet potatoes.例文帳に追加
紫いもに含まれる澱粉の糊化温度近傍で、紫いもをアスコルビン酸処理液に浸漬処理する前処理行程を行った後、前処理行程を経た紫いもを、蒸煮する蒸煮工程を行い、その蒸煮された紫いもを乾燥する乾燥工程を行う。 - 特許庁
In a laser processing process, the electrode pattern formation programming area of a dielectric block 1 is irradiated with a laser beam to remove prescribed thickness from the electrode pattern formation programming area, and in a succeeding surface correction process, a dielectric part deteriorated by laser beam irradiation is removed or repaired.例文帳に追加
レーザ加工工程で誘電体ブロック1の電極パターン形成予定領域にレーザビームを照射して電極パターン形成予定領域を所定厚み分除去し、続く表面修正工程で、レーザビームの照射によって変質した誘電体部分の除去または修復を行う。 - 特許庁
By this way, burrs inside the pipe generated at the time of indenting the pipe can be removed, which enables a process to revise diameters by inserting the pipe expansion rod in the post process to be curtailed, and the pipe terminal processing in which no impurities are involved and less man- hour is required, can be provided.例文帳に追加
これにより、パイプに切り込みを入れたときに出来るパイプ内側へのバリを取り除くことが出来、後工程で再度、拡管棒を挿入して径修正を行う工程が削減でき、不純物の混入が無く、工数の掛からないパイプ端末加工を提供することが出来る。 - 特許庁
An insertion process inhibition area 23 is set for insertion type parts 20 corresponding to the insertion machine tool for processing of the lead wire 22, and surface mounting process inhibition areas 24 and 25 are set in accordance with the height of the surface mounting type parts in relation to the operation.例文帳に追加
(b)に示すような挿入型部品20に対しては、リード線22の処理を行う挿入機工具に対応して挿入工程禁止領域23を設定し、動作に関連して、表面実装工程禁止領域24,25を表面実装型部品の高さに応じて設定する。 - 特許庁
In this case, a developing process is carried out without being affected by a flow of ambient air, so that the substrate can be subjected to a developing process with uniformity through its surface, and moreover a developing solution feeding nozzle or the like and an area for installing it are not required to be provided above the substrate, so that the processing device can be reduced in size.例文帳に追加
この場合、周囲の気流の影響を受けずに現像処理を行えるので面内均一な現像処理をすることができ、かつ基板の上方側に例えば現像液供給ノズルおよびその設置領域を必要としないので装置の小型化を図ることができる。 - 特許庁
The change of the operation state of plural debugging processes 101 for constituting a debugging program 100 is monitored in a debugger execution processing part 121, and in the case that the operation state of the debugging processes 101 is changed, a process operation information output part 122 outputs process operation information 131.例文帳に追加
デバッグプログラム100を構成する複数のデバッグプロセス101の動作状態の変化を、デバッガ実行処理部121で監視し、デバッグプロセス101の動作状態に変化が生じた場合、プロセス動作情報出力部122はプロセス動作情報131を出力する。 - 特許庁
The trouble to switch the process speed is saved, and it is unnecessary to wait for ejection of a recording paper 14 immediately before switching in order to switch the process speed, and biases can be switched in order from the uppermost photoreceptor drum, whereby throughout (processing speed) is increased.例文帳に追加
プロセススピードを切り換える手間が省け、また、このプロセススピードの切り換えのために、切換直前の記録用紙14の排出を待たなくてもよく、上流側の感光体ドラムから順にバイアスを切り換えることができるため、処理能力(処理速度)を高めることができる。 - 特許庁
Based on the processing items and the capability information of the devices, the template of the process definition ticket including capability executable in common in the selected devices is generated (S8), and the process definition ticket executed by use of the devices is created based on the generated template (S9).例文帳に追加
そしてこれら処理項目とデバイスの能力情報とに基づき、選択されたデバイスで共通に実行可能な能力を含むプロセス定義チケットのテンプレートを生成し(S8)、その生成されたテンプレートに基づいてデバイスを使用して実行するプロセス定義チケットを作成する(S9)。 - 特許庁
To provide a decorative sheet that can be used in laminate processing on a flat substrate as a matter of course, can resist to three-dimensional formation such as wrapping process or vacuum forming process on a three-dimensional substrate, and that is made of a biomass material excellent in surface physical property such as scratch resistance.例文帳に追加
