「pattern shape」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

The design device generates checking drawing data 26 obtained by removing the outer serif pattern and the inner serif pattern from the drawing data 24, and verifies the shape of a drawing pattern included in the checking drawing data 26 according to a verification rule.例文帳に追加

そして、設計装置は、アウターセリフパターン，インナーセリフパターンを描画データ２４から除去したチェック用描画データ２６を生成し、そのチェック用描画データ２６に含まれる描画用パターンの形状を検証ルールに従って検証する。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive polymer composition having high sensitivity, a good pattern shape and a good rate of a residual film in the unexposed part, to produce a relief pattern using the composition and to provide high reliability electronic parts with the relief pattern.例文帳に追加

感度が高く、パターンの形状や未露光部の残膜率も良好なポジ型の感光性重合体組成物、該組成物を用いたレリーフパターンの製造法、該レリーフパターンを有する信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

To appropriately plot a prescribed pattern by multiple exposure on the basis of pattern data regardless of a pixel size of the pattern data by using an exposure unit provided with many modulation elements arranged in a matrix shape.例文帳に追加

マトリックス状に配置された多数の変調素子を持つ露光ユニットを用いて、パターンデータの画素サイズがどのような大きさのものであってもそのパターンデータに基づいて所定のパターンを適正に多重露光により描画する。 - 特許庁

Joule heat generated in the electrode pattern 11 vaporizes the vapor deposition material 12, the vaporized material is deposited on the surface facing the substrate 30 to form a thin film 31 of the pattern shape corresponding to the electrode pattern 11.例文帳に追加

これにより、電極パターン１１において発生するジュール熱が蒸着材料１２を蒸発させ、これが基板３０の対向面に蒸着し、電極パターン１１に対応したパターン形状の薄膜３１が形成される。 - 特許庁

In a pattern data storage part 25, there are stored shape pattern data in which the shapes of panel materials concerning vehicles produced in the past are standardized and processing pattern data in which spot points of the panel materials and the related welding equipment are standardized.例文帳に追加

パターンデータ記憶部２５には、過去に量産された車体に関するパネル材の形状を標準化した形状パターンデータ、パネル材のスポット打点とこれに対応する溶接装置とを標準化した工程パターンデータが格納される。 - 特許庁

To provide an electric component which is formed in a fine shape on a substrate and has a conductive pattern with a stable structure where stripping from a base material is suppressed, and to provide a conductive pattern forming method for forming the conductive pattern.例文帳に追加

微細な形状で基材上に形成され、当該基材からの剥離が抑制された安定な構造の導電パターンを有する電気部品と、当該導電パターンを形成する導電パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

An edge position of a pattern P2 is detected from a shape information of the pattern (a step S1), and an irradiation range Ri2 as a range for irradiation of the charged particle beams is set at an edge and its adjacent spaces of the pattern 2.例文帳に追加

パターンＰ２の形状情報からこのパターンのエッジ位置を検出し（ステップＳ１）、荷電ビームを照射する領域としての照射領域Ｒｉ２をパターンＰ２のエッジおよびその周辺領域に設定する（ステップＳ２）。 - 特許庁

Namely, the edge position of the device pattern 1 is changed so as to eliminate the step 1a, and the line width of the assist pattern 2 is changed so as to adjust a change in transfer shape resulting from the elimination of the step 1a from the device pattern 1.例文帳に追加

デバイスパターン１は、段差１ａを消失させるように、そのエッジ位置を移動させ、アシストパターン２は、デバイスパターン１から段差１ａを消失させたことによるその転写形状の変化を調整するように、線幅を変化させる。 - 特許庁

By paying attention to influential factors, such as the focus, exposure, the shape of a mask pattern, the instrumental error (aberration etc.) between aligners, etc., upon the dimension of a transferred pattern, the pattern dependency of the response of exposing conditions, such as the best focus shift etc., is evaluated.例文帳に追加

フォーカス、露光量、マスクパターン形状および露光装置機差（収差他）等のような転写されるパターンの寸法への影響要因を考慮して、ベストフォーカスシフト等、露光条件の応答のパターン依存性を評価する。 - 特許庁

The second pattern 12e has a planar shape on which the electrical characteristics of part of a semiconductor device configured by the second pattern 12e is substantially the same as those of part of a semiconductor device configured by the first pattern.例文帳に追加

第２のパターン１２ｅは、第２のパターン１２ｅから構成される半導体装置の部分が、第１のパターンから構成される半導体装置の部分と、電気的特性が実質的に同一になる平面形状を有する。 - 特許庁

It is preferable that the container for housing the glass is a generally circular columnar shape and the pattern formed on the side face of the transparent glass and the color pattern formed in the coaster is integrated to form the pattern suggesting a meaning.例文帳に追加

