「process processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(127ページ目) - Weblio英語例文検索

An apparatus for information processing has a CPU (Central Processing Unit) 201 acquires information about the archived files as a whole, among specifically configured archived files stored into an external storage 209 and information on resource data included in the archived files, where the CPU 201 acquires additional information necessary to process the resource data for setting the resource data.例文帳に追加

ＣＰＵ２０１は、外部記憶装置２０９に格納される特定構造のアーカイブファイル中からアーカイブファイルの全体に関する情報を取得するとともに、該アーカイブファイルに含まれるリソースデータの情報を取得し、さらに、該リソースデータを処理する為に必要な追加情報を取得してリソースデータを設定する構成を特徴とする。 - 特許庁

The design support system includes a know-how registration and application means for applying technologies corresponding to new technologies or know-hows invented by designers in a design process to evaluate them, a know-how retrieval/determination processing means for retrieving applied new technologies or know-hows and registering evaluation results, and a notification processing means for notifying evaluation results.例文帳に追加

設計の過程において設計者が考案した新技術又はノウハウに相当する技術を評価のため申請するノウハウ登録申請手段と、申請された新技術又はノウハウを検索し、評価結果を登録するノウハウ検索・判定処理手段と、評価結果を伝える通知処理手段を含んで設計支援システムを構成する。 - 特許庁

A halftone processing means 24 for carrying out a halftone process selects a quantization threshold value depending on whether object type information of a target pixel stored in an object type information memory 23 emphasizes the sharpness or the granularity and the gradation and carries out quantization processing by taking a quantization error from pixels around the target pixel into account.例文帳に追加

中間調処理手段２４における中間調処理では、オブジェクト種類情報メモリ２３に記憶されている注目画素のオブジェクト種類情報が鮮鋭性を重視するか、または粒状性・階調性を重視するかに応じて量子化閾値を切り替えるとともに、注目画素周辺画素からの量子化誤差を加味した量子化処理を行なう。 - 特許庁

In the beginning when the substrate W has been carried in a processing chamber 12 of a washing process part 10, the rinsing liquid is supplied from an entrance nozzle 20 and an upper spray nozzle 22 to the substrate, and after that, the rinsing liquid is supplied from the upper spray nozzle 22 and a lower spray nozzle 24 to the substrate until the substrate is carried out of the processing chamber 10.例文帳に追加

基板Ｗが水洗処理部１０の処理チャンバ１２内へ搬入されてきた当初においては入口ノズル２０と上部スプレイノズル２２とからリンス液を基板へ供給し、それ以後、基板が処理チャンバ１０内から搬出されるまでは上部スプレイノズル２２と下部スプレイノズル２４とからリンス液を基板へ供給する。 - 特許庁

To enhance efficiency in a production process of an RF-ID product, to minimize facility installation and to reduce costs for maintaining the facility, etc., regarding a method and a system for inspecting and processing the RF-ID for inspecting quality of the RF-ID and for processing an inlet part of the RF-ID when the RF-ID is produced.例文帳に追加

本発明は、ＲＦ−ＩＤが製造される際に、当該ＲＦ−ＩＤの良否を検査し、ＲＦ−ＩＤのインレット部分の加工を行うＲＦ−ＩＤの検査加工方法、検査加工システムに関し、ＲＦ−ＩＤ製品の製造過程での効率向上を図ると共に、設備設置の縮小化、設備維持等の低コスト化を図ることを目的とする。 - 特許庁

When the data received from the reception processing device 6 are to be processed by themselves, the information processing means 10, 20, and 30 prepare display screen data transmitted to a security center device of a corresponding security entrusted institution to be transmitted to the concerned security center device, and process for storing the data by a predetermined form in database devices 12, 22, and 32.例文帳に追加

情報処理手段１０、２０、３０は、受信処理装置６から受けたデータが自己が処理すべきものである場合には、対応する警備受託機関の警備センタ装置に送信する表示画面のデータを作成して当該警備センタ装置に送信すると共に、そのデータを所定の形態でデータベース装置１２、２２、３２に記憶する処理を行う。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus having a wafer support base adopting an electrostatic chuck system provided with a means for measuring the charged state of a wafer after plasma processing without causing defects in the process characteristics.例文帳に追加

