「process liquid」に関連した英語例文の一覧と使い方(86ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve productivity and reduce loss cost during a process by replacing only the minimum LEDs when a failure occurs in some of the LEDs in a backlight device illuminating from a back face side of a liquid crystal display panel.例文帳に追加

液晶表示パネルの背面側から照明するバックライト装置において、一部のＬＥＤに不良が発生したときに最小限のＬＥＤのみを交換することを可能にして、生産性の向上と工程ロス費用を低減する。 - 特許庁

Since the two end portions of the towel are in a ring status and moreover the marginal parts of the towel are converted into an obtuse angle, the soap liquid, etc. are hard to concentrate, scattering to surroundings decreases, and the cleaning of a bathroom becomes easy, furthermore resulting in the time shortening of the towel making process.例文帳に追加

タオル両端部を輪の状態に、又、タオル縁部を鈍角にするため、石鹸液等が集中しにくく、周囲への飛散が少なくなり、浴室の掃除が楽になり、さらにタオル製造過程の時間短縮につながる。 - 特許庁

To provide a purified cellulose fiber production process which can produce a regenerated cellulose fiber having the same level of strength as that of rayon using an ionic liquid having high thermal stability without producing any by-product having a high environmental load.例文帳に追加

熱安定性の高いイオン液体を用いて、環境負荷の高い副産物を生じることなく、レーヨンと同様の強度を有する再生セルロース繊維を製造することができる精製セルロース繊維の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a production method where the particle size distribution and charging properties of aggregation type polymerized toner produced by an aggregation process from a resin particle-dispersed liquid and a coloring agent particulate-dispersed material formed by aggregation polymerization are made uniform.例文帳に追加

乳化重合により形成された樹脂粒子分散液と着色剤微粒子分散物とを会合法で製造した会合型重合トナーの粒度分布や帯電特性を均一にする製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a treatment method which can prevent scale generation by a low cost and simple step without using a dephosphorization/denitrification device, in a process for treating aqueous liquid containing rich phosphorus, ammonia, and magnesium generated by culture and activated sludge treatment.例文帳に追加

培養および活性汚泥処理によって生じたリン、アンモニア、マグネシウムを豊富に含む水性液を扱う工程において、脱リン・脱窒装置を介さず、より安価且つ簡易な措置でスケール生成を防止できる処理方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter, a wet cleaning process using a cleaning liquid 17 that chemically dissolves the organic film 15 is applied to the silicon oxide film 14 to remove residuals of the organic film 15 remaining on the silicon oxide film 14.例文帳に追加

その後、シリコン酸化膜１４に対して、有機膜１５を化学的に溶解できる洗浄液１７を用いた湿式洗浄処理を行なうことによって、シリコン酸化膜１４上に残存する有機膜１５の残留物を除去する。 - 特許庁

The apparatus for the modification process is an aerosol generator 11 provided with a drying means for drying the formed aerosol particles and a nozzle-type, ultrasonic-type or other evaporator for evaporating the modifying substance dissolved in a liquid.例文帳に追加

このための装置は、形成されたエーロゾル粒子を乾燥するための乾燥手段を具えるエーロゾル発生器１１は、液体に溶けた修飾すべき物質を蒸発させるノズル型、超音波型、又はその他の蒸発器を有する。 - 特許庁

The process liquid for migration suppression layer formation contains azole compound and water, has a dissolved oxygen amount of 8 ppm, and is used to form a migration suppression layer that suppresses ion migration in copper wiring or copper alloy wiring.例文帳に追加

アゾール化合物と水とを含有し、溶存酸素量が８ｐｐｍ以下である、銅配線または銅合金配線におけるイオンマイグレーションを抑制するマイグレーション抑制層を形成するためのマイグレーション抑制層形成用処理液。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device comprises a process for cleaning a semiconductor substrate having a copper electric wiring by a cleaning liquid for the semiconductor substrate, containing a saccharide and a basic compound, having the copper electric wiring.例文帳に追加

糖類と、塩基性化合物とを含有してなる銅配線を有する半導体基板用洗浄液および当該洗浄液で銅配線を有する半導体基板を洗浄する工程からなる半導体デバイスの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an industrially economical monomer useful as a monomer for a base polymer for improving the insulation, heat resistance and substrate adhesivity of a resin for a liquid crystal device, a photoresist for a semiconductor production process, an antireflection film.例文帳に追加