グラスを収納する容器は略円柱であることが好ましく、また、透明のグラスの側面に施された図柄と、コースターに施された色彩模様とが一体となって意味を連想させる図柄を形成することが好ましい。 - 特許庁

A pattern control part determines each shape of the individual light distribution patterns by controlling each of the shade moving mechanisms 58 in the left lamp unit and the right lamp unit, and also determines a shape of a synthesized light distribution pattern by superimposing each of the individual light distribution patterns one on another.例文帳に追加

パターン制御部は、左灯具ユニットと右灯具ユニットの各シェード移動機構５８を制御して各個別配光パターンの形状を決定すると共に各個別配光パターンを重畳して合成配光パターンの形状を決定する。 - 特許庁

Since the bulb type recess pattern 100 has a shape of gourd consisting of the first and second ball pattern parts 25A and 27 which differs in a section shape and a diameter, it is made possible to reduce the size of the void remaining in an electric conductive layer (for example, polysilicon).例文帳に追加

バルブ型リセスパターン１００が、断面形状及び直径が異なる第１と第２のボールパターン部２５Ａ、２７からなるひょうたん形であるので、導電層（例えば、ポリシリコン）内に残留するボイドの大きさを小さくすることができる。 - 特許庁

Subsequently, actual print processing is performed using a correction printing plate 18 with a pattern region PT2 which is corrected to contract in fan-shape in the reverse direction based on the deformation ratio so that the pattern enlarged in fan-shape is corrected.例文帳に追加

そして、当該扇状に拡大したパターンを補正するように、変形の割合に基づいて逆方向の扇状に縮小修正されたパターン領域ＰＴ２を備える修正印刷版１８を用いて実際の印刷処理が行われる。 - 特許庁

A height computation unit 213 generates height evaluation data from a change of a slit pattern shape in image data on the first color component and a change of a slit pattern shape in image data on the second color component, respectively, in order to obtain three-dimensional measuring data on the coin.例文帳に追加

高さ計算部２１３は、第１の色成分の画像データにおけるスリットパターン形状の変化と、第２の色成分の画像データにおけるスリットパターン形状の変化からそれぞれ高さ評価データを作成し、硬貨の三次元測定データを得る。 - 特許庁

To enable the formation of a pattern having a finer width which exceeds the limit of dimensional shape such as a film thickness of the layer which is lifted off and is patterned and a cut shape of resist when the pattern having the narrow width is formed by means of the lift-off method.例文帳に追加

リフトオフ法により狭小な幅を有するパターンを形成する際に、リフトオフされてパターニングされる層の膜厚や、レジストの切れ込み形状などの寸法形状の限界を越えた、より微細な幅を有するパターンの形成を可能にする。 - 特許庁

The carrying track of the composite sheet is controlled on the upstream side based on a dislocating quantity from a reference position, and after imparting the pattern shape by superposing the composite sheet on an absorbing body 13, the boundary part 100 and a pattern shape part 111 of the composite sheet are detected.例文帳に追加

基準位置からのずれ量に基づき複合シートの搬送軌道を上流側で制御し、吸収体１３に複合シートを重ねてパターン形状を付与後、複合シートの境界部１００とパターン形状部１１１を検出。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, good adhesiveness to a substrate and a good trailing shape of a pattern, excellent in pattern shape, ensuring a wide exposure margin and excellent also in sensitivity and resolution.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、また基板に対する接着性およびパターンの裾形状も良好でパターン形状に優れ、露光マージンが広く、しかも感度、解像度にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Then an image area generating section 14 uses the second edge shape pattern and the pixel value in the first image block to generate a second image block of the same size as that of the second edge shape pattern and an image data output section 15 sequentially arranges them.例文帳に追加

そして、画像領域生成部１４で第２のエッジ形状パターンと第１画像ブロック内の画素値とを用いて第２のエッジ形状パターンと同じサイズの第２画像ブロックを生成し、これを画像データ出力部１５で順次配置する。 - 特許庁

To provide a pattern shape inspection device capable of inspecting quickly and highly sensitively a magnetic recording medium including a patterned medium, a bit patterned medium or the like of an object to be inspected, or a pattern shape of a stamper thereof or the like, and a method therefor.例文帳に追加

被検査対象であるパターンドメディアやビットパターンドメディア等からなる磁気記録媒体又はそのスタンパ等のパターン形状を高速で、且つ高感度に検査できるようにしたパターン形状検査装置及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

A helical antenna is constituted of a cylinder shape member 1 made of insulator, an insulating film formed on a peripheral surface of the cylinder shape member 1, and an insulating film 3 with a conductor pattern which is made of a conductor pattern 4 printed on the insulating film.例文帳に追加

