| 例文 |
layer elementの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 18197件
The light emitting element comprises a substrate (1), a semiconductor active region (4) formed to cover the substrate (1) and generating first light, and a transparent conductive layer (9) containing first phosphor which is pumped by the first light to generate second light having a wavelength different from that of the first light.例文帳に追加
本発明の発光素子は、基板(1)と、基板(1)を被覆するように形成された、第1光を発生する半導体活性領域(4)と、前記第1光によって励起されて前記第1光と異なる波長を有する第2光を発生する蛍光体を含む第1蛍光体含有透明導電層(9)とを具備する。 - 特許庁
The Sn-Cu-Ni intermetallic compound functions as a barrier layer; mutual diffusion between Ni and Cu is suppressed; generation of voids due to Kirkendall effect is suppressed; a sealing property of an interface between the ceramic element 9 and an external terminal electrode is improved; and reliability of this ceramic electronic component is improved.例文帳に追加
このSn−Cu−Ni金属間化合物層がバリア層として機能し、NiとCuとの相互拡散が抑制されるとともに、カーケンダル効果によるボイドの発生を抑制し、セラミック素体9と外部端子電極との界面のシール性を向上させ、セラミック電子部品の信頼性を向上させる。 - 特許庁
The fuel cell separator 3 is obtained by applying nitriding treatment on the surface 10a of a base material 10 made of stainless steel containing an element selected from among Fe, Cr, Ni and Si, and is provided with a nitriding layer 11 containing an oxide of Si formed in a depth direction from the surface 10a of the base material 10.例文帳に追加
燃料電池用セパレータ3であって、Fe、Cr、Ni及びSiの中から選ばれた元素を含むステンレス鋼からなる基材10の表面10aを窒化処理することにより得られ、基材10の表面10aから深さ方向に形成された窒化層11を備え、窒化層11はSiの酸化物を含む。 - 特許庁
The display element 21 thus manufactured generates no leakage current between the electrodes even if a conductive material is used as the light shielding layer 25, its contrast is drastically improved compared with conventional ones and besides no display unevenness occurs and high display quality is attained.例文帳に追加
このようにして製造された表示素子21は、遮光層25として導電性を有する材料を用いたとしても電極間にリークが発生することがなく、従来と比較してコントラストが飛躍的に向上し、かつ表示ムラが発生せず表示品位が高い表示素子21およびその製造方法を提供することができる。 - 特許庁
The shielded stripline element comprises a valve action metal 10 having a dielectric oxide film 20, a pair of anode leading terminals 11, 12 provided at different positions of the metal 10, and a conductive substance layer 30 disposed so as to surround the periphery of the metal 10 via the film 20.例文帳に追加
誘電体酸化皮膜20を有する弁作用金属10と、弁作用金属10の異なる位置に設けられた1対の陽電極引き出し端子11,12と、弁作用金属10の周囲を取り巻くようにその誘電体酸化皮膜20を介して配置された導電性物質の層30と、を設ける。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which a diffusion problem with a surface layer forming metal can be certainly solved, magnetically adverse effects on a semiconductor element, and further are eliminated by realizing a non-magnetic external electrode, deterioration of electrical conductivity is not caused even when the frequency of a transmit signal increases.例文帳に追加
表面層形成金属の拡散問題を確実に解決でき、しかも非磁性の外部電極を実現することにより、磁気的な悪影響を半導体素子に与えることが無く、加えて伝送信号の周波数が増加した場合でも導電率の低下が生じない半導体装置を提供する。 - 特許庁
This capacitive element has a lower electrode 22 formed on a substrate 10 through an interlayer insulation film 12, an upper electrode 24 opposed to the lower electrode 22 through the interlayer insulation film 12, and a lower wiring layer 14 that is formed between the substrate 10 and the lower electrode 22 and electrically connected with the upper electrode 24.例文帳に追加
基板10上に層間絶縁膜12を介して形成された下層電極22と、下層電極22に対して層間絶縁膜12を介して対向する上層電極24と、基板10と下層電極22の間に形成され、上層電極24に電気的に接続された下部配線層14とを有する。 - 特許庁
This metal separator with improve anti-corrosivity is so formed that the surface of a base metal 1 composed of the iron-based alloy containing at least one kind out of chromium, nickel, titanium, niobium, aluminum and silicon is etched to form the concentration layer 2 having concentrated additive element concentration in the vicinity of the surface.例文帳に追加