従来の静電チャック方式のウェハ支持台上のウェハの帯電状態を測定する真空処理装置は電位センサを半導体ウェハの近傍に設置する構成であるため、電位センサ自身もエッチングされ、エッチングレート値や面内傾向特性に影響を与えると共に、このエッチングによってパーティクルを増加させる等のプロセス特性上の不具合が発生する。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus provided with a transmission line for transmitting high frequency power of large power which is stably phase controlled for an electrode installed in a vacuum chamber, especially to carry out a film manufacturing process for a large area substrate using plasma, and to provide a high frequency power supplying method in the vacuum processing apparatus.例文帳に追加

本発明の目的は、特にプラズマを用いて大面積基板に対して製膜処理を行うために真空室内部に設置される電極に対して安定的に位相制御された大電力の高周波電力を伝送する伝送線路を備えた真空処理装置、真空処理装置における高周波電力供給方法を提供することである。 - 特許庁

Even though deceleration processing and acceleration processing are repeated in the process of maintaining a vehicle speed in this way, this repeating can be stopped at an earlier stage than when the intervention of the deceleration increase control is allowed, for example, during the vehicle speed adjustment control so that the fluctuations in a vehicle speed and torque can be converged in a short period of time.例文帳に追加

これにより、車速を維持する過程において減速処理と加速処理とを繰り返すようになるものの、その繰り返しを、例えば車速調節制御中に減速度増加制御の介入を許容する場合に比べて早期に終了することが可能になって、車速やトルクの変動を短期間で収束することが可能になる。 - 特許庁

This graphic object processor performing a prescribed process with respect to an attribute of a graphic object so as to form a raster pixel image has: a plurality of processing means performing a plurality of processes related to an arbitrary attribute of the graphic object; and a bus access arbitration means arbitrating bus access from the respective processing means.例文帳に追加

本発明は、ラスター画素イメージを形成するべくグラフィックオブジェクトの任意の属性に関して所定の処理を行うグラフィックオブジェクト処理装置であって、前記グラフィックオブジェクトの任意の属性に関する複数の処理を行う複数の処理手段と、前記複数の処理手段のそれぞれからのバスアクセスを調停するバスアクセス調停手段と、を備える。 - 特許庁

In the case of viewing reservations whose times overlap with one another, when broadcasting start times of reserved programs are detected, video processing circuits 5a and 5b process video signals of respectively-selected programs, and an image compositing and switching circuit 6 performs composite processing of the respective programs independently or by dividing the programs into right and left or the like to display the programs on a monitor screen 7.例文帳に追加

時間が重複した視聴予約の場合、予約番組の放送開始時間が検出されると、映像処理回路５ａ，５ｂがそれぞれの選局された番組の映像信号を処理して、画像合成切換回路６でそれぞれの番組を単独で、又は左右に分割するなどの合成処理をしてモニタ画面７に表示する。 - 特許庁

The processing method for a chemical-less negative lithographic printing plate is characterized in that a chemical-less negative lithographic printing plate including a hydrophilic layer, an image forming layer containing a photosensitive polymer, and an over layer, at least in this order on a plastic film substrate is subjected to a developing process with a chemical-less processing liquid in the presence of a chelating agent.例文帳に追加

プラスチックフィルム支持体上に、親水性層と、感光性ポリマーを含有する画像形成層、更にオーバー層を少なくともこの順に有するケミカルレスネガ型平版印刷版の処理方法において、ケミカルレス処理液による現像処理をキレート剤の存在下で行うことを特徴とするケミカルレス平版印刷版の処理方法。 - 特許庁

By multiplexing of operation codes and reversal process of operands, in instruction transfer from a ROM 500, before and after the transfer, bit transition ratios between the operation codes and between the operands generated at pipeline processing within an instruction decoder 400 is lowered to enable lowering of the operation transition probability of the circuits relating to the pipeline processing within the instruction decoder 400.例文帳に追加

オペレーションコードの多重化とオペランドの反転処理により、ＲＯＭ５００からの命令移行時に、その移行前後で、命令デコーダ４００内でパイプライン処理の際に生成されるオペレーションコード相互、およびオペランド相互のビット遷移率を低くして、命令デコーダ４００内のパイプライン処理に関わる回路の動作遷移確率の低減を可能にする。 - 特許庁

