「sample surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface treatment apparatus S comprises a sample stage 12 supporting a sample 43, a plasma discharging electrode 20 having a porous body 21 located to the position facing the surface to be treated of the sample 43 put on the sample stage 12, and a gas passage 15 supplying a prescribed gas between the plasma discharging electrode 20 and the sample 43 put on the sample stage 12 through the porous body 21.例文帳に追加

プラズマ処理装置Ｓは、試料４３を支持する試料ステージ１２と、試料ステージ１２に支持されている試料４３の被処理面に対向する位置に設けられ、多孔質体部２１を有するプラズマ放電電極２０と、プラズマ放電電極２０と試料ステージ１２に支持されている試料４３との間に多孔質体部２１を介して所定のガスを供給可能な主ガス流路１５とを備えている。 - 特許庁

Ozone gas treatment or ozone gas treatment and irradiation with ultraviolet rays are conducted in a treatment vessel, so as to prevent the contact of the surface of the sample with the atmosphere, and the cleaned state of the surface of the sample is evaluated through a nondestructive surface analysis method.例文帳に追加

オゾンガス処理、あるいはオゾンガス処理と紫外線照射は、表面分析用試料の表面が大気に触れないように、処理容器の中で行い、非破壊表面分析法により表面の清浄化の状態を評価する。 - 特許庁

When a secondary ion 4 released from the surface of a sample 1 through sputter etching by ion beam radiation is detected, and the depth-wise distribution of the element containing in the sample 1 is measured, an ion beam is irradiated in a state where sample 1 is exposed to an oxygen atmosphere 2, and the element distribution on the extreme surface of the sample 1 is evaluated.例文帳に追加

イオンビーム照射によるスパッタエッチングによって試料１の表面から放出される二次イオン４を検出し、試料１中に含まれる元素の深さ方向分布を測定する際に、試料１を酸素雰囲気２に曝した状態でイオンビームを照射して、試料１の極表面での元素分布評価を行う。 - 特許庁

After extraction, the sample piece is removed from the sample stand, and the liquid component is evaporated from the acid aqueous solution for extraction, containing an extracted component remaining on the surface on the sample stand by continuing the heating due to the hot plate to dry and solidify the extracted component on the surface of the sample stand.例文帳に追加

上記抽出後に、上記試料台から試料片を取り除き上記試料台の表面に残留した抽出成分を含有する抽出用酸水溶液を、上記ホットプレートによる加熱を継続し、液成分を蒸発させて、上記試料台の表面に抽出成分を乾固させる。 - 特許庁

An impurity-sampling apparatus 2 equipped with a sampling container 8 having a substrate-fixing section 6 inside, a sample water supply means for supplying sample water 12 onto the upper surface of the substrate 4 being fixed to the substrate-fixing section, and sample water-drying means 18 and 20 for drying the sample water on the upper surface of the substrate.例文帳に追加

基板固定部６を内部に有するサンプリング容器８と、基板固定部に固定された基板４の上面に試料水１２を供給する試料水供給手段と、基板上面の試料水を乾燥させる試料水乾燥手段１８、２０とを具備する不純物採取装置２を用いる。 - 特許庁

A liquid is introduced into the tubular sample, and the contact angle of the gas-liquid interface (meniscus) by the liquid in the tubular sample and an atmospheric gas with the inner surface of the tubular sample is measured, and the characteristics of the inner surface of the tubular sample are evaluated on the basis of the measured values.例文帳に追加

チューブ状試料に液体を導入し、前記チューブ状試料内の前記液体と雰囲気ガスによる気液界面（メニスカス）と、前記チューブ状試料の内表面との接触角を測定し、該測定値に基づいて前記チューブ状試料の内表面の特性を評価することを特徴とする、評価方法。 - 特許庁

To widen the contact area between a probe and a sample in measurement, to reduce the contact pressure thereby to restrain a sample surface from being deformed, to restrain the contact area with the sample from being dispersed, and to eliminate dispersion in physical property measurement of the sample surface to allow stable measurement, in a scanning probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡において、測定時にプローブと試料との接触面積を大きくし、接触圧を下げ、試料表面の変形を抑えること、また試料との接触面積のばらつきを抑え、試料表面の物性測定においてばらつき無く安定に測定できるようにすること。 - 特許庁