クロム、ニッケル、チタン、ニオブ、アルミニウム、ケイ素等のうち、いずれか少なくとも1種類を含む鉄基合金からなる母材1の表層をエッチング処理して、表面近傍における添加元素の濃度を濃縮させた濃縮層2を形成し、耐食性の向上を図った金属セパレータを構成する。 - 特許庁
To be more precise, an organic light emitting element characterised in that an electron injection layer 25 virtually in electric contact with a negative electrode 26 is composed of at least an organic compound and a metal compound, and the metal compound is at least one compound selected from among strontium compounds and barium compounds is provided.例文帳に追加
具体的には、陰極電極26と電気的に実質接している電子注入層25が少なくとも有機化合物と金属化合物とから構成され、前記金属化合物がストロンチウム化合物、バリウム化合物の中から少なくとも1つの選択されることを特徴とする有機発光素子を提供する。 - 特許庁
In the hole transporting material, when photo-irradiating a single film element in which merely single layer of the hole transporting material is formed between both electrodes, a voltage ratio in a current-voltage characteristics after 300 hours (voltage value after 300 hours/initial voltage value) is 1.0 or less.例文帳に追加
前記正孔輸送性材料は、両電極間に前記正孔輸送性材料の単層のみを形成してなる単膜素子に光照射して300時間経過した場合の電流−電圧特性における電圧比(300時間経過後の電圧値/初期電圧値)が1.0以下であることを特徴とする。 - 特許庁
An anode foil having an oxide film layer formed on the surface is wound along with a cathode foil and a separator to form a capacitor element which is then immersed into PVA aqueous solution of 0.005-1.5 wt% for 5 sec or longer under a temperature between normal temperature and 100°C and dried for 3 min or longer under a temperature between normal temperature and 150°C.例文帳に追加
表面に酸化皮膜層が形成された陽極箔を陰極箔及びセパレータと共に巻回してコンデンサ素子を形成し、このコンデンサ素子を0.005wt%〜1.5wt%のPVA水溶液に、常温〜100℃前後の温度で5秒以上浸漬し、常温〜150℃で3分以上乾燥する。 - 特許庁
To provide a magnetic recording medium in which a recording layer is formed in a prescribed recessed and projecting pattern, a recording element is formed as a projecting part of the recessed and projecting pattern to have high surface recording density and a crash of a magnetic head hardly occurs to have high reliability, and a magnetic recording and reproducing device provided with such a magnetic recording medium.例文帳に追加
記録層が所定の凹凸パターンで形成され、記録要素が凹凸パターンの凸部として形成されて面記録密度が高く、且つ、磁気ヘッドのクラッシュが生じにくく信頼性が高い磁気記録媒体及びこのような磁気記録媒体を備える磁気記録再生装置を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation sensitive composition for a color filter generating no chip or no hiatus even with low exposure, further giving rise to pixels with excellent adhesion property to a substrate and to a light shielding layer and with excellent heat resistance and being excellent in application and development properties, and to provide the color filter formed of the same and a liquid crystal display element provided with the color filter.例文帳に追加
低露光量でも欠けや欠落が生じず、かつ基板および遮光層への密着性、耐熱性に優れた画素を与え、塗布性と現像性に優れるカラーフィルタ用感放射線性組成物、それから形成されたカラーフィルタ、およびそのカラーフィルタを具備する液晶表示素子を提供すること。 - 特許庁
At a predetermined position on wiring layers 11c, 11d of a substrate part 11, an LED element 12 provided on the packaging surface of bumps 12a, 12b is mounted, and the gap between the lower surface thereof and the upper surface of the substrate part 11 is filled with an insulating layer 13 made of a silicone material so as to bury the bumps 12a, 12b.例文帳に追加
基板部11の配線層11c,11d上の所定位置には、バンプ12a,12bが実装面に設けられたLED素子12が搭載され、その下面と基板部11の上面との間には、バンプ12a,12bを埋める様にしてシリコーン材による絶縁層13が充填される。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a ceramic circuit substrate which can reduce burning strain while preventing problems of stamping unnecessary ruggedness on a front layer conductor or a passive element, causing a foreign matter adhesion, or decreasing a plating property and solder wettability in the method of manufacturing the ceramic circuit substrate by the simultaneous burning step using a restricted sheet.例文帳に追加