平面状基材へのラミネート加工は勿論のこと、立体形状の基材へのラッピング加工や真空成形加工等の立体成形にも耐えることができ、しかも耐傷付き性等の表面物性にも優れたバイオマス原料から構成された化粧シートを提供することにある。 - 特許庁
In a business process management server 102, a control part 204 controls application programs 107 in response to a request from a client 101 such that the application programs 107 process business processes according to the processing flow of an extended model defined by extended model definitions 106.例文帳に追加
ビジネスプロセス管理用サーバ102はクライアント101からの要求に応じて、アプリケーションプログラム107が拡張モデル定義106に定義された拡張モデルの処理フローに従ってビジネスプロセスを処理するように、制御部204によりアプリケーションプログラム107を制御する。 - 特許庁
In this wet processing method wherein semiconductor wafers W are immersed in a process liquid, the semiconductor wafers W are immersed with their surfaces W1 facing upward, with the wafers W inclined at 3-45° or 10-20° relative to the process liquid surface H.例文帳に追加
半導体ウェーハWを処理液に浸漬してウエット処理する方法であって、半導体ウェーハWを処理液に浸漬する際に、半導体ウェーハWの表面W1が上側になるようにして、処理液面Hに対して3°〜45°または10°〜20°傾いた状態とする。 - 特許庁
The OFDM signal receiver 100 includes an arithmetic means process processing part 1 for executing an arithmetic means process between a first symbol range in a guard interval signal and a second symbol range being a duplicate source of a first symbol range in an effective symbol signal.例文帳に追加
本発明に係るOFDM信号受信装置100は、ガードインターバル信号における第一のシンボル範囲と、有効シンボル信号における第一のシンボル範囲の複製元である第二のシンボル範囲との加算平均処理を実施する、加算平均処理処理部1を、備えている。 - 特許庁
An arithmetic processing unit 2 makes equipment state data corresponding to the construction process on the basis of three-dimensional equipment data on equipment arranged in a building frame stored in a CAD data storage part 1 and construction process data on the power plant stored in a construction process data storage part 5, and outputs the data to an image screen display device 3 and a printer 4 being an output device.例文帳に追加
演算処理装置2は、CADデータ格納部1に格納された建物躯体に配置される設備の3次元の設備データおよび建設工程データ格納部5に格納された発電所の建設工程データに基づいて、建設工程に対応した設備状態データを作成し、出力装置である画面表示装置3や印刷装置4に出力する。 - 特許庁
A plurality of modules, where real-time property is required, are placed in the same process and, when message passing is performed between modules, a message broker for determining whether or not serialization and deserialization of message data are necessary is disposed in each process to speed up the message passing in the same process, and message reception which does not use a message queue is performed to allow synchronous processing of messages.例文帳に追加
リアルタイム性が要求される複数のモジュールを同一のプロセス内に配置するとともに、モジュール間でメッセージ・パッシングを行なう際に、メッセージ・データのシリアライズ及びデシリアライズが必要か否かを判断するメッセージ・ブローカを各プロセスに配設し、同一プロセス内でのメッセージ・パッシングを高速化し、さらにメッセージ・キューを利用しないメッセージ受信を行なうことでメッセージの同期処理が可能になる。 - 特許庁
This absorption spectrometric apparatus for the semiconductor manufacturing process includes: a channel switching mechanism 50 connected to an exhaust channel of a processing chamber 39 in the semiconductor manufacturing process; and an absorption spectrometric apparatus 51 for multiple reflection type moisture concentration measurement for detecting an absorbance change caused by gas by multiple reflection in the cell of laser light from a laser light source, and measuring the moisture concentration in process gas.例文帳に追加
半導体製造プロセス用吸光分析装置は、半導体製造プロセスの処理チャンバ39の排気流路に接続された流路切換え機構50と、レーザ光源からのレーザ光をセル内で多重反射させてガスによる吸光度変化を検出してプロセスガス中の水分濃度を測定する多重反射型水分濃度計測用吸光分析計51とを備えている。 - 特許庁
A plurality of liquid processing units 2 for performing liquid-process to a substrate W are aligned mutually in the lateral direction, an exhaust tube 3 for exhausting an atmosphere in the liquid processing units 2 is provided under the plurality of liquid processing units so as to extend along the liquid processing units 2, and a liquid flow controlling equipment group 4 for supplying liquid is provided under the exhaust tube 3.例文帳に追加