To provide a multimedia terminal system for customer member, which permits a customer member himself to operate and process the reception processing procedure of reserve, and the processing procedure of the reception of the note of a gift coupon at the time of expiration on service to the customer member such as what is called member service practiced in a department store and the like.例文帳に追加

百貨店等で行われているいわゆる友の会サービス等の顧客会員向けサービスに関して、積立金の入金処理手続きや、満期時における商品券等の金券の受け取り処理等の処理手続きを、顧客会員自身で操作し処理することを可能とした顧客会員向けマルチメディア端末システムを提供するものである。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus in which component consumption cost is reduced by prolonging the lifetime of an electrode member composing a lower electrode and contamination on the inside of the apparatus due to adhesion of scattering matters can be prevented, and to provide an electrode member for the plasma processing apparatus, a process for producing the electrode member and a method for recycling it.例文帳に追加

下部電極を構成する電極部材を長寿命化して部品消耗コストを低減するとともに、飛散物付着による装置内部の汚染を防止することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理装置用の電極部材ならびに電極部材の製造方法およびリサイクル方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

While a reception time of the top service request is before the start of a predetermined time to process the same service schedule 126 next (ST204; YES), a service providing unit 128 carries out processing of the top service request, repeats processing to delete the processed service request from the top of the service schedule 126 and transmits MBMS data (ST205, ST206).例文帳に追加

サービス提供部１２８は、先頭のサービスリクエストの受信時刻が、同じサービススケジュール１２６を次回処理する所定時間の開始前である間は（ＳＴ２０４；ＹＥＳ）、先頭のサービスリクエストの処理を実行してサービススケジュール１２６の先頭から処理したサービスリクエストを削除する処理、を繰り返し、ＭＢＭＳデータを送信する（ＳＴ２０５、ＳＴ２０６）。 - 特許庁

This data transfer controller 30 includes: a serial data processing part 32 transferring serial data via a serial bus; a parallel data processing part 34 performing a data transfer process for parallel data into which the serial data are converted; a transfer mode detection part 36 detecting a data transfer mode of the serial bus; and a clock generation part 38 generating an operation clock supplied to each part.例文帳に追加

データ転送制御装置３０は、シリアルバスを介してシリアルデータを転送するシリアルデータ処理部３２と、シリアルデータを変換したパラレルデータのデータ転送処理を行うパラレルデータ処理部３４と、シリアルバスのデータ転送モードを検出する転送モード検出部３６と、各部に供給される動作クロックを生成するクロック生成部３８とを含む。 - 特許庁

To sequentially process Doppler data which is input before a track decision processing operation is executed, to remove a superposed error signal, to decide a track by one processing operation and to decide the track in real time regarding a Doppler data processor which removes an error in the Doppler data due to the spin of a moving body and regarding a recording medium.例文帳に追加

本発明は、移動体のスピンに伴うドップラデータの誤差を除去するドップラデータ処理装置および記録媒体に関し、軌道決定処理の実行前に、入力されたドップラデータから逐次処理して重畳誤差信号を除去して軌道決定を１回の処理で済ませ、リアルタイムに軌道決定を可能にすることを目的とする。 - 特許庁

The plasma processing device guides the microwaves M transmited inside a wave guide 3 from first and second slot antennas provided to a magnetic field surface H, forms a surface wave S, produces surface wave excitated plasma P by exciting process gas inside a chamber 4 by the surface wave S and processes a processing object by the plasma P.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、導波管２内を伝播するマイクロ波Ｍを磁界面Ｈに設けられた第１および第２のスロットアンテナからマイクロ波導入窓３に導き、表面波Ｓを形成し、表面波Ｓによってチャンバー４内のプロセスガスを励起して表面波励起プラズマＰを生成し、このプラズマＰにより被処理物を処理する。 - 特許庁

In solenoid output processing, a CPU for controlling display controls a game presentation device in accordance with contents of a movement control execution table set at the first of process data so that movement based on advance notice presentation determined already in continuous advance notice presentation selection processing is executed when a timer for determining advance notice start time is out.例文帳に追加