本発明は、液晶デバイス用樹脂、半導体製造プロセスに用いられるフォトレジスト、反射防止膜等の絶縁性、耐熱性、基板密着性向上を目指したベースポリマー用モノマーとして、工業的に経済的なモノマーを提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing surface treated silica particles which inhibit the lowering of flowability of the obtained epoxy resin composition even when incorporated into a liquid epoxy resin composition and further can inhibit the formation of aggregation.例文帳に追加

液状のエポキシ樹脂組成物に含有させても、得られるエポキシ樹脂組成物の流動性の低下を抑制でき、さらに、凝集の発生を抑制できる表面処理シリカ粒子を製造する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The treatment method should include a pretreatment washing process 16 for washing the wafer by third washing liquid containing an amine-based compound or the amine-based compound and a surface-active agent.例文帳に追加

この特徴ある構成は、第１洗浄工程でウェーハを洗浄する前にアミン系化合物又はアミン系化合物と界面活性剤を含む第３洗浄液によりウェーハを洗浄する前処理洗浄工程１６を行うことにある。 - 特許庁

A hydrophobic liquid containing a color coupler, an aliphatic ester solvent and an aliphatic polyvalent isocyanate is emulsion-dispersed in an aqueous solution of a copolymer of an aliphatic vinyl compound and a maleic anhydride to obtain a surface polymerization process microcapsule.例文帳に追加

発色剤、脂肪族エステル溶剤、脂肪族多価イソシアネートを含む疎水性液体を、脂肪族ビニル化合物と無水マレイン酸との共重合体の水溶液中に乳化分散して界面重合法マイクロカプセルを得る。 - 特許庁

The method of forming a doped silicon film includes a first process for increasing a temperature of a liquid material containing the dopant source and higher-order silane compound from a first temperature to a second temperature under a pressurized atmosphere in a vessel.例文帳に追加

ドーパントソースと高次シラン化合物とを有する液体材料の温度を容器中で加圧雰囲気下にて第１温度から第２温度に上昇させる第１工程を含む、ことを特徴とするドープシリコン膜の製造方法。 - 特許庁

The method for purifying nitric oxide contains a process in which a raw gas containing nitric oxide, nitrogen dioxide, and water is contacted to sulfur dioxide in a gas-liquid contact vessel 1a and nitrogen dioxide is reduced to nitric oxide.例文帳に追加

本発明の一酸化窒素精製方法は、一酸化窒素、二酸化窒素および水分を含む原料ガスを、気液接触槽１ａにおいて二酸化硫黄と接触させ、二酸化窒素を一酸化窒素に還元させる工程を含む。 - 特許庁

To provide a cleaning liquid and a cleaning method for removing unnecessary solidified matter produced by antireflection agent applied during the processing process of a semiconductor wafer in manufacturing a semiconductor element.例文帳に追加

本発明は、半導体素子の製造における半導体ウエハの加工工程で、塗布される反射防止剤によって生じる、不要な固化物を除去するために用いられる、洗浄液および洗浄方法を提供するものである。 - 特許庁

This method for manufacturing the optical fiber has a heating process step of using liquid of ≤100 kPa in vapor pressure at 135°C as a heating medium and heating the optical fiber by passing the optical fiber through the inside of the heating medium.例文帳に追加

加熱媒体として１３５℃での蒸気圧が１００ｋＰａ以下である液体を用い、光ファイバを、前記加熱媒体中を通過させることにより光ファイバを加熱する加熱工程を有する光ファイバの製造方法。 - 特許庁

Corrected measured transmission speed Vc is calculated by correcting measured transmission speed Va which is ultrasonic wave transmission speed in fuel 8 calculated during liquid level detection process by fuel temperature Tf to a value at 20°C.例文帳に追加

液面検出過程で算出された燃料８中の超音波伝播速度である測定伝播速度Ｖａを、燃料温度Ｔｆにより２０℃における値に補正して補正測定伝播速度Ｖｃとして算出している。 - 特許庁

Image processing of the digital camera device 2 is to be indicated, using an operation switch constellation 14 of the viewer 1, and image data acquired by the result of the process can be displayed on the liquid crystal display unit 11 of the viewer 1 and stored in the memory 120 of the viewer 1.例文帳に追加

ビューワー１の操作スイッチ群１４を用いてディジタルカメラ装置２を撮像処理を指示し、その結果得られた画像データをビューワー１の液晶表示器１１に表示し、ビューワー１のメモリ１２０に記憶することができる。 - 特許庁

This complex mucopolysaccharide extraction process comprises the step that the skin of young pigs are minced, the step that the protein of the skin is hydrolyzed by proteolytic enzymes and the step that the skin hydrolyzate is subjected to deodorization, decoloration and separation of the liquid component with a centrifuge.例文帳に追加