基板Wに対して液処理を行うための複数の液処理ユニット2が互いに横方向に並べて配置され、液処理ユニット2内の雰囲気を排気する排気管3は、これら複数の液処理ユニット2の下方側に、当該液処理ユニット2の並びに沿って伸びるように配置され、給液用の通流制御機器群4は前記排気管3の下方側に設けられている。 - 特許庁
The method for processing kale comprises the following processes: a granite porphyry water preparing process where granite porphyry water is prepared by adding granite porphyry to a liquid, and a granite porphyry water soaking process where kale is soaked in the granite porphyry water for 1 hour to 7 days.例文帳に追加
本発明は、ケールの加工方法であって、液体に麦飯石を添加して麦飯石水を調製する麦飯石水調製工程と、ケールを、所定温度の前記麦飯石水に、1時間〜7日間浸漬する麦飯石水浸漬工程を包含する。 - 特許庁
To provide a measure related to transmission of a safety process signal between an input unit and an output unit of a safety system, and in particular, a measure for enabling transmission and, by extension, processing of safety process information extremely easily.例文帳に追加
本発明は、安全性システムの入力ユニットと出力ユニットとの間での安全プロセス信号の送信に関するもので、殊に、安全プロセス情報の送信ひいては処理を極めて簡単に可能にする方策を提供することを目的とする。 - 特許庁
A method for detecting the observing position of an observer 100 includes a face image picking-up process for picking up the face image of an observer 100 and an observing position calculating process for calculating the observing position of the observer by storing the picked-up face image information in an image memory 12 and processing the image.例文帳に追加
観察者100の顔面を撮像する顔面撮像工程と、撮像された顔面の画像情報を画像メモリ12に記憶し画像処理して観察者の観察位置を算定する観察位置算定工程とを備えている。 - 特許庁
To determine difference of how to advance a processing in business without being affected by graphical agreement/disagreement of graph structures when comparing graph structures that graphically represent business process models to clarify difference between the business process models.例文帳に追加
業務プロセスモデルを図的に表現するグラフ構造を比較して当該業務プロセスモデル間の相違点を明らかにする際、グラフ構造の図形的な一致/不一致に左右されず、業務における処理の進め方自体の相違を判定可能とすること。 - 特許庁
In the plasma processing apparatus, a process gas G is introduced into the interior of a discharge tube 6 of dielectric, a microwave M guided via a microwave waveguide 10 is irradiated on the process gas G within the discharge tube 6 to generate a plasma.例文帳に追加
誘電体で形成された放電管6の内部にプロセスガスGを導入し、放電管6の内部のプロセスガスGにマイクロ波導波管10を介して導いたマイクロ波Mを照射してプラズマを発生させるようにしたプラズマ処理装置である。 - 特許庁
To provide a plasma processing apparatus which can attempt to improve in-plane uniformity of a process and improve miniaturization and process efficiency of the device while allowing for the gap between an upper electrode and a lower electrode to be changed easily.例文帳に追加
処理の面内均一性の向上を図ることができるとともに、装置の小型化と処理効率の向上を図ることができ、かつ、上部電極と下部電極との間隔を容易に変更することのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
When the GUI process 11 is finished, a picture setting parameter preserving processing 112 preserves the picture setting parameter information of the coordinate, size and input value in the picture setting parameter data base 21 of a server 2 while utilizing the user identifier and GUI process name as the retrieval key.例文帳に追加
GUIプロセス11の終了時に画面設定パラメータ保存処理112は、座標、サイズ、入力値の画面設定パラメータ情報をユーザ識別子とGUIプロセス名を検索キーとし、サーバ2の画面設定パラメータデータベース21に保存する。 - 特許庁
To provide a system which can efficiently transmit process information to a computer in a main office even if a printer having no storage medium for storing process information about print processing and a printer having such a storage medium coexist.例文帳に追加
プリント処理に関する処理情報を記憶するための記憶媒体を具備しているプリンターと、その記憶媒体を具備していないプリンターが混在している場合でも、当該処理情報を効率良く本部のコンピュータに送信できるシステムを提供する。 - 特許庁
To provide an image processing apparatus which can carry out an optimum correcting process by a unit of one or a plurality of pixels of a developed bit map image in any case, and can process at a high speed by restricting a data amount and effectively utilizing memories.例文帳に追加