ソレノイド出力処理において、表示制御用ＣＰＵは、予告開始時間決定用タイマがタイムアウトしていたら、連続予告演出選択処理にて既に決定されている予告演出にもとづく動作が実行されるように、プロセスデータの最初に設定されている動作制御実行テーブルの内容に従って、遊技演出装置を制御する。 - 特許庁

A dot processing arithmetic process 200 determines a reference address of a threshold matrix and stores the reference address to a threshold matrix storage section 210 on the basis of the accumulation result of the phase differences as to each of the main scanning direction and the subscanning direction, and a comparison processing section 220 reads the threshold of the reference address from the threshold matrix and compares the threshold with the signal strength of a target pixel.例文帳に追加

網点化演算処理２００は、主走査方向および副走査方向のそれぞれについての位相の差分の累積結果に基づいて閾値マトリクスの参照アドレスを決定して閾値マトリクス記憶部２１０に記憶し、比較処理部２２０は、参照アドレスの閾値を閾値マトリクスから読み出し注目画素の信号強度と比較する。 - 特許庁

NC data conversion for surface processing can be directly conducted not via APT (automatically programmed tool) by structuring a curved surface patch with four endpoints and four curved lines of a shape process theory used for CAD image creation, creating unlimited number of surfaces without changing dot data by applying A and B parameter signal values to these four endpoints, and programming to text data in NC data creation for surface processing.例文帳に追加

面加工用ＮＣデータ作成に、ＣＡＤ作画に用いている形状処理理論の４端点４曲線で曲面パッチを構成し、この４端点にＡとＢパラメータ信号値をあやつる事で点データを変えずに無限数の面が創製出来これをテキストデータのプログラム化することで、ＡＰＴを介さず直接面加工用ＮＣデータ変換が出来る。 - 特許庁

The process management system comprises an end time detection means detecting the work end time of each device; a priority determination means determining the priority of processing of each lot; and an arithmetic processing means calculating a work start time in each device based on the work end time and the priority.例文帳に追加

工程管理システムに、装置の作業終了時刻を検出する終了時刻検出手段と、各ロットの処理の優先順位を決定する優先順位決定手段と、作業終了時刻および優先順位に基づいて、各装置における作業開始時刻を計算する演算処理手段とを備えることにより達成される。 - 特許庁

To provide a heating amount setting device for a cooker capable of properly executing the other process by preventing the disadvantage applying the bad influence on the other processing by executing the processing to adjust the heating amount, though the heating amount is adjusted by using an encoder outputting a pair of pulse signals in accompany with the rotating operation.例文帳に追加

回転操作に伴って一対のパルス信号を出力するエンコーダを用いて加熱量を調整するようにしたものでありながら、加熱量調整用の処理を実行することによって他の処理に悪影響を与える不利を回避して、他の処理を適正に実行することが可能となる調理器用の加熱量設定装置を提供する。 - 特許庁

To provide an aqueous lubricant for aluminum or aluminum alloy metal processing that can process aluminum or aluminum metal alloy by applying the lubricant oil only to the substrate in no need of application to the mold frame in the plasticity processing, in addition can efficiently produce the thermally processed products of high adhesion and lubricity, even when these products do not undergo conversion coating treatment especially.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金の熱間塑性加工において、金型ではなく被加工物にのみ潤滑処理するだけで、しかもアルミニウムに化成皮膜処理を別途施さなくとも、密着性及び潤滑性に優れた熱間加工品を効率よく製造し得るアルミニウム又はアルミニウム合金の熱間加工用水系潤滑剤を提供する。 - 特許庁

If chipping is suppressed as described, there is no need to round the cutter tip by a chamfering process such as lapping, honing, etc., it is possible to stabilize the machining performance, secure the prescribed sharpness in cutting, enhance the strength of the cutter tip, and also enhance the processing efficiency by heightening the processing conditions including cut in depth, feeding speed, etc.例文帳に追加

そして、このように刃欠けが抑制されると、ラップやホーニング等によるチャンファー処理で刃先を丸くする必要がないため、切削性能が安定するとともに、所定の切れ味を確保することが可能で、刃先強度が向上することと相まって、切込み寸法や送り速度等の加工条件を上げて加工能率を向上させることができる。 - 特許庁