子豚の豚皮をミンチする工程、アルカリ液に浸漬する工程、蛋白質分解酵素により蛋白質を分解する工程、脱臭脱色した後、遠心分離器などにより液体部分を抽出する工程を具備してなる。 - 特許庁

To provide a formation method of a thin film capable of forming a thin film at a low cost without including a complicated process by using a liquid phase film formation method, and of accurately controlling a coating area; and to provide a spacer and an image display device.例文帳に追加

液相成膜法を用いローコストで、煩雑な工程を含まず成膜を行い、かつ精度よい被覆領域の制御を行うことができる薄膜の形成方法、スペーサ及び画像表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To realize a highly fine pattern over a wide region on a large sized substrate by a method wherein the highly accurate transferring removal of a coating liquid is performed by utilizing a reversing printing process without employing a large sized highly fine removing plate.例文帳に追加

反転方式の印刷法を利用して大型サイズの高精細除去版を使用することなく、高精度で塗布液の転写除去を行なえるようにし、大型基板上の広い領域にも高精細なパターンを実現する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device which suppresses the occurrence of display deficiency due to damage to a wiring pattern of a driver circuit in a cell splitting process, and can display an image with good quality by realizing intra-plane equalization of a cell gap.例文帳に追加

セル分割工程でのドライバ回路の配線パターンの損傷による表示欠陥の発生を抑制し、またセルギャップの面内均一化を達成して品質の良好な画像表示を可能とした液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electro-optical device, a method for manufacturing the electro-optical device and electronic equipment for preventing ACF from being left on a substrate as much as possible without having any adverse influence of heat on a liquid crystal device in a repair process.例文帳に追加

リペア工程において、液晶装置に熱の悪影響を及ぼすことなく、基板上にＡＣＦが極力残らないようにすることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器を提供すること。 - 特許庁

Since the grayscale characteristic can be individually adjusted for each color without adjusting the grayscale characteristic of the coloring section for each color in manufacturing process, the liquid crystal panel is adaptive to grayscale characteristic which is different for each color without lowering yield.例文帳に追加

製造工程などで着色部の色毎に階調特性を調整することなく色毎の階調特性を個々に調整可能となり、歩留まりを低下させることなく色毎に異なる階調特性に対応できる。 - 特許庁

To provide a liquid developer excellent in heat resistant stability, and capable of fixing a toner image on a recording material under a temperature not wreaking thermal damage upon a component inside an image forming device, and to provide a preparing process for the developer.例文帳に追加

耐熱安定性に優れるとともに、画像形成装置内部品に熱的ダメージを与えない温度下で記録材にトナー像を定着させることができる電子写真用液体現像剤及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a good compact with thickness as a designed value, by monitoring continuously, temporarily and correctly impregnation of liquid object and forming regimes of a fiber-reinforced substrate formed through thermoset process in forming of FRPs.例文帳に追加

ＦＲＰの成形において、液状体の含浸、及び、熱硬化過程を経て成形される繊維強化基材の成形状況を経時的に正確に連続モニタリングし、設計値どおりの厚さの、良好な成形体を得ること。 - 特許庁

In the first process, the object is irradiated with the high-frequency ultrasonic waves to generate and grow bubbles or a bubble group in a limited area of the liquid present at least partly in the periphery of the object.例文帳に追加

第１工程において、高周波数の超音波を対象物に向けて照射して、当該対象物の周囲の少なくとも一部に存在する液体の限定的な領域中に気泡もしくは気泡群を発生及び成長させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of liquid crystal device which makes surface treatment of an inorganic alignment layer possible without using higher alcohol and without performing a surface treatment process and permits reduction of material expenses and a product cost through simplification of manufacturing processes.例文帳に追加

高級アルコールを用いることなく、又表面処理工程を実行することなく、無機配向膜の表面処理を可能とし、材料費の低減、及び製造工程の簡素化による製品コストの低減を実現する。 - 特許庁

To provide a purifying method of a boron eluting solution containing an acid group, which has a simple process and low equipment cost and is capable of obtaining a high purity boric acid solution with the decrease of the lowering of the boron concentration in a treating liquid and the high recovery of boron.例文帳に追加

工程が簡単で、設備費も安く、高純度のホウ酸溶液を処理液のホウ素濃度低下を少なくし、且つホウ素回収率も高い状態で得るための酸根を含有するホウ素溶離液の精製方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, in fabricating the semitransmissive liquid crystal display, the fabricating method includes a step for forming a projecting and recessing structure without especially increasing the number of patterning steps only for the purpose of forming the projecting and recessing structure in the manufacturing process.例文帳に追加