いかなる場合でも展開されたビットマップイメージの1ないし複数画素単位で最適な補正処理を施すことが可能であるとともに、データ量を抑えてメモリの有効利用を図り、高速処理が可能な画像処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a surface-treatment process which can impart a high protective effect to the surface of a metal or alloy material through a simple process, and a component using the metal or alloy material subjected to the surface treatment which is installed in a vacuum processing apparatus.例文帳に追加
簡易な工程により金属・合金材料の表面に対して高い保護効果を得ることができる表面処理方法及びこの表面処理を施した金属・合金材料を用いる真空処理装置内部品を提供する。 - 特許庁
Based on an instruction document data 300 produced in an integrated machine 100, a process server 201 encrypts charging information obtained by the own processing, with the public key of a process server 203 for clearing the charge for a user using the above charging information.例文帳に追加
処理サーバ201は、複合機100で作成された指示書データ300をもとに、自己の処理によって得られた課金情報を、この課金情報を使用してユーザに対して料金精算を行う処理サーバ203の公開鍵で暗号化する。 - 特許庁
To provide a system and a method for controlling conveyance, which are capable of properly setting the number of optical members sent out from a normal processing route to a sampling process route on a process line where a plurality of kinds of optical members are conveyed in a mixed fashion.例文帳に追加
複数種類の光学部材が混在して搬送されている加工ラインにおいて、通常加工ルートから抜取り処理ルートへ送り出される光学部材の数を適正に設定可能な搬送制御システムおよび方法を提供する。 - 特許庁
When a series of processes are conducted to a substrate W in the substrate processing equipment, process history data composed of items such as a carrier time, a process time, the temperature of a plate, the number of revolution of a spin motor, the flow rate of a liquid or the like, are gained previously at every substrate W.例文帳に追加
基板処理装置にて基板Wに一連の処理を行っているときに、搬送時間、処理時間、プレート温度、スピンモータの回転数、液の流量等の項目からなる処理履歴データを基板Wごとに取得しておく。 - 特許庁
The electrodes E (E1-E6) for capacitor connection are electrically connected to an inner layer electrode of an uppermost wiring layer at a wafer processing process completion stage of the IC chip 12 through rewiring RL formed in a WPP process.例文帳に追加
このコンデンサ接続用の電極E(E1〜E6)は、WPP工程により形成された再配線RLを通じて、ICチップ12のウエハプロセス工程終了段階での最上の配線層の内層電極に電気的に接続されている。 - 特許庁
To provide a measure related to transmission of a safety process signal between an input unit and an output unit of a safety system, and in particular, extremely simply enabling transmission and consequently processing of safety process information.例文帳に追加
本発明は、安全性システムの入力ユニットと出力ユニットとの間での安全プロセス信号の送信に関するもので、殊に、安全プロセス情報の送信ひいては処理を極めて簡単に可能にする方策を提供することを目的とする。 - 特許庁
A time restriction section input instruction preparing device 7 constantly computes time required to carry out lot processing on each process of the time restriction section in a passing time computing process 8 to compute the passing time of the time restriction section of the lot.例文帳に追加
時間制約区間投入指示作成装置7は、通過時間算出工程8でロット処理するために必要な時間を時間制約区間の各工程について常時計算し、当該ロットの時間制約区間の通過時間を算出。 - 特許庁
The method includes a process of forming a collecting layer 12 on a resin layer 11 in vacuum processing, and a process of forming an active material layer 13 on the collecting layer 12 by injecting an active material together with carrier gas into the collecting layer 12.例文帳に追加
真空プロセスによって樹脂層11の上に集電層12を形成する工程と、集電層12に対して活物質をキャリアガスと共に噴射することにより、集電層12上に活物質層13を形成する工程とを包含する。 - 特許庁
To provide a monitoring method for a job which easily and quickly executes a job process in accordance with processing conditions desired by a user by preventing stoppage of operation of the job process and wasteful job processes while suppressing a communication load of a system.例文帳に追加
システムの通信負荷を抑えつつ、ジョブ処理の動作の停止や無駄なジョブ処理を防止して、ユーザが所望する処理条件にしたがったジョブ処理を容易かつ迅速に実行させることが可能となるジョブの監視方法を提供する。 - 特許庁
