「pattern system」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an aligner capable of correctly exposing a pattern, which is formed on a mask on a substrate, even when the attitude of an optical projection system is changed when the optical projection system is moved.例文帳に追加

投影光学系１を移動する際に投影光学系１の姿勢が変化してもマスク９に形成されたパターンを正しく基板８上に露光することができる露光装置を提供すること。 - 特許庁

A memory system includes: a controller so configured as to convert data on the basis of a first bit pattern sequence; and a nonvolatile memory device so constituted as to program the converted data by a program method corresponding to the first bit pattern sequence and to read data by a reading method corresponding to a second bit pattern sequence different from the first bit pattern sequence.例文帳に追加

メモリシステムは第１ビットパターン順序に基づいてデータを変換するように構成された制御器と、そして第１ビットパターン順序に対応するプログラム方法によって変換されたデータをプログラムするように、そして第１ビットパターン順序と異なる第２ビットパターン順序に対応する読み出し方法によってデータを読み出すように構成された不揮発性メモリ装置を含む。 - 特許庁

The system is equipped with a portable terminal 1 which records a required recording object as content data, accepts key information input for the content data, generates designated pattern information for the key information, performs a printing instruction for the pattern information every time when the pattern information is generated, and a mobile printer 2 which prints at least the pattern information on a medium such as the paper.例文帳に追加

所望の記録対象をコンテンツデータとして記録し、且つコンテンツデータに対するキー情報の入力を受け付け、且つキー情報に対応する所定のパターン情報を生成し、且つパターン情報の生成のたびにパターン情報の印刷指示を行う携帯端末１と、少なくともパターン情報を紙などの媒体に印刷するモバイルプリンタ２とを備える。 - 特許庁

A method is disclosed, regarding acquiring of information concerning a motor by using the optical encoder system, and comprises irradiating the first code pattern arranged on the first face of the pattern medium, irradiating the second code pattern arranged on the second face of the pattern medium, detecting the light reflected from the first face, detecting the light reflected from the second face, and analyzing the rays of the reflected light.例文帳に追加

光エンコーダシステムを使用してモータに関する情報を得る方法であって、パターン媒体の第１の面に配置された第１のコードパターンを照らし、パターン媒体の第２の面に配置された第２のコードパターンを照らし、前記第１の面から反射された光を検出し、前記第２の面から反射された光を検出し、反射光を分析することからなる方法を開示する。 - 特許庁

In the exposure method where a mask formed with a desired pattern and an auxiliary pattern having dimensions smaller than those of the desired pattern is illuminated and light passed through the masks are projected to a body exposed through a projection optical system, the body is exposed at a position shifted from a best image focusing position when the auxiliary pattern is resolved.例文帳に追加

所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを照明して当該マスクを経た光を投影光学系を介して被露光体に投影し露光する露光方法において、前記補助パターンが解像されてしまう場合に、最良結像フォーカス位置からずれた位置で前記被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。 - 特許庁

At pattern drawing, the positional deviation amount of a sample is acquired from the pre-stored data based on the temperature fluctuation of the sample stage, and the positional deviation amount is corrected by a deflection control system 115 or a laser measurement system 109, and an electron lens control system 117.例文帳に追加

パターン描画時に、試料ステージの温度変動をもとに、予め記憶しておいたデータから試料の位置ずれ量を求め、偏向制御系１１５またはレーザ測定系１０９、電子レンズ制御系１１７で位置ずれ量の補正を行う。 - 特許庁

An MRI system 100 displays information which indicates the direction of a setting value to be received as the center position of imaging, together with the pattern diagram of the MRI system 100 so that relative positional relationship between the direction and the MRI system 100 can be made clear.例文帳に追加

ＭＲＩ装置１００は、撮像中心位置として受け付ける設定値の方向を示す情報を、該方向とＭＲＩ装置１００との相対的な位置関係が明らかとなるように該ＭＲＩ装置１００の模式図とともに表示する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system for supplying a beam of radiation, a patterning system serving unit to impart the beam of radiation with a pattern in its cross-section, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線ビームを供給する照明系、放射線ビーム断面にパターンを与えるパターン付与装置、基板を支持する基板テーブル、およびパターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影系を含む。 - 特許庁