The reduction ratio of the stencil mask 111 onto a sample surface is set to 1/N1, and when the reduction ratio of the first mask 103 and the second mask 106 onto the sample surface is set to 1/N2, N2 may be larger than N1.例文帳に追加

ステンシルマスク１１１の試料面上への縮小率をN1分の１とし、第１マスク１０３及び第２マスク１０６の試料面上への縮小率をN2分の１とするときにN2>N1であってもよい。 - 特許庁

Shaped X-rays S are allowed to be incident very closely to the surface of the measuring sample, and the reflected X-rays from the surface of the measuring sample are measured by the reflected X-ray measuring means 6.例文帳に追加

整形されたＸ線Ｓを前記測定試料の表面にすれすれに入射させ、前記測定試料表面よりの反射Ｘ線を前記反射Ｘ線測定手段６により測定する。 - 特許庁

The minute sample stand base part 10 has a V-shaped groove 11, and the minute sample loading membrane 20 has the upper end surface 21, provided between the upper surface of the groove 11 and the deepest part of the groove 11.例文帳に追加

微小試料台基部１０はＶ字形状の溝１１を有し、微小試料搭載用薄膜２０は溝１１の上面と溝１１の最深部との間に設けられた上端面２１を有する。 - 特許庁

The light emitted from the light source 16 irradiates the sample surface through a light modulator 24, a beam splitter 26, an objective lens 22, and a transparent substrate 12 so as to generate near-field light on the sample surface.例文帳に追加

光源１６から放射された光は、光変調器２４、ビームスプリッタ２６，対物レンズ２２，透明基板１２を経て試料表面に照射され、試料表面に近接場光を生成させる。 - 特許庁

The system includes a beam generator for directing an incident beam towards a sample surface and a detector positioned to detect a beam originating from the sample surface in response to the incident beam.例文帳に追加

前記システムは、入射ビームを試料表面に向けて導くビーム発生器、および前記入射ビームに応答して前記試料表面から来るビームを検出するよう配置された検出器を含む。 - 特許庁

For measuring the orientation dependency of reflection infrared rays, the sample is rotated within the surface with a measurement region as a center to make constant a region where infrared rays are applied on the sample surface.例文帳に追加

反射赤外線の面方位依存性を測定する際には、試料表面上で赤外線があたる領域を一定にするために、試料を測定領域を中心にして面内回転する。 - 特許庁

Alternatively, the temperature of the sample 6 surface is monitored and when the temperature of the sample 6 surface has become nearly the same as the temperature in a vacuum chamber, focused charged particle beam etching processing or deposition processing is started.例文帳に追加

あるいはサンプル6表面の温度をモニターし、サンプル6表面の温度が真空内の温度とほぼ同じになってから集束荷電粒子ビームエッチング加工またはデポジション加工を開始する。 - 特許庁

The device for measuring the recovery speed of a sample of foamed material under compression includes a compressing surface engageable with the sample, and a displacement transducer disposed to mechanically communicate with the compressing surface.例文帳に追加

圧縮下の発泡材サンプルの回復速度を測定する装置は、発泡材サンプルと係合可能な圧縮表面と、圧縮表面と機械的に連絡するよう配置された変位トランスデューサとを有する。 - 特許庁

Ozone gas treatment or ozone gas treatment and irradiation with ultraviolet rays are applied to the sample for surface analysis, before the analysis of carbon to remove carbon compounds adhering to the surface of the sample.例文帳に追加

炭素分析前に、表面分析用試料にオゾンガス処理、あるいはオゾンガス処理と紫外線照射を加えることにより、表面分析用試料の表面に付着した炭素化合物を除去する。 - 特許庁

The first cuter blade 2 is used for a face preparation process, where the surface layer part of a sample block 11 is cut to form a plane parallel to the cutting direction, on the surface of the sample block 11.例文帳に追加