拘束シートを用いた同時焼成工程によるセラミック回路基板の製造方法において、表層導体や受動素子に不必要な凹凸をスタンプ(stamp)したり、異物付着を起こしたり、メッキ性や半田濡れ性の低下といった問題の発生を防ぎつつ、焼成ひずみをより小さくできる方法を提供する。 - 特許庁
In the cell driving piezoelectric/elctrostrictive actuator 1, the piezoelectric/elctrostrictive element 4 is formed by laying a plurality of layer piezoelectric/elctrostrictive bodies 14 and film-like electrodes 18, 19 alternately and the end parts of the electrodes 18, 19 are buried in the piezoelectric/elctrostrictive bodies 14 at least on the inside of the cell 3.例文帳に追加
セル駆動型圧電/電歪アクチュエータ1は、圧電/電歪素子4が、複数の層状の圧電/電歪体14と膜状の電極18,19とが交互に積層されてなるとともに、電極18,19の端部が、少なくともセル3内側において圧電/電歪体14内に埋設されていることを特徴とする。 - 特許庁
To suppress formation of a void as a connection defect caused by trapping of a gas in a connection layer by eliminating the need of working, such as, grooving on the reverse surface of a semiconductor element, even when a semiconductor is connected using a conductive adhesive producing an extremely large amount of gas.例文帳に追加
ガスの発生がきわめて多量な導電性接着剤を用いて半導体素子の接続を行う場合においても、半導体素子の裏面に溝加工などの加工を不要とし、接続層内部にガスがトラップされることにより形成される接続欠陥としてのボイドの発生を抑制することである。 - 特許庁
For the gettering area, a first and a second remaining polycrystallin silicon layers 69, 70 are provided in contact respectively with the upper and lower ends of the element forming area R1 of the silicon layer 63 on the side of the main surface.例文帳に追加
そして、ゲッタリング領域として、主面側シリコン層63のうち素子形成領域R1に位置する部分の上縁部に接する第1の残留多結晶シリコン層69と、主面側シリコン層63のうち素子形成領域R1に位置する部分の下縁部に接する第2の残留多結晶シリコン層70とが設けられている。 - 特許庁
In the optical semiconductor element, where an optical semiconductor chip having an active layer which radiates or absorbs a light is bonded on a substratum by using a bonding member, the bonding member is formed so as to have a light-reflecting surface which makes an acute angle with a side surface of the optical semiconductor chip, on the outside the optical semiconductor chip.例文帳に追加
光を放射又は吸収する活性層を備えた光半導体チップが接合部材を用いて基材上に接合されてなる光半導体素子において、接合部材を光半導体チップの外側に光半導体チップの側面と鋭角をなす光反射面を有するように形成した。 - 特許庁
The circularly polarized light controlling optical element 10 is obtained by adding a chiral agent and a photo-polymerization initiator to liquid crystal molecules with cholesteric regularity and applying them on a glass substrate 12, on which an alignment layer 16 is formed, and by hardening them with weak ultraviolet ray irradiation in the state in which the interface of the side opposite to the glass substrate 12 is exposed to the air.例文帳に追加
配向膜16が形成されたガラス基板12上にコレステリック規則性を備えた液晶分子を、カイラル剤及び光重合開始剤を添加して塗布し、ガラス基板12と反対側の界面を空気に暴露した状態で弱い紫外線で照射して硬化し、円偏光制御光学素子10を得る。 - 特許庁
To provide an optical sheet pasting material for improvement of light-extraction efficiency for an EL element, with improved light-extraction efficiency as well as lowered visibility of defects of an optical sheet surface, and with easy-to-peel-off performance, that is, a rework property between a pasting layer and a translucent substrate after pasting.例文帳に追加
光取り出し効率を向上させるとともに光学シート表面の傷の視認性を下げるとともに貼合後に貼合層と透光性基板との間にて剥がしやすい性能、即ちリワーク性を有するEL素子用の光取り出し効率向上のための光学シート貼合用材料を提供する。 - 特許庁
To provide an ink-jet printer head which solves a problem caused by thickness of a piezoelectric sheet and an electrode, obtains an excellent jet performance by bringing out well a piezoelectric characteristic of the piezoelectric sheet and obtaining full displacement of an active part, and prevents occurrence of defects such as an electrode cut, a laminated layer release and the like, and also to provide its piezoelectric element.例文帳に追加