The calibration controller controls the driving mechanism to make the sample retreat to the outside the angle of view of the objective optical system and obtains the image data for calibration including overall the objective optical system, the imaging optical system and the shading pattern of the imaging section.例文帳に追加

較正制御部は、駆動機構を制御して試料を対物光学系の画角外に待避させ、撮像部から、少なくとも対物光学系、結像光学系、および撮像部のシェーディングパターンを総合的に含む較正用画像データを得る。 - 特許庁

The exposure system comprises 6 mirrors and has the projection optical system for projecting and exposing images of a reticle pattern on a wafer, and also has a detection system for detecting a positional offset amount of the images during the projection and exposure.例文帳に追加

６枚のミラーから成り、レチクルのパターンの像をウエハ上に投影露光する投影光学系を有する露光装置であって、前記投影露光中に、前記像の位置ずれ量を検出する検出系を有することを特徴とする露光装置。 - 特許庁

To provide an optical system for condensing light in a square pattern, the system that irradiates a square part with light at high illuminance and uniformity, that is in a small size with high irradiation efficiency, and to provide a UV ray irradiation apparatus for a liquid crystal panel using the optical system.例文帳に追加

角形状の部分に高照度で、高均整度の光照射を行い、しかも照射効率が高くて小形化された角形状集光用光学系およびこれを用いた液晶パネル用紫外線照射装置を提供する。 - 特許庁

A radio receiving device which is used by the present system comprises a symbol-rearranging means for rearranging the information symbols received from the radio transmitting device in a pattern reverse to the predetermined pattern in the frequency axis direction and the time axis direction.例文帳に追加

本システムに使用される無線受信装置は、前記無線送信装置から受信した情報シンボルを、前記あるパターンの逆パターンで周波数軸方向及び時間軸方向に並べるシンボル再配置手段を備える。 - 特許庁

To provide a sticking pattern determination device capable of automatically determining a sticking pattern optimizing a throughput even when an ACF is stuck in a device system where a plurality of sticking devices with dual heads are arranged side by side.例文帳に追加

デュアルヘッドを備えた貼付装置が複数並んで配置された装置システムにおいてＡＣＦを貼り付ける場合でも、スループットを最適にする貼付パターンを自動的に決定することが可能な貼付パターン決定装置を提供する。 - 特許庁

When exposing a substrate to a pattern by projecting the image of the pattern upon the substrate through a projection optical system and a liquid, the condition of the liquid immersion performed on the substrate is decided in accordance with a film member formed on the liquid contact surface of the substrate.例文帳に追加

投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、基板上の液体接触面に形成される膜部材に応じて、基板の液浸条件を決定する。 - 特許庁

The lighting optical system sets a light to the specified pattern to be one with a range of specific incident angle, and it sets the light with a range of specific incident angle to TE polarization for the specified pattern.例文帳に追加

照明光学系は、所定のパターンに対する照明光を特定の入射角度範囲の照明光に設定すると共に、特定の入射角度範囲の照明光を所定のパターンに対するＴＥ偏光に設定する。 - 特許庁

On a silicon substrate 103, the optical waveguide system has a core pattern 101, a clad band 150 along the core pattern 101, a high refractive index region 160 occupying a region of the outside of the clad band 150, and a leakage blocking band 170 for optical propagation prevention.例文帳に追加

シリコン基板１０３上に、コアパターン１０１と、コアパターン１０１に沿うクラッド帯１５０と、クラッド帯１５０の外側の領域を占める高屈折率領域１６０と、漏れ光伝播阻止用帯１７０とを有する。 - 特許庁

The peripheral part switches the change object pattern with the switching system, and if the data type shows the data for expectation value change, changes the expectation value which corresponds to the examination value shown by the change object pattern with the data for expectation value change.例文帳に追加

周辺部は変更対象パターンを切り替え方式で切り替え、前記データ種別が期待値変更用データを示す場合、変更対象パターンが示す検査値と一致する期待値を期待値変更用データで変更する。 - 特許庁