Water vapor generated at a depression and solidification process, terephthalic acid, mixed gas such as water insoluble gas are treated at a terephthalic acid removing device 6a of gas a processing part, a cooler 6c, and the like, and while oil OL is extracted in a separation tank 7, a water insoluble gas G2 is ejected out of the system after deodorization processing is carried out with a deodorization vessel 8.例文帳に追加

一方圧縮固化工程で発生した水蒸気、テレフタル酸、非水溶性のガス等の混合気体は気体処理部のテレフタル酸除去装置６ａ、冷却器６ｃ等において処理され、分離槽７において油分ＯＬが抽出されると共に非水溶性ガスＧ２は脱臭器８で脱臭処理された後系外に排出される。 - 特許庁

Further, a rubber thread end processing means 2 for wrapping the initial ends of the rubber threads on the core ball and a rubber thread terminal processing means 3 for stopping the terminals of the rubber threads at a bobbin core after ending of winding process of the rubber thread are arranged on the inner areas N of the plurality of thread winding means 1 so as to respectively face the adjacent thread winding means 1.例文帳に追加

さらに、糸ゴムの端初を芯球に巻付ける糸ゴム端初処理手段２と、糸ゴムの巻付工程終了後の糸巻コアに糸ゴムの端末止めを行う糸ゴム端末処理手段３とを、隣接する糸巻手段１，１に夫々対向するように上記複数の糸巻手段１…の内側域Ｎに配設する。 - 特許庁

If the number of sheets of paper to be transported from the image forming device body 1 and the paper insertion device 3 to the post-processing device 2 is one, even in the case that the staple process mode is selected, a sub-tray 26 is set as a transport target of the paper by a flap 24 and the paper is not transported to a processing tray 22 and is not stapled.例文帳に追加

ステープル処理が選択入力された場合であっても、画像形成装置本体１及び用紙差し込み装置３から後処理装置２に搬送される用紙が１枚であるときは、フラップ２４によって用紙の搬送先をサブトレイ２６として、用紙を処理トレイ２２に搬入せず、ステープル処理を行わないようにする。 - 特許庁

A control rule determination section 150 decides the size of the message queue 130, and the number of parallel processing of the thread 142 so as to satisfy the service quality condition based on a retaining period of a message queue of the process request message, a processing volume in the server calculated in the message weight calculation section 121 and the service quality requirement stored in a service quality performance storage section 160.例文帳に追加

制御ルール決定部１５０は、処理要求メッセージのメッセージキュー滞留時間と、メッセージ重み計算部１２１で計算されたサーバでの処理量と、サービス品質性能保管部１６０の保管されたサービス品質要件とに基づいて、サービス品質要件を満たすように、メッセージキュー１３０のサイズと、スレッド１４２の並列処理数とを決定する。 - 特許庁

When the determination unit determines that the processing device is in an idle state in which no process is executed and a predetermined condition is not met, the control unit registers the interruption request received by the reception unit in the storage unit, and controls the transmission unit to transmit the interruption request stored in the storage unit to the processing device when the predetermined condition is met.例文帳に追加

制御部は、判定部により、処理装置が処理を実行していないアイドル状態であると判定され、所定の条件が成立しない場合は、受信部で受信した割り込み要求を記憶部に登録し、所定の条件が成立したときに、記憶部に記憶された割り込み要求を処理装置へ送信するように送信部を制御する。 - 特許庁

The video display apparatus is provided with: a selector 14 for selecting a video signal to be displayed on a screen from a received broadcast signal; a video processing means for executing a prescribed video process for the selected video signal; and a display control means for controlling the video signal subjected to the video processing to be displayed on the screen by a line sequential operation.例文帳に追加

受信放送信号から画面上に表示すべき映像信号を選択するセレクタ１４と、選択された映像信号に対し所定の映像処理を実行する映像処理手段と、映像処理した映像信号を線順次操作によって画面上に表示するよう制御する表示制御手段とを備える。 - 特許庁