In a constitution wherein the detecting process of a LAN controller 34 is performed, the detecting process of the LAN controller 34 is performed even when a user connects a PS/2 device or printer for use, and consequently the processing is delayed.例文帳に追加
常にLANコントローラ34の検出処理を行う構成では、ユーザがPS/2デバイスやプリンタを使用する目的でドッキングを行う場合であっても、LANコントローラ34の検出処理が実行されてしまい、それによる処理待ちが発生してしまう。 - 特許庁
In a client process 5, all interfaces scheduling to issue the processing execution requests are confirmed, the names of these interfaces are notified to a gateway process 7 and the position information on the server processes 1a, 1b and 1c concerning the interface names are requested (S10-a).例文帳に追加
クライアントプロセス5は、処理実行要求を発する予定のある全てのインタフェースを確認し、ゲートウェイプロセス7に、それらのインタフェースの名称を通知しそれに係るサーバプロセス1a、1b、1cの位置情報を要求する(S10−a)。 - 特許庁
This sweet jelly is made through the following process: soaking dried fruits 1 in water to reconstitute them, and kneading the thus reconstituted fruits and an agar solution 3 together with a soaking liquid 2; wherein plural kneading processes such as the first kneading processing 4 and second kneading process 5 are performed so as to make respective raw materials better compatible with one another.例文帳に追加
乾燥果実1を水に浸漬して還元して浸漬液2と一緒に、寒天液3と練り合わせるもので、練り合わせを第一次練り加工4と第二次練り加工5等の複数行うことで、各原材料の馴染みを良くした。 - 特許庁
To obtain a lubricant for an elastic fiber, which has excellent sticking prevention properties and antistatic properties and excellent stability with time of lubricant and controls occurrence of troubles such as end breakages in a spinning process and a post-processing process and excellent qualities of fiber.例文帳に追加
膠着防止性および制電性に優れ、かつ場合の油剤の経日安定性が良好であり、紡糸工程および後加工工程における糸切れ等のトラブル発生が抑制でき、繊維の品質に優れる油剤を提供すること。 - 特許庁
The radar apparatus is made to have such a constitution that both a clutter suppressing process and a target classifying process are carried out using polarization information about all of HH, HV and VV, and processing loads can be reduced, and classification of targets in a state where they are mutually at standstill, is achieved.例文帳に追加
HH,HV,VVの全ての偏波情報を利用し、クラッタ抑圧処理と目標類別処理の両立を図り、かつ処理負荷を低減できる構成をとし、互いに静止状態の場合の目標類別を実現する。 - 特許庁
To provide a polyester based fabric containing cellulose based fiber having good feeling, and enabling shortening of process time and improving of unevenness of processing in an alkali reduction process of the polyester based fabric containing cellulose based fiber.例文帳に追加
本発明は、セルロース系繊維を含むポリエステル系布帛を減量加工する際に、加工時間短縮、加工ムラの改善を可能とし、良好な風合いのセルロース系繊維を含むポリエステル系布帛を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
In the manufacturing method, a process of providing the polytetrafluoroethylene insulator is preferably executed by processing the material irradiated with the γ-ray into a desired shape, and a process of baking the polytetrafluoroethylene insulator is preferably further executed.例文帳に追加
当該製造方法では、γ線を照射した原料を、所望の形状に加工してポリテトラフルオロエチレン絶縁体を得る工程が行われることが好ましく、前記ポリテトラフルオロエチレン絶縁体を焼成する工程がさらに行われることがより好ましい。 - 特許庁
After process start user confirmation processing is performed in order to determine whether there is a process related to a user to be deleted or not (steps S102, S105), a start process related to the user to be deleted is output (steps S103, S106), and if there is not the user to be deleted in the output process, the user to be deleted is deleted for achievement.例文帳に追加
削除対象となるユーザの該当するプロセスが存在するか否かを判定するためにプロセス起動ユーザ確認処理を実施した後(ステップS102、ステップS105)、削除対象となるユーザが該当する起動プロセスを出力し(ステップS103、ステップS106)、出力されたプロセスに削除対象となるユーザが存在しない場合、削除対象となるユーザを削除することにより実現する。 - 特許庁
To obtain a film-like polymeric material flattened with high accuracy by certainly correcting stripe-like undulation or wrinkle-like unevenness generated in the film-like polymeric material, during a process performing heat treatment such as a calender processing process or a drying process for a paint applied to the film-like polymeric material.例文帳に追加