That is, for example, in the fluorescent display tube of the single matrix structure using a dual wire grid driving system, the fluorescent display tube 50 provided with the total dot pattern or the large-sized and the high density display pattern can be provided.例文帳に追加

すなわち、たとえばデュアルワイヤーグリッド駆動方式などを用いたシングルマトリクス構造の蛍光表示管において、たとえば総ドットパターンあるいは大型高密度の表示パターンを備えた蛍光表示管５０を提供することができる。 - 特許庁

To provide an exposure pattern data inspection apparatus, method and program which when a printed circuit board is produced by a direct drawing system, enable exposure pattern data for use in the direct drawing process to be accurately inspected in a shorter period of time than before.例文帳に追加

プリント基板を直描方式により製造する場合において、直描工程で使用する露光パターンデータを従来よりも短時間で正確に検査することのできる露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラムを提供すること。 - 特許庁

Summary of the life pattern on an evaluation day is carried out on the basis of the time series data on the evaluation day sent by the dwelling system 10 via the network 14, and summary of the typical life pattern is carried out.例文帳に追加

また、住居システム１０によりネットワーク１４を介して送信された評価日における時系列データに基づいて評価日における生活パターンの要約を行なうと共に導出された典型的生活パターンの要約を行なう。 - 特許庁

To accelerate a spreading code arrangement pattern specification calculation by reducing useless integration processing about a spreading code arrangement pattern specifying method in cell search processing of a W-CDMA mobile communication system, a receiving unit and a mobile station.例文帳に追加

Ｗ−ＣＤＭＡ移動通信方式のセルサーチ処理における拡散コード配置パターン特定方法、受信ユニット及び移動局に関し、無駄な積分処理を削減し、拡散コード配置パターン特定演算を高速化する。 - 特許庁

CHARGED-BEAM EXPOSURE SYSTEM, APERTURE, CHARGED-BEAM EXPOSURE METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING PHOTO MASK, METHOD AND APPARATUS OF GENERATING EXPOSURE PATTERN DATA, AND EXPOSURE PATTERN例文帳に追加

荷電ビーム露光装置、アパーチャ、荷電ビーム露光方法、半導体装置の製造方法、フォトマスクの製造方法、露光パターンデータ生成方法、露光パターンデータ生成装置、及び、露光パターンを生成するためのデータを記録した記録媒体 - 特許庁

In the system of this invention, accompaniment pattern data DAb consist of a plurality of accompaniment pattern data groups each of which includes one or more pieces of accompaniment sequence information, and are inputted together with the original melody data OMa and priority information PR.例文帳に追加

この発明のシステムでは、伴奏パターンデータＤＡｂは、１又は複数の伴奏シーケンス情報をそれぞれ含む複数の伴奏パターンデータグループで構成され、原曲データＯＭａや優先情報ＰＲと共に入力される。 - 特許庁

It comprises means 116, 117 for detecting the image of the phase pattern formed through this optical system and a means 122 for defocusing the image of the phase pattern detected in the image inspecting means.例文帳に追加

この光学系を介して形成された位相パターンの像を検出するための像検出手段（１１６、１１７）と、像検出手段において検出される位相パターンの像をデフォーカスさせるためのデフォーカス手段（１２２）とを備えている。 - 特許庁

The exercise pattern selection system selects a music category corresponding to the selected musical instrument type from a plurality of kinds of music categories, and selects the exercise pattern corresponding to the selected music category from a plurality of kinds of exercise patterns.例文帳に追加

運動パターン選択システムは、選択された楽器種別に対応する音楽ジャンルを複数種類の音楽ジャンルから選択し、選択された音楽ジャンルに対応する運動パターンを複数種類の運動パターンから選択する。 - 特許庁

This electron beam transfer and exposure method is a method wherein the worst value of the beam edge resolution 61 of an electron optical system for projecting a pattern on a reticle on a responsive substrate is 0.9 to 1.0 times wider than the narrowest line width of an electron beam in the pattern.例文帳に追加

本発明の電子ビーム転写露光方法は、レチクル上のパターンを感応基板上に投影する電子光学系のビームエッジ分解能６１の最悪値がパターン中の最小線幅の０．９〜１．０倍である。 - 特許庁

