「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(570ページ目) - Weblio英語例文検索

To quickly and surely exchange a vertically long rectangular banner for displaying advertisement propaganda, a proper design pattern and the like to a banner pole concerning a small banner performing advertisement propaganda and the other display by arranging and installing a great number of the flags in a shop such as a pachinko parlor.例文帳に追加

パチンコ店などの店内に多数本、配設、設置して広告宣伝やその他の表示を行う小さな幟であって、広告宣伝文や適宜な図柄等を表示している縦長長方形状の幟旗を幟竿に対して迅速に且つ確実に交換できるようにする。 - 特許庁

A CPU 50 performs control for making the speaker array 40 perform acoustic playback by a designated directivity pattern in mirror-surface symmetry with respect to a virtual plane including an axis going perpendicularly through the center of the speaker array 40 according to a signal processing control program 61.例文帳に追加

ＣＰＵ５０は、信号処理制御プログラム６１に従い、指定された指向性パターンであって、スピーカアレイ４０の中心を垂直に貫く軸を含む仮想平面について鏡面対称な指向性パターンでの音響再生をスピーカアレイ４０に行わせる制御を行う。 - 特許庁

The method for providing the user interface using the avatars includes steps of: generating avatars and menu screens by the user information; displaying the generated avatars and menu screens; and updating the avatars and menu screens according to the user's watching pattern.例文帳に追加

ユーザー情報によってアバターおよびメニュー画面を生成する段階と、前記生成されたアバターおよびメニュー画面をディスプレイする段階と、ユーザーの視聴パターンによって前記アバターおよびメニュー画面を更新する段階とを含むアバターを利用したユーザーインターフェース提供方法。 - 特許庁

In the method for forming a fine pattern, a light shielding film of photomask is brought into contact with a photoresist on a substrate and then pressed against the photoresist thus bringing micro openings, formed by the light shielding film, close to the photoresist before the photoresist is exposed with evanescent light.例文帳に追加

微細パターン作製方法において、フォトマスクの遮光膜を、基板上のフォトレジストに接触させた後、さらに押し付け、遮光膜によって形成された微小開口と前記フォトレジストとの距離を近付けてから、エバネッセント光によってフォトレジストを露光するように構成する。 - 特許庁

To provide an exhaust emission control device of an internal combustion engine and a thermal degradation estimating method for an exhaust emission control catalyst capable of suitably estimating thermal degradation by increasing the degree of freedom on the setting of an estimation pattern when the thermal degradation of catalysts is estimated.例文帳に追加

触媒の熱劣化を推定するに際して、その推定態様の設定に関する自由度を高めることにより、熱劣化の推定を好適に行うことのできる内燃機関の排気浄化装置及び排気浄化用の触媒の熱劣化推定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern of a surface acoustic wave filter having interdigital electrodes arranged on a plurality of stages where all electrode patterns are grounded so as to prevent electrostatic destruction due to discharge and to provide a manufacturing method for the surface acoustic wave filter.例文帳に追加

櫛歯状の交差電極が複数段に配置された電極を有する弾性表面波フィルタにおいて，全ての電極パターンを接地し，放電による静電破壊を防ぐ弾性表面波フィルタのパターンおよび弾性表面波フィルタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The control unit finds a peak value of the photoelectric transfer signal corresponding to the best focus position, and sets the exposure amount for pattern transfer according to the result of comparison between the peak value and the reference intensity value.例文帳に追加

制御装置は、これらの光電変換信号に基づいて投影光学系ＰＬのベストフォーカス位置を求め、そのベストフォーカス位置に対応する光電変換信号のピーク値を算出し、そのピーク値を基準強度値と比較した結果に基づいて、パターン転写時の露光量を設定する。 - 特許庁

The method for forming the fine pattern of the semiconductor device includes pretreating a top portion of a photoresist film with an alkane or alcohol solvent in the immersion lithography process and forming an over-coating film, whereby a uniform over-coating film can be formed with a small amount of the solvent.例文帳に追加