圧電シート及び電極の厚さに基づく問題を解決し、圧電シートの圧電特性を良好に発揮させて活性部位の十分な変位を得て優れた噴射性能を得るととともに、電極切れや積層剥離等の不具合を発生させることのないインクジェットプリンタヘッドおよび圧電素子を提供すること。 - 特許庁
The microelectronic mechanical system (MEMS) element has a substrate side electrode 23, a beam 27 having a driving side electrode 26 which double as a reflection film driven by an electrostatic force acting between the substrate side electrode 23 and the driving side electrode 26 and a wiring layer 28 connected to the driving side electrode, and the surface roughness of the driving side electrode 26 is 10 nm or smaller.例文帳に追加
基板側電極23と、この基板側電極23との間に働く静電力により駆動する反射膜を兼ねる駆動側電極26を有するビーム27と、駆動側電極に接続された配線層28とを有し、駆動側電極26の表面祖度が10nm以下に設定されて成る。 - 特許庁
A region of at least one or more of the luminous limit element is a smaller region than effective luminous flux, when disk discrimination of the optical disk or detection of the number of layers or focus jump to the other layer or spherical aberration is performed, transmissivity of a region being smaller than effective luminous flux is made small.例文帳に追加
光束制限素子の少なくとも1つ以上の領域は、有効光束よりも小さい領域であり、前記光ディスクのディスク判別、もしくは層数の検出、もしくは他の層へのフォーカスジャンプもしくは球面収差補正を行なうときには有効光束よりも小さい領域の透過率を小さくする。 - 特許庁
A near-field light generating element 23 accommodated in the groove 24g of an encasing layer 24 has an outer surface that includes a first end face 23a having a near-field light generating part 23f, a second end face opposite the first end face 23a, and a coupling portion that couples the first end face and the second end face.例文帳に追加
収容層24の溝部24g内に収容された近接場光発生素子23は、近接場光発生部23fを含む第1の端面23aと、第1の端面23aの反対側に位置する第2の端面と、第1の端面と第2の端面を連結する連結部とを含む外面を有している。 - 特許庁
Then, the device heat-treats the substrate 11, which is in a state where an organic solution 14x is applied to and filled in the slits 21a, in all columns under reduced pressure, to uniformly and totally dry it to film-deposit an organic EL layer 14, on a pixel electrode 12 exposed to an EL element formation region Re1 of each pixel PIX.例文帳に追加
次いで、全ての列のスリット21a内に有機溶液14xが塗布、充填された基板11を、減圧した状態で加熱処理して、均一かつ一括して乾燥させて、各画素PIXのEL素子形成領域Relに露出する画素電極12上に有機EL層14を成膜する。 - 特許庁
The solid-state image pickup device is characterized in that the closed space 11 of the light receiving region formed on a solid-state image pickup element as an upper layer of a silicon substrate 1 with a frame wall 6 and a sealing glass plate 7 is filled with transparent inert oil 10 of ≤1.3 in refractive index, especially, fluorine-based oil typically of perfluoro-polyester oil.例文帳に追加
シリコン基板1上層の固体撮像素子の上に枠壁6と封止ガラス板7により形成された受光領域の閉鎖空間11に、屈折率1.3以下の透明不活性オイル10、特に、パーフルオロポリエーテル油を代表とするフッ素系オイルが充填されていることを特徴とする固体撮像装置である。 - 特許庁
Disclosed is an arrangement device comprising one power semiconductor module 5 and a transport packaging 2, wherein the power semiconductor module has a base element 40, a housing and connection elements while the transport packaging has a cover layer 10 embodied in a planar fashion, a cover film 30 and one trough-like plastic molded body 80 per power semiconductor module.例文帳に追加
パワー半導体モジュール5と輸送包装2を備えて構成される配列装置であって、パワー半導体モジュールがベース要素40と、ハウジングと、接続要素とを有し、輸送包装が、平面的に構成されたカバー層10と、カバーフィルム30と、パワー半導体モジュール毎に溝状プラスチック成形体80とを有する。 - 特許庁
A photoelectric conversion element 100 comprises a substrate 11 having a flat surface S, a plurality of semiconductor nanowires 2 which are arrayed on the flat surface S and extend in a tapered shape from the flat surface S, and a semiconductor layer 30 which fills gaps between the plurality of semiconductor nanowires 2 and has a carrier type different from that of the semiconductor nanowires 2.例文帳に追加