ヘリカルアンテナは、絶縁体から成る筒状部材１と、筒状部材１の周面上に形成された絶縁フィルムと前記絶縁フィルム上に印刷された導体パターン４からなる導体パターン付き絶縁フィルム３から構成される。 - 特許庁

To provide a woven or knitted fabric having specific shape, having plane pattern and/or three-dimensional pattern and high shape-retaining property, excellent in durability and useful in textile field such as lining fabric, interlining, outerwear or inner and interior material field such as wall paper, lace or blind.例文帳に追加

平面模様および／又は立体模様を有し、その形状保持性が高く、耐久性に優れ、裏地、芯地、外衣、インナー等の衣料用分野、壁紙、カーテン、レース、ブラインドなどのインテリア資材分野等に有用な特殊形状織編物の提供。 - 特許庁

A protection film 20 including a shape pattern 20a in response to the shape of the piezoelectric substrates 12 and an opening 20b in response to the shape of the alignment marker 18 relative to the alignment of a photo mask or the like is formed on the surface of the piezoelectric wafer 10.例文帳に追加

圧電ウエハ１０の表面には、圧電基板１２の形に応じた形状パターン２０ａと、フォトマスク等の位置合わせ基準となるアライメントマーカー１８の形に応じた開口部２０ｂとを有する保護膜２０が形成される。 - 特許庁

In the method for forming and imparting the uneven shape, a roller having a profile according to the predetermined sectional shape and a roller having an uneven pattern on its surface are arranged in a four-way rolling mill and the uneven shape is formed and imparted by the rolling.例文帳に追加

凹凸形状を成形および付与する方法としては、所定の断面形状に応じたプロフィールを持つロールと表面に凹凸模様を有したロールを四方ロール圧延機に配置して、圧延によって実施する。 - 特許庁

To provide a method for making an undergarment corresponding to an individual body shape of a wearer, comprising fully, automatically and rapidly creating a paper pattern individually adapting to a body shape through assistance of a computer when making a body-trimming undergarment so as to simplify and facilitate undergarment production corresponding to the individual body shape of the wearer.例文帳に追加

補整下着の製作において、個人の身体形状に適合した型紙をコンピューターの支援によって全自動で素早く作成し、個人形状対応下着の製作を簡単かつ容易ならしめる。 - 特許庁

From image data acquired by imaging a pattern to be imaged 50 composed of first and second marks 60A and 60B, a three-dimensional shape of a surface with the imaging pattern formed thereon is acquired.例文帳に追加

第１マーク６０Ａと第２マーク６０Ｂとで構成された被撮像パターン５０を撮像して得た画像データから被撮像パターンが形成された表面の３次元形状を求める。 - 特許庁

On the surface of the decoration member 4, a pattern 11 of a line shape or the like and an opening part 12 passing through the inside and outside of the void 5 are provided and the opening part 12 constitutes a part of the pattern 11 as well.例文帳に追加

装飾部材４の表面には線状等の模様１１と、空所５内外を貫通する開口部１２とが設けられ、開口部１２も模様１１の一部を構成する。 - 特許庁

During the execution of a performance pattern variation pattern, when a game ball PB abuts against the shape 208, the variation of a background image can give players an expectation of winning.例文帳に追加

演出図柄変動パターン実行中に、この形状体２０８に遊技球ＰＢが当接したときに、背景画像を変化させることで、遊技者に当選の期待感を与えることができる。 - 特許庁

To provide a structure inspection method or the like capable of more accurately obtaining the size and the shape of a pattern with a regular structure depending on the measurement result of diffracted light obtained by making light incident onto the pattern and diffracting the light therein.例文帳に追加

規則的な構造を有するパターンに光を入射し、回折して得られる回折光の測定結果から、より正確にパターンの寸法や形状の評価を行う。 - 特許庁

Therefore, since the shape of a liquid-repellent pattern can be freely modified by selecting properly the transfer element 31, the on-demand wiring pattern is formed.例文帳に追加

従って、押し出す転写素子３１を適宜選択することによって、撥液パターンの形状を自由に変更することが可能となることから、オンデマンドな配線パターンが形成される。 - 特許庁

METHOD FOR ESTIMATING PATTERN SHAPE IN CHARGED-PARTICLE RAY EXPOSURE TRANSFER, METHOD FOR DETERMINING RETICLE PATTERN USED FOR CHARGED-PARTICLE RAY EXPOSURE TRANSFER AND METHOD FOR ESTIMATING PARAMETER OF PROXIMITY EFFECT例文帳に追加

荷電粒子線露光転写におけるパターン形状の推定方法、荷電粒子線露光転写に使用するレチクルパターンの決定方法、及び近接効果のパラメータの推定方法 - 特許庁

To provide a photomask that can easily be manufactured and inspected, has small deterioration in transfer shape of a light shielding pattern, and can prevent a light shielding pattern defect due to discharge.例文帳に追加