さらに半透過型の液晶表示装置を作製するにあたり、その製造プロセス中において、凹凸構造を形成するためだけのパターニング工程を特に増やすことなく、凹凸構造を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The CMP process polishing liquid is used, which consists of abrasives (A), having a 1 to 95 nm volume mean particle size (D) and containing ≤10 particles of ≥0.56 μm in diameter per 1 ml, and water.例文帳に追加

１ｎｍ以上９５ｎｍ以下の体積平均粒径（Ｄ）を有し、直径０．５６μｍ以上の粒子数が１ｍｌあたり１０万個以下である研磨材（Ａ）と水とからなることを特徴とするＣＭＰプロセス用研磨液を用いる。 - 特許庁

To effectively prevent deterioration of image display quality in the vicinity of a sealant pattern 3 and to suppress a burden on a manufacturing process and the raising of the cost in a method for manufacturing a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶表示装置の製造方法において、シール材パターン３の近傍で画像表示品位が低下することを効果的に防止することができ、しかも、製造工程負担及びコストの増加を招くことがないものを提供する。 - 特許庁

To reduce the amount of sludge to be reformed while keeping a high aerobic digestion rate of the sludge and to decrease the cost for modifying in the process of digesting and decomposing excess sludge produced by biological treatment of organic waste liquid to reduce the volume.例文帳に追加

有機性排液の生物処理で発生する余剰汚泥を消化分解して減容化するに当たり、高い汚泥の好気性消化率を維持した上で改質処理する汚泥量を削減し、改質処理コストを低減する。 - 特許庁

The method for selectively separating free astaxanthin from Haematococcus pluvialis includes a process (first process) for obtaining an alkane-based solvent extract containing astaxanthin materials such as free astaxanthin, astaxanthin esters and the like by mixing and agitating a cell culture liquid containing Haematococcus pluvialis with the alkane-based solvent and a process (second process) for obtaining an alcohol extract containing free astaxanthin by mixing and agitating the alkane-based solvent extract with alcohol.例文帳に追加

本発明によれば、緑藻類からフリーアスタキサンチンを選択的に分離する方法に関し、より具体的には、ヘマトコッカスプールビアリースを含む細胞培養液をアルカン系溶媒と混合及び攪拌してフリーアスタキサンチン及びアスタキサンチンエステルなどのアスタキサンチン物質を含むアルカン系溶媒抽出物を得る段階と（第１段階）、及びアルカン系溶媒抽出物をアルコールと混合及び攪拌してフリーアスタキサンチンを含むアルコール抽出物を得る段階（第２段階）を含む、ヘマトコッカスプールビアリースからフリーアスタキサンチンを選択的に分離する方法が提供される。 - 特許庁

This method for treating flying-ash leachate includes a process 21 of precipitating Pb components dissolved in the leachate by a coprecipitation effect with heavy metal salts by adding a heavy metal containing solution 17 dissolving heavy metals to the flying-ash leachate 12 dissolving Pb components and a process 22 of solid-liquid separation of coprecipitated precipitates 24.例文帳に追加

本発明の飛灰浸出水の処理方法は、Ｐｂ成分が溶解している飛灰の浸出水１２に重金属が溶解している重金属含有溶液１７を添加して重金属塩との共沈効果により浸出水に溶解しているＰｂ成分を沈殿させる工程２１と、共沈させた沈殿物２４を固液分離する工程２２とを含む。 - 特許庁

To provide a method capable of preventing the occurrence of resist pattern collapse caused in accordance with miniaturization of the size of a pattern upon development processing of a resist film after exposure, which is formed on the surface of a substrate and having no risk of bringing bad affection to an after process, while eliminating the deterioration of liquid heaping property of a developer on the resist film in a development process.例文帳に追加

基板の表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理するときに、パターン寸法の微細化に伴って起こるレジストパターン倒壊の発生を防止することができ、後工程に悪影響を及ぼす心配が無く、現像プロセスにおいてレジスト膜上への現像液の液盛り性が悪くなることもない方法を提供する。 - 特許庁

In the print process of an ink jet printer, a second voltage pulse is applied to a different pressure generating means for every print process rather than a first voltage pulse is applied to a pressure generating means depending on the recording content to eject ink liquid from a nozzle and a second pulse is applied to all other pressure generating means.例文帳に追加

インクジェットプリンタの印刷工程において、記録内容に応じて圧力発生手段に第１の電圧パルスが印加し、ノズルからインク液滴を吐出すると共に、それ以外の圧力発生手段全てに第２のパルスを印加するのではなく、印刷工程毎に異なる圧力発生手段に、第２の電圧パルスを印加する。 - 特許庁