液浸露光工程でフォトレジスト膜の上部をアルカンまたはアルコール溶媒で前処理した後、オーバーコーティング膜を形成する段階を含むことにより、少量の溶媒でむらのないオーバーコーティング膜を形成することのできる半導体素子の微細パターン形成方法。 - 特許庁

To provide a form design device for easily designing a form, improving the recognition rate of an electronic pen by printing a dot pattern also in a peripheral area with a hiding ink, while solving design problems.例文帳に追加

帳票の設計を容易に行うと共に、ドットパターンを周辺領域分大きめに印刷し、当該周辺領域を隠蔽インキでさらに印刷することで電子ペンの認識率を向上させ、且つ、デザイン上の問題を解消することができる帳票設計装置を提供する。 - 特許庁

When an internal electrode layer 15 is arranged such that the secondary internal electrode 15 is provided for every other layer and included only in the same profile pattern, minute positional shift of the secondary internal electrodes 15 can be prevented between respective layers.例文帳に追加

このため内部電極層において、二次側内部電極１５を１層おきに設置する構成として、同一の形状パターンにのみ二次側電極１５が含まれる構成とすれば、各層間での二次側内部電極１５の相互の微小な位置ずれを防止することができる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for cleaning substrates capable of efficiently and uniformly cleaning the substrate of a semiconductor device or the like with a metallic surface using various metals and on which a circuit pattern is formed by ozone water independently of kinds of the metals in a sophisticated way.例文帳に追加

半導体デバイスのような、種々の金属を使用した回路パターンが形成された金属表面を有する基板をオゾン水で洗浄した場合に、金属の種類によらず、均一で高度な洗浄を行うことができる、効率のよい基板の洗浄方法及び洗浄装置の提供。 - 特許庁

To provide a resist underlayer film forming material which is effective as an antireflection film material used in microfabrication in a production process of a semiconductor device or the like, and a resist pattern forming method using the same and suitable for immersion lithography with ArF excimer laser light (193 nm).例文帳に追加

半導体素子などの製造工程における微細加工に用いられる反射防止膜材料として有効なレジスト下層膜形成材料及びこれを用い、ＡｒＦエキシマレーザー光（１９３ｎｍ）を用いた液浸リソグラフィーに好適なレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The apparatus for pattern formation keeps the carriage 20 equipped with a first semiconductor laser LD1 emitting a first irradiation light Le1 of a wavelength having a high absorptivity to a metal ink F and a second semiconductor laser LD2 emitting a second irradiation light Le2 of a wavelength having a low absorptivity to the metal ink F.例文帳に追加

金属インクＦに対して吸収率が高い波長の第１照射光Ｌｅ１を出射する第１半導体レーザＬＤ１と、金属インクＦに対して吸収率が低い波長の第２照射光Ｌｅ２を出射する第２半導体レーザＬＤ２をキャリッジ２０に備えた。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of improving coverage property and shorten the time of data processing of a wiring pattern even when a via hole whose aspect ratio exceeds 1 is formed in an insulating film and a film for flattening on an insulating film in a multilayer film wiring structure.例文帳に追加

多層膜配線構造において絶縁層および絶縁層上の平坦化用の膜にアスペクト比が１を超えるビアホールを形成する場合であってもカバレッジ性の向上を図ることができ、配線パターンのデータ処理の時間を短縮化することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To record prescribed similar parts as a moving image file by automatically extracting only the prescribed similar parts in many similar images when the many similar images of the same pattern temporally and repeatedly exist, such as images obtained by photographing a practicing person for the purpose of sport form practice.例文帳に追加

スポーツフォームの練習のために練習者を撮影した映像のように、時間的に同一パターンの類似の映像が多数繰り返し存在する場合に、その中から所定の類似部分だけを自動的に抽出して動画像ファイルとして記録することを可能にする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor substrate in which copper or a copper alloy principally comprising copper and tantalum or a compound containing tantalum can be polished continuously with a low load and dishing can be controlled to a low level at the end of pattern polishing.例文帳に追加