簡易に作製及び検査することができ、遮光パターンの転写形状の劣化が小さく、かつ放電による遮光パターン欠陥を防止することができるフォトマスクを提供すること。 - 特許庁

With a second resist pattern 203 for covering the upper side of the sacrificial layer 9 as a mask, the conductive film 13 part on the structure film 11 is etched according to the shape of a wiring pattern 13a.例文帳に追加

犠牲層９の上方を覆う第２レジストパターン２０３をマスクに用いて構造体膜１１上の導電膜１３部分を配線パターン１３ａの形状にエッチングする。 - 特許庁

To provide a composition for a resist underlayer film that can reduce trailing in a resist pattern and improve a shape of the pattern, and to provide a resist underlayer film using the composition.例文帳に追加

本発明はレジストパターンの裾引きを低減させるとともに、該パターンの形状を改善することが可能なレジスト下層膜用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method enhancing a shape control property of a pattern comprising a liquid drop by avoiding flight deflection of the liquid drop and clogging of a delivery port, and a liquid drop delivery apparatus.例文帳に追加

液滴の飛行曲がりや吐出口の目詰まりを回避して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which prevents ink oozing or traveling to back side by screen printing with a stabilized printed shape, and also a method of manufacturing a semiconductor device using the pattern forming method.例文帳に追加

スクリーン印刷法により、インクの滲みや裏周りが防止され、印刷形状が安定化されたパターン形成方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the irregular pattern 18 thus keeps its shape after having once formed, the invention can provide a decorative plate 10 having a clear irregular pattern 18.例文帳に追加

つまり、凹凸パターン１８を一旦形成した後は、その形状がそのまま保持されるので、鮮明な凹凸パターン１８を有する化粧板１０を提供することが可能となる。 - 特許庁

To obtain a proper sectional shape of a resist pattern, although the resist pattern is formed using exposure light having a light component entering a resist film at the Brewster angle.例文帳に追加

レジスト膜に対してブリュースター角で入射する光成分を有する露光光を用いてレジストパターンを形成するにも拘わらず、レジストパターンの断面形状が良好になるようにする。 - 特許庁

Then, in-layer lenses are formed by carrying out dry etching using the resist pattern 30d as a mask with a selection ratio of approximately 1, and by transferring the convex lens shape of the resist pattern 30d to a transparent film 29a.例文帳に追加

そして、このレジストパターン３０dをマスクとして選択比が略１でのドライエッチングを行って、透明膜２９aにレジストパターン３０dの凸レンズ形状を転写して、屋内レンズを形成する。 - 特許庁

To provide mask blanks, and the like, for preventing a skirt shape protrusion from being generated at a pattern bottom after resist pattern formation in the mask blanks to which chemically-amplified resist is applied.例文帳に追加

化学増幅型レジストを塗布したマスクブランクスにおいて、レジストパターン形成後パターン底部に発生する裾引き状突起部の発生を抑えることのできるマスクブランクス等を提供する。 - 特許庁

RESIST SHAPE PATTERN, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING MASTER INFORMATION CARRIER, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING MEDIUM, METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS, AND MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING APPARATUS例文帳に追加

レジスト形状パターン、レジストパターン形成方法、マスター情報担体の製造方法、磁気記録媒体の製造方法、磁気記録再生装置の製造方法および磁気記録再生装置 - 特許庁

To measure a pattern shape with high accuracy by correcting a measurement error caused by disturbance on the wave front of a reference light comprising 0-order diffraction light reflected from the pattern face of a diffraction optical element.例文帳に追加

回折光学素子のパターン面での反射０次回折光からなる参照光の波面の乱れに起因する測定誤差を補正して被検面の面形状を高精度に測定する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device where an insulating film has no air gap, pattern dependency of calcination is small, and pattern dependency of the shape and film thickness of the insulating film is small.例文帳に追加

絶縁膜に空隙がなく、焼成のパターン依存性が小さく、絶縁膜の形状および膜厚のパターン依存性が小さい半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system for evaluating the hole pattern shape especially suitable for matching the center of a displayed region of a sample image correctly with the center of a hole pattern.例文帳に追加

本発明の目的は、試料像の表示領域中心と、ホールパターン中心を適正に一致させるのに特に好適なホールパターン形状評価装置を提供することにある。 - 特許庁

Then, he/she touches a braille section 9 to recognize a name of the convex picture pattern portion 7, and grasps a shape of Hiragana by touching a convex character part 11 showing the name of the convex picture pattern portion 7.例文帳に追加

そして、点字部９に触れて凸形絵柄部７の名称を認識し、更に凸形絵柄部７の名称を表す凸形文字部１１に触って平仮名の形状を把握する。 - 特許庁