To provide a shutdown function capable of collectively turning off the power sources when a user turns off respective apparatuses to be controlled in a remote apparatus control system for detecting a user's moving pattern, transmitting the moving pattern to apparatuses and operating the apparatuses.例文帳に追加

ユーザーの動きパターンを検出し、その動きパターンを機器に発信して操作をする遠隔機器制御システムにおいて、ユーザーが各被制御機器を電源オフする際に一括に電源オフができるシャットダウン機能を備える。 - 特許庁

To provide a liquid discharge apparatus which efficiently conducts forming and reading processes of a correction pattern for correcting the deviation of a dot forming position in a main scanning direction, and to provide a pattern reading method and a liquid discharge system.例文帳に追加

主走査方向のドット形成位置のズレを補正するための補正用パターンの形成処理及び読み取り処理を効率的に行う液体吐出装置、パターン読み取り方法、及び、液体吐出システムを実現することにある。 - 特許庁

To provide a cathode ray tube adopting the AC reproduction system and capable of partial color video display by a phosphor pattern of a prescribed form that can excellently emit a desired phosphor pattern only.例文帳に追加

ＡＣ再生方式で、モノクロ表示に加えて、部分的に所定形状の蛍光体パターンによるカラー映像表示を可能にした陰極線管において、所望の蛍光体パターンのみを良好に発光させることができるようにする。 - 特許庁

To provide an inspection system capable of highly accurately determining correlation between the distribution pattern of defects in a semiconductor wafer found in a defect inspection, and the distribution pattern in a defective semiconductor chip found in an electric test, in a short time.例文帳に追加

欠陥検査で発見された半導体ウエハの欠陥の分布パターンと、電気的試験で発見された不良半導体チップの分布パターンとの間の相関関係を、極めて高い確度をもって、より高精度に短時間に行う。 - 特許庁

To provide an image printing system that performs recording control for each unit pixel without changing the positional relation between dot arrangement pattern and mask pattern even when indexing and masking are each processed independently, and to provide an image processing method.例文帳に追加

インデックス処理とマスク処理を夫々独立して実行する場合であっても、ドット配置パターンとマスクパターンの位置関係を崩すことなく、単位画素に対する記録制御が可能な画像記録システム及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁

A pattern feature extracting device 12 extracts pattern-like features regarding signal waveform and its variation from a signal showing states regarding the operation state and control contents of a controlled system read in by a signal read-in device 11.例文帳に追加

パターン特徴抽出装置１２は、信号読み込み装置１１で読み込んだ制御対象の稼働状態や制御内容に関する状態を示す信号から、信号波形やその変化に関するパターン的な特徴を計算する。 - 特許庁

This lithography device is provided with a projection system for forming the image of a pattern on a negative resist layer configured so that the pattern-formed beam can be projected to the target section of the substrate to which the negative resist layer is attached.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、さらに、パターン形成されたビームをネガ型レジスト層が付着している基板の目標部分に投影するように構成された、ネガ型レジスト層上にパターンのイメージを形成するための投影システムを備えている。 - 特許庁

An antenna pattern for receiving the electric waves which are transmitted from the IC card on a film is commonly used as a ground pattern arranged around a switch of a capacitive system for protecting the switch and the electrostatic capacity.例文帳に追加

ＩＣカードから送信された電波を受信するアンテナパターンと、静電容量方式のスイッチでスイッチおよび静電気の電気容量を防御するためにスイッチの周囲に配回したグランドパターンとをフィルム上に共有させる。 - 特許庁

To provide a pattern data collating system, capable of checking consistencies in all data including data of low possibility of being consistent, without omission and without deteriorating collation performance, even when many file pattern data are the objects.例文帳に追加

多数のファイル紋様データを対象とする場合にも照合性能を低下せしめることなしに一致性の可能性が低いデータをも漏れなく一致性のチェックを行うことができる紋様データ照合処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method of flattening a semiconductor device which can suppress irregularity in a chip while minimizing a quantity of dummy pattern insertion by removing part of a dummy pattern, and also a semiconductor device flattening system.例文帳に追加