低荷重で、銅または銅を主成分とする銅合金およびタンタルまたはタンタル含有化合物を連続して研磨することが可能で、かつパターン研磨終了時のディッシング量を低いレベルに制御することが可能である半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The active pattern includes a first impurity region and a second impurity region formed at upper portions of the protrusions distal from the substrate, and a base region formed at portions of the protrusions other than the upper portions and serving as a floating body for storing data.例文帳に追加

前記アクティブパターンは、前記基板から離れた前記突出部の上部に形成された第１不純物領域及び第２領域不純物領域、並びに前記突出部の上部以外の部分に形成されデータを保存するフローティングボディの役割をするベース領域を含む。 - 特許庁

After making contact holes for exposing a substance containing silicon formed on a semiconductor substrate using a photoresist pattern as an etching mask, the semiconductor substrate is loaded in a cluster system where a plasma pretreatment module and a deposition module are coupled under vacuum state.例文帳に追加

フォトレジストパターンを蝕刻マスクとして使用して半導体基板上に形成されたシリコン含有物質を露出させるコンタクトホールを形成した後、前記半導体基板をプラズマ前処理モジュールおよび蒸着モジュールが真空状態で互いに連結される、クラスター装置にローディングさせる。 - 特許庁

To provide a method for forming a three-dimensional photomask which can be easily formed with spacing with high accuracy in forming a contactless state between a mask pattern and a substrate to be exposed and the three-dimensional mask formed by the method.例文帳に追加

マスクパターンと被露光基板との間に非接触状態を形成する際に、マスクパターンを傷つけることなく、当該間隙を容易かつ高精度に形成することができる３次元フォトマスクの形成方法および当該形成方法により形成された３次元フォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide the ceramic substrate for semiconductor manufacture/ detector of excellent electrode pattern embeddment and temperature measurement accuracy by thermo-viewer, excellent volume resistivity and heat conductivity at a high temperature and low lightness suitable as the substrate of a hot plate, an electrostatic chuck, a wafer prober and a susceptor.例文帳に追加

電極パターンの隠蔽性およびサーモビュアによる温度測定精度に優れる他、高温での体積抵抗率および熱伝導率にも優れ、かつ明度が低く、ホットプレート、静電チャック、ウエハプローバ、サセプタなどの基板として好適な半導体製造・検査装置用セラミック基板を提供すること。 - 特許庁

A dual-drop mode for a printer uses at least two full-length waveforms and switches between the waveforms according to one or more patterning methodologies to print a page-length document having a dual-drop size print pattern across the printed portion of the page.例文帳に追加

プリンタのデュアル・ドロップ・モードは、少なくとも２つの全長波形を用い、１つ又はそれ以上のパターン形成方法により、これらの波形の間で切り替えて、ページの印刷された部分にわたり２つの液滴サイズの印刷パターン有する、１ページ長の文書を印刷する。 - 特許庁

The film for forming a resist pattern by ionizing radiation lithography has at least one upper layer on a resist layer formed on a substrate and a composition in the upper layer contains an amphiphilic polymer selected from polyvinyl alcohol, polyvinylamine, polyallylsulfonic acid, cellulose, etc.例文帳に追加

電離放射線リソグラフィーよるレジストパターンの形成用膜において、基板上に形成したレジスト層上に少なくとも一層の上層を有し、上層中の組成物にはポリビニルアルコール、ポリビニルアミン、ポリアリルスルホン酸、セルロースなどから選ばれた両親媒性ポリマーを含有するレジストパターン形成用膜。 - 特許庁

The capacitor includes a storage electrode on an outer wall of which a storage conductive film and a storage conductive film pattern are formed and comprising a compensation member for compensating the loss of the storage electrode, a dielectric film formed on the storage electrode, and a plate electrode formed on the dielectric film.例文帳に追加