第一のカッタブレード２は、面出し工程、即ち、試料ブロック１１の表層部を切断して試料ブロック１１の表面に切断方向に対して平行な平面を形成する際に使用される。 - 特許庁

The processing of a groove 1D is applied to a multilayered film sample 1 along the contour of the predetermined place of the multilayered film sample 1 and the film surface of the predetermined place is peeled by a predetermined place peeling process to expose the peeling surface.例文帳に追加

多層膜試料１の所定箇所の輪郭に沿って溝１Ｄ加工を行ない、所定箇所を剥離する工程により所定箇所の膜面を剥離して、剥離面を露出させる。 - 特許庁

A protective member 11 comprising a fluoroplastic is arranged around the sample radiation window 13 and the leading end surface 12 of the protective member 11 is slightly protruded from the leading end surface 14 of the sample radiation window 13.例文帳に追加

試料放射窓１３の周囲にフッ素樹脂からなる保護部材１１を配置し、保護部材１１の先端表面１２は試料放射窓１３の先端表面１４よりわずかに突出させる。 - 特許庁

Additionally, an active gas is injected to the sample surface (into the contact hole) via the deposition mechanism 10, thus removing contaminants on the sample surface, and hence accurately measuring the current.例文帳に追加

また、デポジション機構１０を介して活性ガスを試料表面(コンタクトホール内)に注入することにより、試料表面の汚染物質の除去が可能となり、正確な電流の測定が可能となる。 - 特許庁

To stably observe the surface of a sample without changing a state of a probe and a state of the sample surface when making the probe scan to measure tunnel current.例文帳に追加

探針を走査させてトンネル電流の測定を行なうときに、探針の状態及び試料表面の状態を変化させることなく、安定した試料の表面観察を行なうことができるようにする。 - 特許庁

The method comprises the step of obtaining secondary electron images of sites on a sample surface by irradiating the sample surface with charged particle beams, and the step of detecting a pattern having bad electric properties based on the images.例文帳に追加

試料表面に荷電粒子ビームを照射して試料表面の各部位の二次電子画像を得る工程と、その画像に基づいて電気特性の不良なパターンを検出する工程を含む。 - 特許庁

To provide a sample keeping sheet and a sample keeping method having excellent print appearance and print durability of a printing surface, having no pollution on the printing surface, capable of performing easily a sampling work, and suitable for a traceability system.例文帳に追加

印刷面の印刷外観及び印刷耐久性に優れ、印刷面の汚染がなく、サンプリング作業が容易であり、トレーサビリティシステムに好適なサンプル保管用シート及びサンプル保管方法の提供。 - 特許庁

To accurately recognize, which part on the measurement surface a sample is measured, in a surface plasmon resonance measuring instrument for measuring the two-dimensional physical properties of the sample or a leakage mode measuring instrument.例文帳に追加

試料の２次元物性を測定する表面プラズモン共鳴測定装置や漏洩モード測定装置において、測定面上のどの部分の試料について測定しているかを正確に認識可能とする。 - 特許庁

Two coils wound so as to be parallel to the sample surface are installed in a sensor, used for the nondestructive inspection apparatus so as to provide a magnetic flux perpendicular to the surface of the sample (vertical magnetic flux type).例文帳に追加

非破壊検査装置に用いるセンサに、試料の表面に対して垂直な磁束を得るように、試料表面と平行するように巻かれている２つのコイルを設置する（垂直磁束型）。 - 特許庁

The plate-like sample S as a wafer having a fine pattern is drilled from the surface toward the depth by glow discharge, and drilled cross section is formed, from the surface of the sample S toward the depth direction.例文帳に追加

微細パターンが形成されたウエハである平板状の試料Ｓに対して、グロー放電によって表面から深さ方向に掘削し、試料Ｓの表面から深さ方向に掘削断面を形成する。 - 特許庁

While X-ray beams L irradiate the inspection surface of a visible light transmissible sample B at a smaller angle than a critical angle to the inspection surface, the sample B and the X-ray beams L are relatively moved.例文帳に追加