(1) The process of selectively lowering a mechanical strength of the ink repellent layer 2 around the ink ejection ports by filling a treatment chemical liquid 3 to the ink ejection ports 1a, and (2) the process of selectively removing the ink repellent layer 2 around the ink ejection ports which is a part selectively decreased in mechanical strength, by using a mechanical removing means.例文帳に追加

(１)前記インク吐出口１ａに処理薬液３を充填することによって、インク吐出口の周囲の撥インク層２の機械的強度を選択的に低下させる工程と、(２)機械的な除去手段を用いて、機械的強度を選択的に低下させた部分であるインク吐出口の周囲の撥インク層２を選択的に除去する工程。 - 特許庁

The inkjet recording method includes: a process for attaching a pretreatment liquid containing a monohydric alcohol on to a recording medium; and a process for forming an image on the recording medium by an inkjet recording method using an inkjet aqueous ink containing at least one member selected from the group consisting of glycerin, diglycerin, and polyglycerin, a polyalkyleneglycol monoalkyl ether, and water.例文帳に追加

１価アルコールを含む前処理液を記録媒体に付着させる工程；および顔料と、グリセリン、ジグリセリンおよびポリグリセリンのうちの少なくとも１種と、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルと、水とを含むインクジェット用水性インクを用いて、インクジェット記録法により前記記録媒体に画像を形成する工程；を含むインクジェット記録方法。 - 特許庁

A drive waveform being applied to a piezoelectric actuator 7 has a first voltage variation process 51 for expanding the volume of a pressure generating chamber 1 to pull a meniscus 9 at the nozzle part to the pressure generating chamber 1 side, and a second voltage variation process 52 for expanding the volume of the pressure generating chamber 1 to eject a liquid drop 8.例文帳に追加

圧電アクチュエータ７に印加される駆動波形は、圧力発生室１の体積を膨張させてノズル部のメニスカス９を圧力発生室１側に引き込むための第１電圧変化プロセス５１と、次いで圧力発生室１の体積を収縮させて液滴８を吐出させるための第２電圧変化プロセス５２とを有する。 - 特許庁

When a two-staged liquid phase oxidation is carried out with molecular oxygen in the presence of bromine or a catalyst consisting of bromine and a heavy metal at 180-280°C in an aqueous solvent, the first stage is carried out in a continuous process and the second stage is carried out in a continuous or batch process, and the bromine is dividedly added to the first stage and the second stage.例文帳に追加

水溶媒中で１８０〜２８０℃の温度において、臭素または臭素と重金属からなる触媒の存在下、分子状酸素によって２段階で液相酸化する際に、第１段階を連続式で行ない、第２段階を連続式または回分式で行ない、臭素を第１段階と第２段階に分割して添加する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition used in a process for manufacturing a semiconductor such as IC, in manufacture of a circuit substrate of a liquid crystal, a thermal head or the like, and further in another photofabrication process and a pattern forming method using the same, and to provide a photosensitive composition excellent in resolution and line edge roughness and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、解像力、ラインエッジラフネスに優れた感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

The process for producing the porous polyimide film is characterized by including a process for forming a coating film using a coating liquid containing (a) a polyimide precursor obtained by reacting a tetracarboxylic acid anhydride with a diisocyanate compound and/or (b) a polyimide fine particle obtained by carrying out imidation of the precursor.例文帳に追加

多孔性ポリイミド膜を製造する方法であって、(a)無水テトラカルボン酸とジイソシアネート化合物とを反応させて得られるポリイミド前駆体及び／又は(b)その前駆体をイミド化することにより得られるポリイミド微粒子を含むコーティング液を用いて塗膜を形成する工程を有することを特徴とする多孔性ポリイミド膜の製造方法に係る。 - 特許庁

To provide a waste water treatment method for treating waste water containing fluoride ions discharged from a semiconductor manufacturing process or a liquid crystal display manufacturing process without using a chemical agent or using a minimum amount of the chemical agent to obtain waste water free from fluoride ions and capable of recovering fluoride ions as hydrofluoric acid in a factory.例文帳に追加

半導体製造工程や液晶ディスプレイ製造工程等から排出されるフッ化物イオンを含有する排水を薬剤を使用することなく、あるいは最小限の使用により処理して、フッ化物イオンが除去された排水を得ると共に、フッ化物イオンをフッ化水素酸として工場内回収できる排水処理方法を提供すること。 - 特許庁