平坦面Sを有する基板11と、平坦面S上に配列され、平坦面Sから先細り状に延びる複数の半導体ナノワイヤー2と、複数の半導体ナノワイヤー2同士の間隙を充填し、半導体ナノワイヤー2とは異なるキャリアタイプの半導体層30と、を備える光電変換素子100。 - 特許庁
To provide an organic EL element causing little uneven illumination within a pixel due to an uneven film thickness of an organic luminescent medium layer near a barrier rib when a thin film is formed of an organic luminescent material on a substrate provided with the barrier rib by a wet deposition method, and a simple method of manufacturing the same.例文帳に追加
隔壁を設けた基板に対して有機発光材料を湿式成膜法で薄膜形成した場合に、隔壁近傍における有機発光媒体層の膜厚ムラに起因する画素内の発光ムラの発生の少ない有機EL素子と、それを簡便に製造し得る製造方法とを提供する。 - 特許庁
To provide an electrode active material sheet with a support which allows convenient and uniform formation of an electrode active material layer on a collector, especially a perforated collector having front-to-back through-holes such as a punching metal and an expanded metal, and a method for producing an electrode for an electrochemical element by using the same.例文帳に追加
集電体、特にパンチングメタルやエキスパンドメタルなどの表裏貫通孔を有する孔開き集電体上に簡便に、しかも均一に電極活物質層を形成することができる支持体付電極活物質シートとそれを用いた電気化学素子用電極の製造方法を提供する。 - 特許庁
The thermoelectric conversion module 10 includes a heat radiating side substrate 11, a thermoelectric element 16 mounted on the heat radiating side substrate 11 by way of a wiring electrode 12, the block electrode 14, a block arrangement electrode 12a to mount the block electrode 14, and the solder layer 13 to joint the block electrode 14 and the block arrangement electrode 12a.例文帳に追加
熱電変換モジュール10は、放熱側基板11と、放熱側基板11状に配線電極12を介して載置される熱電素子16と、ブロック電極14と、ブロック電極14を載置するブロック配置用電極12aと、ブロック電極14とブロック配置用電極12aを接合する半田層13とを有する。 - 特許庁
The photoelectric conversion element, made by lamination of a conductive thin film, a photoelectric conversion film of an organic layer, and a transparent conductive oxide film on a substrate in this order, has the photoelectric conversion film having a thickness of 150 nm or more and the transparent conductive oxide film having a thickness of 5 nm or more and 10 nm or less.例文帳に追加
基体上に導電性薄膜、有機層からなる光電変換膜、透明導電性酸化物薄膜の順に積層されてなる光電変換素子において、光電変換膜の膜厚が150nm以上であり、前記透明導電性酸化物薄膜の膜厚が5nm以上10nm以下とした。 - 特許庁
To provide a modified OVM stripe structure for preventing a risk in a field in which a card including an OVM stripe has an operational problem relating to a static discharge via a metal layer, specifically to an inter-end discharge electrically connecting a card holder body and a trading device or a conductive element in a reader.例文帳に追加
OVMストライプを含むカードが、金属層を経由する静電放電、特にカードホルダーの本体と取引装置またはリーダー中の導電性素子を電気的に結ぶ端部間放電に関連した操作上の問題を起こす分野において危険性を除くために、修正されたOVMストライプ構造を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal device in which an insulating film having a continuous flat surface on the upper layer side of a pixel electrode, is formed throughout an element substrate, and an insulating film having a uniform film thickness is also formed on each pixel electrode, and also to provide a method for manufacturing the liquid crystal device, and a projection display device.例文帳に追加
素子基板全体にわたって、画素電極の上層側に連続した平坦面を備えた絶縁膜を形成することができるとともに、各画素電極上に均等な膜厚の絶縁膜を設けることができる液晶装置、液晶装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。 - 特許庁
In the inductor built-in component 10 incorporating a planar coil layer 12 (inductor element), n layers (n is an integer ≥1) of planar coil layers 12 are formed on a substrate 11, and a magnetic flux leakage prevention metal cap 14 provided with a recess 14a is mounted so as to house the substrate 11 by the recess 14a.例文帳に追加