To enable a terminal which operates a common file to quickly let a terminal of a next processor of completion information of a previous work and to enables a group work little in processing stop by setting terminal information of the previous work and the next work in the common file in the job in which a non-routine job and a processing process are short.例文帳に追加

本発明の目的は、非定型業務および処理過程の短い業務において、共有ファイルに先行作業と次作業の端末情報を設定しておくことにより、その共有ファイルを操作した端末が、先行作業の完了情報を迅速に次処理者の端末に知らせ、処理停滞の少ない共同作業を可能にすることにある。 - 特許庁

When component mounting is not completed in a component adsorption processing or a component mounting processing, a CPU informs the electronic component mounting device in a downstream process of information that component mounting is not completed in accordance with a substrate identification number or information is stored in an external storage region.例文帳に追加

ＣＰＵは、部品吸着処理または部品装着処理で、部品装着が完了しなかったときに、下流工程にあたる電子部品装着装置に、基板識別番号と対応付けて、部品装着が完了しなかった旨の情報を、それ以降の工程の電子部品装着装置に通知する、あるいは、外部の記憶領域に記憶する。 - 特許庁

When the first data does not conform to a data format specified by a software interface of the auxiliary operation processing part, the operation processing part exerts control to generate second data obtained by carrying out a process to the first data so as to conform to the data format, and store the generated second data in a data table provided in the second memory.例文帳に追加

前記第１のデータが前記補助演算処理部のソフトウェアインタフェースで規定されたデータ形式に適合していない場合、前記演算処理部は、前記データ形式に適合するように前記第１のデータに処理を施した第２のデータを生成し、前記生成された第２のデータを前記第２のメモリに備えたデータテーブルに記憶するように制御する。 - 特許庁

To provide a tape for wafer processing as an adhesive tape for surface protection that can secure processing precision of a wafer while relieving stress during grinding to some extent in a back grinding process, makes wafer warpage small after the back grinding, and less shrinks even when receiving a thermal history in various heating processes after grinding to give no damage to the wafer having been made thin.例文帳に追加

本発明はバックグラインディング工程において研削時の応力をある程度緩和しつつウエハの加工精度も確保することができ、バックグラインディング後のウエハ反りが小さく、研削後の各種加熱工程での熱履歴を受けても収縮が小さく薄化したウエハへのダメージがない表面保護用粘着テープとして好適なウエハ加工テープを提供する。 - 特許庁

To obtain a decomposition processing method and apparatus wherein an exhaust gas after decomposition process is not high in temperature, and an undecomposed ethylene oxide is not discharged outside a system even if the exhaust gas containing a high concentration ethylene oxide may flow into a decomposition processing means for some reason, when the exhaust gas containing ethylene oxide discharged from a sterilization device or the like is decomposed.例文帳に追加

滅菌装置などからのエチレンオキサイドを含む排ガスを分解処理する際、分解処理後の排出ガスが高温になることがなく、何らかの理由により高濃度のエチレンオキサイドを含む排ガスが分解処理手段に流入しても未分解のエチレンオキサイドが系外に排出されることがない分解処理方法および装置を得る。 - 特許庁

The photo print providing method includes: an edit menu layout selection process for selecting a prescribed edit menu among multiple kinds of edit menus; and edit processing for displaying the edit menu selected in the edit menu layout selection processing on a tablet display apparatus 13 to allow a user 15 to execute graffiti entries.例文帳に追加

本発明の写真プリント提供方法は、複数種類の編集画面の中から所定の編集画面を選択する編集画面レイアウト選択処理と、編集画面レイアウト選択処理において選択された編集画面を上記タブレットディスプレイ１３に表示し落書き入力をユーザ１５に実行させる編集処理とを備える。 - 特許庁

The two or more types of process chambers are used to deposit the one or more silicon-containing layers and the one or more metal-containing layers in the same substrate processing system without breaking the vacuum, taking the substrate out of the substrate processing system to prevent surface contamination, oxidation, etc., such that additional cleaning or surface treatment steps can be eliminated.例文帳に追加

２つ以上のタイプの処理チャンバは、真空を破ることなく、基板処理システムから基板を取り出して、同一の基板処理システムで１つ又は複数のシリコン含有層及び１つ又は複数の金属含有層を蒸着するために使用され、表面汚染、酸化などを防ぎ、別の洗浄や表面処理ステップを排除することができる。 - 特許庁