前記キャパシタは、ストレージ導電膜及びストレージ導電膜パターンが外壁上に形成され、ストレージ電極の損失を補償する補償部材を具備するストレージ電極、ストレージ電極上に形成された誘電膜、及び誘電膜上に形成されたプレート電極を含む。 - 特許庁

(6) In the case of an article which is in the nature of a spare part for a machine, vehicle or equipment, no feature of pattern, shape or configuration of such article shall afford the registered proprietor of a functional design applied to any one of the articles in question, any rights in terms of this Act in respect of such features.例文帳に追加

(6) 機械，車両又は設備の予備部品の性質を有する物品の場合，当該物品の模様，形状又は輪郭の特徴は，当該特徴についての本法に基づく権利を当該物品の何れかに適用される機能的意匠の登録所有者に与えるものではない。 - 特許庁

"Industrial Design" means any composition of lines or colours or any three dimensional form whether or not associated with lines or colours, provided that such composition or form gives a special appearance to a product of industry or handicraft and can serve as a pattern for a product of industry or handicraft. 例文帳に追加

「意匠」とは、線又は色彩の組合せ、若しくは線又は色彩と組み合わせられるか否かを問わず三次元の形態を意味する。ただし、これらの組合せ及び形態が産業製品又は工芸品に特別な外観を与え、かつ産業製品又は工芸品の模様となる場合に限る。 - 特許庁

Since an adhesive bound book having the extended part folded back onto the rear of the front cover can be prepared, a pattern using a large space having a length about double the size of the book can be put on and the cover for which the range of selection of a design is widened can be formed.例文帳に追加

表表紙の裏側に延長部分が折り返された無線綴本ができるので、本のサイズの約２倍の縦長となった大きな紙面を利用した大きな紙面を利用した絵柄を載せることができ、デザイン上の選択幅が広がった表紙を形成することができる。 - 特許庁

A controller 24 generates a special game state on necessary condition that the patterns in the pattern strings 14-16, 40 are finally stopped by the first or the second specified patterns, and also controls the display of a ready-for-winning state in the pre-stage.例文帳に追加

制御装置２４は、図柄列１４〜１６，４０における図柄が第１の特定の図柄又は第２の特定の図柄にて最終的に停止されることを必要条件に、特別遊技状態を発生させるとともに、その前段階に、リーチ遊技状態を表示制御する。 - 特許庁

In the image forming apparatus, the difference between the scanning lengths of the respective laser beams on a surface to be scanned during one scanning between laser beams is detected using a pattern for detecting the main scanning length and a predetermined frequency is set to CLK generation circuits 804a and 804b to correct a scanning length difference.例文帳に追加

画像形成装置においては、主走査走査長検知用パターンを用いてレーザ間の１走査中の被走査面上での各レーザの走査長の差を検知し、ＣＬＫ発生回路８０４ａ，８０４ｂに所定の周波数を設定することによって、走査長差の補正を行う。 - 特許庁

The memory tester provided with an ALPG 2 which generates a test pattern for digital signals based on vector data VD is enabled to verify the function of a DUT 100a having an A/D-converting function by adding a D/A converter 4 to the inside or outside of the tester.例文帳に追加

デジタル信号のテストパターンをベクタデータＶＤに基づいて発生させるＡＬＰＧ２を備えるメモリテスタの構成に、テスタ内蔵の、または、テスタ外部に設けられたＤＡ変換器４を追加して、ＡＤ変換機能を有するＤＵＴ１００ａの機能の検証を行えるようにする。 - 特許庁

The pattern inspection device further includes a means for converting the gradation of image signals between the compared images in a plurality of different processing units.例文帳に追加

上記課題を解決するために、本発明では、同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、複数の検出系とそれに対応する複数の画像比較処理方式を備えて構成した。 - 特許庁