カレンダー処理工程、あるいはフィルム状高分子材料上に塗布された塗料の乾燥工程等の熱処理が行われる工程中にフィルム状高分子材料に発生するストライプ状のうねりやシワ状の凹凸を確実に修正し、高精度に平坦化したフィルム状高分子材料を得る。 - 特許庁
The image processor 1 is provided with an image processing section 111 for executing a distortion correction process for an original image; a difference detection section 112 for detecting a region with movement from the image to which a correction process is applied; and a correlation calculation section 113 for executing the correlation process, regarding the region in which the movement is detected.例文帳に追加
画像処理装置1は、原画像に対して歪み補正処理を実行する画像処理部111と、補正処理の施された画像から動きのある領域を検出する差分検出部112と、動きの検出された領域について相関処理を実行する相関演算部113と、を備える。 - 特許庁
To provide a calibration control apparatus and a calibration control method that can reduce processing time for applicability to practical use by carrying out a simple calibration using the result of a previous calibration process in response to a request for a re-calibration process after a calibration process.例文帳に追加
この発明は、キャリブレーション処理後の再キャリブレーション処理要求に対して、前の処理結果を利用した簡易キャリブレーション処理を行なって処理時間の短縮を図り、実用に適するようにしたキャリブレーション処理制御装置及びキャリブレーション処理制御方法を提供することを目的としている。 - 特許庁
The method of manufacturing the epitaxial wafer at least comprises a heat treatment process conducting heat treatment for a silicon single crystal in ingot state, a wafer processing process wherein the heat-treated ingot is sliced into wafers with mirror surface, and an epitaxial growth process wherein an epitaxial layer is formed on the wafers.例文帳に追加
エピタキシャルウエーハの製造方法であって、少なくとも、インゴット状態のシリコン単結晶に熱処理を行なう熱処理工程と、前記熱処理したインゴットを鏡面状のウエーハに加工するウエーハ加工工程と、前記ウエーハ上にエピタキシャル層を形成するエピタキシャル成長工程を有するエピタキシャルウエーハの製造方法。 - 特許庁
History data in each function used for a user are stored, and when succeeding starting processing, a decision process (S111, S112) for deciding the initialization order of functions and the existence of initialization and an initialization process (S112) for initializing the functions according to the decided results of the decision process are executed on the basis of the history data.例文帳に追加
ユーザが使用した機能毎の履歴データを記憶し、次回起動処理時に、前記履歴データに基づき、機能の初期化順序と初期化の有無を決定する決定工程(S111・S112)と、前記決定工程の結果に従って前記機能を初期化する初期化工程(S112)とを実施する。 - 特許庁
In the developing method having a developing process for processing a resist irradiated with energy beam with a developer, a rinse process for replacing the developer with a rinse liquid and a drying process for drying the rinse liquid, the surface tension of the rinse liquid is controlled to ≤45 dyne/cm.例文帳に追加
エネルギービームが照射されたレジストを現像液で処理する現像工程、前記現像液をリンス液に置換するリンス工程、および前記リンス液を乾燥する乾燥工程を有する現像方法において、前記リンス液の表面張力が45dyn/cm以下であることを特徴とする現像方法とした。 - 特許庁
A method for processing an optical member comprises a connecting process for joining contacting members 1, 3 having diameters larger than a finished outer diameter of the optical member 2 to the optical member, and a grinding process for simultaneously grinding joined parts of the optical member 2 and the contacting members 1, 3 connected in the connecting process with a grinding tool 4.例文帳に追加
光学部材の加工方法において、光学部材2の仕上がり外径より大きな外径を備えた当接部材1、3を光学部材2に接合する接合工程と、該接合工程で接合された光学部材2と当接部材1、3との接合部を研削工具4により同時に研削する研削工程とを具備した。 - 特許庁
A solid food organic waste treating method includes a cutting process S11 for cutting solid waste such as a stalk of broccoli produced in the food processing factory to obtain minute waste pieces of 3 to 5 mm size, a grinding process S12 for grinding the waste pieces to obtain paste of 150 μm size and a heating process S13 for heating the waste paste to a sol state.例文帳に追加
食品加工工場で発生するブロッコリーの茎などの固形廃棄物を裁断して3〜5mmの大きさの細かな廃棄物片にする裁断工程S11と、廃棄物片が150μmになるまで磨り潰してペースト状にする摩砕工程S12と、廃棄物ペーストを加熱してゾル状態にする加熱工程S13とを含む。 - 特許庁
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