ダミーパターンの一部を削除することにより、ダミーパターン挿入量を最小化しつつ、かつチップ内の凹凸を抑制することができる半導体装置の平坦化方法および半導体装置の平坦化システムを提供する。 - 特許庁

To realize a liquid discharging device which efficiently carries out a forming process and a reading process of a pattern for correction to correct a dot formation position deviation in a main scanning direction, to realize a pattern reading method, and to realize a liquid discharging system.例文帳に追加

主走査方向のドット形成位置のズレを補正するための補正用パターンの形成処理及び読み取り処理を効率的に行う液体吐出装置、パターン読み取り方法、及び、液体吐出システムを実現することにある。 - 特許庁

The system for noise compression is equipped with a means 2 of finding a noise average spectrum, a means 3 of finding a temporarily estimated speech from an input signal and the noise average spectrum, a standard pattern, and a means 5 of correcting the temporarily estimated speech by using the standard pattern 4.例文帳に追加

雑音平均スペクトルを求める手段２と、入力信号と雑音平均スペクトルから仮推定音声を求める手段３と、標準パタンと、仮推定音声を標準パタン４を用いて補正する手段５を備える。 - 特許庁

While a photosensitive substrate 16 placed on a substrate stage 17 is moved stepwise for a projective optical system 15, a pattern image of a mask 14 in which a required pattern is formed is successively exposed on each exposure region of the photosensitive substrate.例文帳に追加

基板ステージ（１７）上に載置された感光性基板（１６）を投影光学系（１５）に対してステッピング移動させつつ、所定のパターンが形成されたマスク（１４）のパターンの像を感光性基板上の各露光領域に順次露光する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern formation body by an ink jet system which can form a high-definition pattern and has a wide selection range of the film thickness of a functional part, and a manufacturing apparatus for the same.例文帳に追加

本発明は、高精細なパターンの形成が可能であり、機能性部の膜厚の選択範囲が広いインクジェット方式によるパターン形成体の製造方法およびその製造装置を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

In this case, the No.2 wireless slave set discriminates whether the recognition pattern sent from the master set is matches with its own recognition pattern for the 10 milliseconds and when they match, the system is started and enters a communication mode.例文帳に追加

このときに無線子機Ｎｏ．２が、上記の１０ｍｓ間に無線親機が送ってきた認識パターンと自分が保持している認識パターンとが一致するかどうかを判定し、一致すればシステムが立ち上がって通信モードに入る。 - 特許庁

To provide a pattern teaching system that can optimize a neural network while reducing the number of nodes between a middle layer and an output layer, and can thus provide high-precision pattern teaching even with reduced computational complexity.例文帳に追加

中間層と出力層との間の結合数を少なく留めつつもニューラルネットワークの最適化処理が可能であり、ひいては少ない演算量でも精度の高いパターン教示が可能となるパターン教示システムを提供する。 - 特許庁

To provide a video edition support system that provides video representation technique and support to meet the requirements of a user for a video that is newly photographed by the user, on the basis of a pattern of the video representation technique, by extracting the pattern from a video database.例文帳に追加

ビデオデータベースから映像表現技法のパターンを抽出し、そのパターンを基に、ユーザが新たに撮影するビデオに対して、表現意図にあった映像表現技法の提供、支援を行うビデオ編集支援システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method and hold path computation system for automatically generating a hold path for an aircraft flying in a holding pattern, wherein the holding pattern is defined by one or more orbits within a selectable holding area.例文帳に追加

選択可能な待機領域内で１つまたは複数の軌道により規定されるホールディングパターン中を飛行する航空機に対して、待機経路を自動的に生成するための方法、および待機経路計算システムを提供する。 - 特許庁

The out-of-focusing of the projection optical system is set as the function of a deflecting amount and the position of the pattern in a one-shot exposed area and the energy profiles DR(x) and E(x) formed on the sensitive substrate, when exposure is made by using a primary reticle pattern are calculated.例文帳に追加

投影光学系のボケを偏向量と一括露光領域内におけるパターン位置の関数として設定し、一次レチクルパターンにより露光した場合の感応基板上でのエネルギープロファイルDR(x)、E(x)を計算する。 - 特許庁