Ｘ線ビームＬを、可視光を通す試料Ｂの検査面に、当該検査面と臨界角より小さな角度をなすように照射しながら、試料ＢとＸ線ビームＬとを相対的に移動させる。 - 特許庁

The light reflected on the surface of the sample 7 is further reflected on the half mirror 13 to enter the magnification optical system 14, and enlarged to project the image of the sample 7 surface onto the imaging plane of the CCD sensor 15.例文帳に追加

試料７の表面で反射された光は、ハーフミラー１３で反射されて拡大光学系１４に入り、拡大されて、試料７の表面の像を、ＣＣＤセンサ１５の撮像面に結像する。 - 特許庁

The grinding sample preparation jig 1 for holding a sample S comprises a sample bonding recess 3 formed on the surface of a holding base 2 and a groove 4 formed in a bottom periphery of the recess 3, wherein the recess 3 has a larger outer dimension than a plan view outer dimension of the sample S and a depth d corresponding to a thickness of the sample S at completion of grinding.例文帳に追加

保持台２の表面に試料Ｓの平面視外形より大きい外形で、かつ試料Ｓの研磨完了時厚み相当の深さｄを有する試料接着用凹部３を形成すると共に、この凹部３の底面外周域に溝４を形成して、試料Ｓを保持する研磨試料作成治具１とする。 - 特許庁

To enable sample preparation capable of shortening a time for preparing a micro-sample, having high reliability at the EDX analysis time, and having a clean processing surface competent for high power observation, concerning a sample preparation device enabling analysis or observation of a micro-region by extracting a fine sample from a parent sample by utilizing FIB.例文帳に追加

ＦＩＢを利用して母試料から微細試料を摘出して微小領域の分析や観察を可能にする試料作製装置において、微小試料を作製する時間を短縮でき、ＥＤＸ分析時に高い信頼性を有し、高倍率の観察に耐えられる清浄な加工面を有する試料作製を可能とする。 - 特許庁

The spectrochemical analysis device for analyzing the state of the interface between materials receiving friction makes a first sample rub with a second thin-film-like sample, and radiates light to the interface between the first sample and second sample from the rear surface of the second sample, thereby performing the spectrochemical analysis.例文帳に追加

また、摩擦を受けている材料の間の界面の状態を分析する本発明の分光分析装置は、第１の試料と薄膜状の第２の試料とを摩擦しつつ、第２の試料の背面から、第１の試料と第２の試料との界面に対して光を照射して分光分析を行う。 - 特許庁

A sample analyzer includes: a laser ablation section having a laser oscillation source with an oscillation output of 5 W or more, for irradiating the surface of a sample with a laser beam to make part of the sample into fine particles; and an element detection section to which the sample made into fine particles is introduced and a constituent element included in the sample is detected.例文帳に追加

試料の表面にレーザー光を照射して試料の一部を微粒子化させる、発振出力５Ｗ以上のレーザー発振源を有するレーザーアブレーション部と、微粒子化された試料を導入し、試料に含まれる構成元素を検出する元素検出部と、を備えた試料分析装置。 - 特許庁

When the surface layer part of the sample block 1 is thinly cut, the sample block 1 is sent out toward the cutter blade 3 and the carrier tape 5 is allowed to run in connection with the movement of the sample block 1 to suck and hold the cut thin sample 1 on its undersurface.例文帳に追加

試料ブロック１の表層部分を薄切りする際、試料ブロック１をカッタブレード３に向けて送り出すとともに、キャリアテープ５を試料ブロック１の動きに連動させて走行させ、切り取られた薄片試料をその下面に吸着して保持する。 - 特許庁

In the sample fixing method of X-ray diffraction measurement, a sample is pasted to one surface of a base having a hollow exceeding an X-ray irradiation area for irradiating the sample with X rays from a target and capturing and counting diffracted X rays from the sample.例文帳に追加

Ｘ線回折測定における試料固定方法は、ターゲットからＸ線を試料に照射し、試料からの回折されたＸ線を捕捉して計数するために、Ｘ線照射面積を越える中空を有する土台の片面に試料を貼るものである。 - 特許庁