平面コイル層12(インダクタ素子)を内蔵したインダクタ内蔵部品10において、基板11上にn層(nは1以上の整数)の平面コイル層12を形成し、凹部14aを有する磁束漏洩防止金属キャップ14を、その凹部14aで基板11を収容するようにして装着する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a solid electrolytic capacitor, forming a solid electrolyte layer consisting of a conductive polymer onto a flat-plate-shaped anode electrode element by chemical oxidation polymerization of a two-liquid method readily applicable to mass production to have favorable ESR (Equivalent Series Resistance) characteristics and capacitance characteristics and free of degradation of LC (Liquid Crystal) characteristics.例文帳に追加
平板状の陽極電極体に対し、量産工程に適用しやすい二液法の化学酸化重合により導電性高分子からなる固体電解質層を形成し、良好なESR特性と静電容量特性を有するとともに、LC特性の劣化もない固体電解コンデンサの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide: a vertical group III nitride semiconductor light-emitting element capable of solving problems of a lateral structure and a flip-chip structure, and increasing the amount of light emitted from the front surface by efficiently reflecting light traveling toward the rear surface out of ultraviolet light generated by a light-emitting layer; and a method of producing the same.例文帳に追加
ラテラル構造およびフリップチップ構造の問題を解決し、さらに発光層で発生した紫外光のうち、裏面に向かう光を効率的に反射して表面からの発光量を増大させることができるバーチカル型III族窒化物半導体発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
The semiconductor device includes: an element-isolation insulating film 30 formed on a major surface 10a of a semiconductor layer 10, and having a first opening 38N and a second opening 38P; an n-type MOSFET 101N provided in the first opening; and a p-type MOSFET 101P provided in the second opening.例文帳に追加
半導体層10の主面10aに形成され、第1開口部38Nと第2開口部38Pとを有する素子分離絶縁膜30と、第1開口部の内側に設けられたn型MOSFET101Nと、第2開口部の内側に設けられたp型MOSFET101Pと、を備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁
The light source device 100 includes a light emitting element 10 which emits first light L1, a substrate 20 which is irradiated with the first light L1 and has an irradiation region 21 with an irregular surface formed, and a fluorescent light emitting layer 30 formed in the irradiation region 21, excited by the first light L1, and emitting second light L2.例文帳に追加
光源装置100は、第1の光L1を出射する発光素子10と、第1の光L1により照射され、凹凸が形成された照射領域21を有する基板20と、照射領域21に形成され、第1の光L1により励起されて第2の光L2を発する蛍光発光層30と、を含む。 - 特許庁
In the solid-state image pickup element, a step is formed in the vicinity of a boundary between both parts that a front surface of a light receiving plane of the pixel part area is positioned lower than the upper surface of the multilayer wiring part area, and a sloped transparent resin layer whose surface protrudes downward is provided on a surface ranging from the step to the pixel part.例文帳に追加
固体撮像素子において、画素部領域の受光面表面が多層配線部領域の上面より低い位置となるように両部の境界付近に段差が形成され、段差から画素部にいたる表面上に、その表面が下に凸なスロープ状の透明樹脂層を設けた。 - 特許庁
The light-reflective conductive particle for this anisotropic conductive adhesive used for subjecting a light-emitting element to anisotropic conductive connection to a wiring board is formed with: a core particle coated with a metal material; and a light-reflective layer located on a surface thereof and formed of light-reflective inorganic particles each having a refractive index of ≥1.52.例文帳に追加
発光素子を配線板に異方性導電接続するために使用する異方性導電接着剤用の光反射性導電粒子は、金属材料で被覆されているコア粒子と、その表面に屈折率が1.52以上の光反射性無機粒子から形成された光反射層とから構成される。 - 特許庁
The solid-state imaging device 10A including a photoelectric conversion element 101 includes, on the solid-state imaging device 101, a near-infrared absorbing layer 107 composed of crystallites of oxide including at least Cu and/or P and containing near-infrared absorbing particles of 5 to 200 nm in number average agglomerated particle size.例文帳に追加