Further, the gradation pattern is formed, by arranging light shielding parts 3 and light-transmitting parts 3 of size larger than the resolution limit of a defect inspecting device for the photomask, in a region which is ≤20 μm in diameter or the diagonal length, corresponding to the bottom surface of the hemispherical structure.例文帳に追加

しかも、この階調パターンは、半球状構造体の底面に対応する直径または対角長が２０μｍ以下の領域に、フォトマスクの欠陥検査装置の解像限界より大きい寸法の遮光部３及び透光部３を設けることによって形成する。 - 特許庁

To provide a clip connector having in combination both a structure that positioning of a wiring pattern of a flexible substrate for wiring and a plurality of probes provided with the clip connector is precisely carried out, and a structure that the flexible substrate pinched by the clip connector is hard to fall off from that clip connector.例文帳に追加

配線用フレキシブル基板の配線パターンとクリップコネクタが備える複数のプローブとの間の位置あわせが正確に行なわれる構造とクリップコネクタによって挟持されているフレキシブル基板がそのクリップコネクタから抜け難い構造との双方を併せ持つクリップコネクタを提供する。 - 特許庁

This light emitting device (optical semiconductor device) 1 includes: a semiconductor package 10 with a light emitting element 11 mounted thereon; and the wiring board 30 formed with a wiring pattern 32 for electrically connecting one electrode terminal 23b and the other electrode terminal 23c of the semiconductor package 10 thereto.例文帳に追加

この発光装置（光半導体装置）１は、発光素子１１が搭載された半導体パッケージ１０と、半導体パッケージ１０の一方電極端子２３ｂおよび他方電極端子２３ｃが電気的に接続される配線パターン３２が形成された配線基板３０とを備えている。 - 特許庁

To provide a coupling structure of a conductive particle for a connection member which has excellent connection realibility of a microelectrode, has high insulation properties between adjacent electrodes in a narrow space, has low connetion resistance, and provides connection with high long-term reliability when fine pattern wiring is electrically connected.例文帳に追加

微細パターン配線の電気的接続において、微小電極の接続信頼性に優れると共に、狭スペースの隣接電極間の絶縁性が高く、接続抵抗が低く、長期信頼性の高い接続を可能にする接続部材のための、導電粒子の連結構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a layout setting device for an eyeglass lens grinding system that improves work efficiency while allowing a user to input without errors by enabling the user to arbitrarily set a cursor display position on an initial display screen and by providing an input order corresponding to a machining pattern.例文帳に追加

初期表示画面におけるカーソル表示位置を任意に設定可能とすることで、加工パターンに合わせた入力順序を提供することで、誤り無く入力できかつ作業効率を向上させることを目的とする眼鏡レンズ研削加工装置のレイアウト設定装置を提供すること。 - 特許庁

In addition to a wiring group 14 including a plurality of wiring patterns 14a being connected with the terminals of a display 102 and dummy patterns 14b not connected with the terminals, a pattern 18 for reinforcing a base film 12 is formed on the base film 12.例文帳に追加

基台フィルム１２上には、ディスプレイ１０２の端子にそれぞれ接続される複数の配線パターン１４ａと、前記端子には接続されないダミーパターン１４ｂとを含む配線群１４が形成されると共に、基台フィルム１２の補強を行う補強パターン１８が形成されている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of PDP members in which component members of a PDP superior in pattern shape (for example, barrier rib, electrode, resistor, dielectric layer, phosphor, color filter, black matrix) or component members of a PDP having complicated shape can be formed suitably.例文帳に追加

パターン形状に優れたＰＤＰの構成部材（たとえば、隔壁、電極、抵抗体、誘電体層、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）や、あるいは複雑な形状を有するＰＤＰの構成部材を好適に形成することができるＰＤＰ部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

A special picture-controlling substrate 32d transmits variation pattern information corresponding to variation patterns of special pictures, left determined picture information, central determined picture information and right determined picture information from an external terminal substrate 57 for the panel to a hall computer HC through a line 57a.例文帳に追加