Output signals which are same or different in number from a plurality of input signals are generated by mixing the plurality of input signals by making a signal processing means having a structure specified for matrix operation between an input matrix where the inputted signals are arranged and a mixer conversion matrix after calculations of respective elements, process matrix processing for the matrix operation.例文帳に追加

入力された入力信号を並べた入力行列と各要素を算出後のミキサ変換行列との行列演算を、行列演算に特化した構造を持つ信号処理手段に演算処理させることにより、複数の入力信号をミキシングして同数又は異なる数の出力信号を生成するようにした。 - 特許庁

For an X-ray image data after being subjected to spatial filter processing and the original X-ray image, identical tone conversion process are made according to the input levels of each original X-ray image data, one of both X-ray image data processed by the tone conversion processing is subtracted from the other, and the subtraction output is added to the original X-ray image data.例文帳に追加

空間フィルタ処理の施された後のＸ線画像データおよび元のＸ線画像データに対して、それぞれ元のＸ線画像データの入力レベルに応じた同一の階調変換処理を施し、この階調変換処理された両方のＸ線画像データの一方から他方を減算し、減算出力を元のＸ線画像データに加算する。 - 特許庁

The sampling processing method includes a means to count time from variable input to termination of a processing by an arithmetic means having the variable input x, such as positional data from an encoder and the arithmetic means such as a position control means to process the variable input and a means to compensate the time delay of the velocity instruction, etc., of an arithmetic means result out 3 from the measured time.例文帳に追加

エンコーダからの位置データなどの変数入力ｘと、その変数入力を処理する位置制御部等の演算手段とを有して、変数入力から演算手段の処理が終わるまでの時間を計測する手段と、計測した時間より演算手段結果ｏｕｔ３の速度指令などの時間遅れを補正する手段を有する。 - 特許庁

A nonwoven fabric comprising heat resistant fibers and fibrillation liquid crystal polymer fibers is subjected to at least one surface treatment selected from low temperature plasma processing, surfactant processing, grafting, sulfonation, fluorination, hydroentaglement process, and resin coating thus producing a separator for an electrochemical element, e.g. a capacitor.例文帳に追加

少なくとも耐熱性繊維と、フィブリル化液晶性高分子繊維とを含有する不織布に、低温プラズマ処理、界面活性剤処理、グラフト処理、スルホン化処理、フッ素処理、水流交絡処理、樹脂コーティング処理から選ばれる少なくともひとつの表面処理が施されていることを特徴とする、キャパシタ等の電気化学素子に用いることができるセパレータ。 - 特許庁

This supply chain simulation system has: a planning part drafting a plan of processing based on a parameter related to the processing to a supply target executed in each of a plurality of processes constituting the supply chain; a process simulation part simulating the processing based on the drafted plan; and a simulation control part controlling timing of the drafting and timing of the simulation.例文帳に追加

供給連鎖を構成する複数の工程のそれぞれにおいて実行される供給対象への処理に関するパラメータに基づいて、前記処理の計画を立案する計画立案部と、前記立案された計画に基づいて、前記処理をシミュレーションする工程シミュレーション部と、前記立案のタイミングと、前記シミュレーションのタイミングと、を制御するシミュレーション制御部と、を備えたことを特徴とする供給連鎖シミュレーションシステムが提供される。 - 特許庁

In an ashing processing in the semiconductor manufacturing process by the plasma processing, a solid dielectric is installed on the opposing surface of at least one of a pair of electrodes opposing each other in the atmosphere under a pressure near the atmospheric pressure, and discharge plasmas obtained by introducing the processing gas between the pair of the electrodes and applying a pulse-like electric field are brought into contact with a base material to be processed.例文帳に追加

プラズマ処理による半導体製造工程におけるアッシング処理において、大気圧近傍の圧力下、雰囲気中で、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の電極間に処理ガスを導入してパルス状の電界を印加することにより得られる放電プラズマを被処理基材に接触させることを特徴とする半導体素子の処理方法及び装置。 - 特許庁