光電変換素子101を備えた固体撮像素子10Aであって、固体撮像素子101上に、少なくともCuおよび/またはPを含む酸化物の結晶子からなり、数平均凝集粒子径が5〜200nmである近赤外線吸収粒子を含有する近赤外線吸収層107を具備する。 - 特許庁
It is built to electrically separate one of the first electrode and the second electrode 21Y into a number of predetermined areas so that the lens effect is turned on/off respectively for the predetermined areas in the lens array element, and capable of applying the voltage to the liquid crystal layer for every predetermined area.例文帳に追加
レンズアレイ素子において複数の所定の部分領域ごとにレンズ効果のオン・オフ制御が可能となるように、第1の電極および第2の電極21Yのうちいずれか一方を、複数の所定の部分領域に電気的に分離し、所定の部分領域ごとに液晶層に電圧を印加することが可能な構造とする。 - 特許庁
In the camera module, a side wall of the camera module formed by laminating at least one lens body on a solid imaging element through a glass spacer is coated by a shielding layer, and a shielding film is formed by some of an electroless plating method, a vacuum film forming method and an application method.例文帳に追加
固体撮像素子の上にガラススペーサを介して少なくとも一枚のレンズ体を積層してなるカメラモジュールの側壁を遮光層により被覆したことを特徴とするカメラモジュールであって、該遮光膜は無電界めっき法、真空製膜法、塗布法のいずれかにより製膜されることを特徴とする。 - 特許庁
A method for manufacturing the photoelectric converter 10 has steps of: making a source solution containing an organic solvent, metal salt, a chalcogen-element-containing compound, and organic onium salt; and bringing a support B into contact with the source solution to let the first semiconductor layer 4 containing the metal chalcogenide deposit on the support B.例文帳に追加
また、光電変換装置10の製造方法は、有機溶媒と、金属塩と、カルコゲン元素含有化合物と、有機オニウム塩と、を含む原料溶液を作製する工程と、支持体Bを原料溶液に接触させ、支持体B上に金属カルコゲン化物を含む第1の半導体層4を析出させる工程と、を具備する。 - 特許庁
The ink jet recording element comprises a substrate, on which a porous image receiving layer consisting of (a) particles having the primary grain size of 7-40 nm whose diameter can be agglomerated to the maximum 300 nm and (b) cationic polymer grains, containing at least 20 mol% of cationic mordant portion insoluble to water, is provided.例文帳に追加
(a)最大300nmまで凝集してもよい直径が7〜40nmの一次粒径を有する粒子、(b)少なくとも20モル%のカチオン性媒染剤部分を含む水不溶性のカチオン性ポリマー粒子を含んで成る多孔性画像受容層を上に有する支持体を含んで成るインクジェット記録要素。 - 特許庁
A charge trapping memory cell whose band gap structure has been designed includes a charge trapping element that is separated from a metal or metal compound gate, such as a platinum gate, by a blocking layer of material having a high dielectric constant, such as aluminum oxide, and separated from a semiconductor body including a channel by an improved tunneling dielectric material.例文帳に追加
バンドギャップを構造設計した電荷捕捉メモリーセルは、プラチナゲートのような金属又は金属化合物のゲートから、酸化アルミニウムのような高い誘電定数を有する材料のブロッキング層によって隔離され、チャンネルを含む半導体本体から改良されたトンネリング誘電体によって隔離される電荷捕捉素子を有する。 - 特許庁
The first semiconductor device 20 has: a first wiring substrate 21; a first semiconductor element 23 arranged on the top surface of the first wiring substrate 21; a first electrode 25 arranged on the top surface of the first wiring substrate 21; and an insulating layer 29 having an opening 29a that exposes part of the first electrode 25.例文帳に追加
第1の半導体装置20は、第1の配線基板21、第1の配線基板21の上面に設けられた第1の半導体素子23、第1の配線基板21の上面に設けられた第1の電極25及び第1の電極25の一部を露出する開口部29aを有する絶縁層29を有する。 - 特許庁
The semiconductor device 1 includes a porous layer 4, containing a compound obtained through hydrolysis or a condensation reaction between at least one kind of alkoxysilane selected from a group of monoalkoxysilane, dialkoxysilane and trialkoxysilane, and a tetraalkoxysilane, and having density of 0.7 g/cm^3 or less which is formed between the substrate 2 and the semiconductor element 3.例文帳に追加
半導体装置1を、基板2と半導体素子3との間にモノアルコキシシラン、ジアルコキシシラン、トリアルコキシシランからなる群より選ばれる少なくとも1種のアルコキシシランと、テトラアルコキシシランとの加水分解・縮合反応により得られる化合物からなり、0.7g/cm^3以下の密度を有する多孔質層4を備えたものとする。 - 特許庁
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