特別図柄制御基板３２ｄは、特別図柄の変動パターンに対応する変動パターン情報、左確定図柄情報、中確定図柄情報および右確定図柄情報を盤用外部端子基板５７からライン５７ａを通じてホールコンピュータＨＣへ送信する。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with an N-type epitaxial wafer 11, an etching preventing electrode provided on the wafer 11, and a P electrode which is provided on the etching preventing electrode and is etched, in a prescribed electrode pattern by an etchant which is different from that used for etching the etching preventing electrode.例文帳に追加

Ｎ型エピタキシャルウェハー１１と、Ｎ型エピタキシャルウェハー１１上に設けられたエッチング防止電極と、エッチング防止電極の上に設けられ、エッチング防止電極をエッチングするエッチング剤とは異なるエッチング剤でエッチングされ、所定の電極パターンが形成されるＰ電極とを備える。 - 特許庁

To provide a method and a device for speech analysis, which are not affected by the environment and mental state of a speaker by excluding a feature vector having a small variation quantity from standard pattern learning object data by using a time variation parameter of delta cepstrum.例文帳に追加

デルタケプストラム等の時間変動パラメータを用いて、変化量の少ない特徴ベクトルを標準パターン学習対象データから除外することにより、発声者の環境，心理状態により影響されることのない音声認識方法および装置を提供すること。 - 特許庁

To realize a method and an equipment for measuring plate shift of all plates at the same position on an image output medium while avoiding measurement error due to mismatch between the direction of an evaluation pattern and the input direction thereof and decreasing the number of required measuring points.例文帳に追加

画像出力媒体上の同一位置において全ての版に関し版ずれを測定することができ、評価用パターンの方向とその入力方向との不一致による測定誤差を回避することができ、さらに必要な測定点数が少ない版ずれ測定方法及び装置を実現する。 - 特許庁

A polyester film 8 having a printing layer 10 capable of obtaining a proper pattern when a bottomed cylindrical body is molded and a thermosetting adhesive layer 9 is bonded to the surface becoming a can outer surface of a metal panel 2 for a can through the thermosetting adhesive layer 9 and this metal panel is molded into the bottomed cylindrical body.例文帳に追加

缶用金属板２の缶外面となる側に、有底筒状体５としたときに適正な絵柄が得られる印刷層１０と熱硬化型接着剤層９とを備えるポリエステルフィルム８を、熱硬化型接着剤層９を介して接着し、有底筒状体５に成形する。 - 特許庁

Blood vessels (pits) are extracted from an image captured by an endoscope to perform pattern matching with vascular patterns associated with the cancer invasion depth and enhanced display of blood vessels, suggestion of preferred imaging conditions and display for diagnosis support, etc., are performed according to the matching result.例文帳に追加

内視鏡で撮影した画像から血管（腺口）を抽出して、癌の進達度に応じた血管パターンとのパターンマッチングを行い、マッチングの結果に応じて、血管の強調表示、好適な撮影条件の示唆、診断を支援する表示等を行なうことにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

A plurality of specific patterns 22 constituted by adding the marks to those squares connected in specific shapes with a predetermined pattern for showing their positions in the recording face 20 are arranged in parallel with predetermined intervals in their line directions and column directions in the information recording area 23.例文帳に追加

記録面２０内での位置を示すように特定の形状に連結した複数の枡目に上記マークを所定のパターンで付してなる特定パターン２２を、情報記録領域２３内に行方向および列方向に所定の間隔を持たせて複数平行に配置する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device, having a structure for connecting a plug or a line onto a metal pattern embedded in an insulation film containing fluorine, in which good connection is kept between a metal film filling the trench in the insulation film containing fluorine and other metal films which are connected therewith.例文帳に追加

フッ素含有絶縁膜に埋め込まれた金属パターンの上にプラグ又は配線を接続する構造を有する半導体装置に関し、フッ素含有絶縁膜の溝に埋め込まれた金属膜とこれに接続される別の金属膜との接続を良好に保つこと。 - 特許庁