That is, since three sample parts 4 formed in a sample body 2 are exposed from a window 8 of the sales promotion sheet 8 even though the surface of the wide sample 1 is covered with the sales promotion sheet 8, the exposed sample parts 4 are made to be conspicuous.例文帳に追加

つまり、幅広型見本１の表面は販売促進シート８で覆われることになるが、見本体２に形成された３個の見本部４が販売促進シート８の窓部８ａから露出されるので、その露出された見本部４が目立つことになる。 - 特許庁

The sample rod 23 moves to form a conical surface with the sample S being the apex when the sample rod rotates around the ω axis as center, and the nozzle 26 is disposed so that the sample rod 23 and a gas spraying direction of the nozzle 26 possibly form an acute angle between them.例文帳に追加

試料棒２３はω軸線を中心として回転するときに試料Ｓを頂点とする円錐面を形成するように移動し、ノズル２６は試料棒２３とノズル２６のガス吹付方向とが９０度以下の鋭角になることがあるように設けられている。 - 特許庁

Displacement of the probe needle part 138 caused by the change of irregularities on the sample surface is shown as displacement of the surface 286 of the lever part 140 as it is.例文帳に追加

試料表面の凹凸の変化に伴う探針部１３８の変位はそのままレバー部１４０の面２８６の変位となる。 - 特許庁

Subsequently, the laser light is repetitively reflected by varying the reflection positions between a spherical surface part 12 with mirror coating performed thereon and the sample surface 11.例文帳に追加

以後、レーザ光は、ミラーコーティングが施された球面部１２と試料面１１との間で反射位置を変えながら反射を繰り返す。 - 特許庁

The sample vessel 2 is cooled mainly by heat transfer from the upper part of the side surface, and is not rapidly cooled from the bottom surface.例文帳に追加

試料容器２は主として側面の上部からの伝熱によって冷却され、底面から急激に冷却されることがない。 - 特許庁

To provide a surface analysis apparatus capable of highly accurately analyzing the surface of a sample in a short time through the use of multi-charged ions.例文帳に追加

多価イオンを用いて、試料表面の分析を高精度で短時間に行うことができる表面分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stamp in which a seal impression combining a fixed printing surface and a changeable printing surface can be confirmed by a sample.例文帳に追加

固定された印字面と変更可能な印字面とを組み合わせた印影を見本により確認することができる印判を提供する。 - 特許庁

MEASURING METHOD OF EXTREME SURFACE ELASTIC MODULUS IN SOLID MATERIAL SAMPLE AND EVALUATING METHOD OF ADHESION OF RESIN SURFACE TO FILM BY USING THE SAME例文帳に追加

固体物質試料の極表面弾性率の測定方法及びそれを用いた樹脂表面の対膜接着性評価方法 - 特許庁

A signal processing circuit (20), using a brightness signal from a one-dimensional image sensor receiving reflected light from the surface of the sample and the position information from the spacing measuring means (12), outputs the two-dimensional image information of the sample and the height information of the surface of the sample.例文帳に追加

信号処理回路（２０）において、試料表面からの反射光を受光する1次元イメージセンサからの輝度信号及び間隔測定手段（１２）からの位置情報を用いて試料の2次元画像情報及び試料表面の高さ情報を出力する。 - 特許庁

To solve a problem wherein, when an electric field or a voltage on a surface of a sample is changed in accordance with a characteristic of the sample, the arrangement of a plurality of primary beams on the sample surface, and a plurality of secondary beams on a detector is changed, in a multi-beam type charged particle beam application device.例文帳に追加

マルチビーム型の荷電粒子線応用装置において、試料の特性に応じて試料表面における電界や電圧を変更すると、試料表面における複数の一次ビーム、検出器上における複数の二次ビームの配置が変化する。 - 特許庁

To restrain generation of grinding dents and uneven stress on a grinding surface of a sample, to attain high flatness in an extremely wide range of a sample surface, to largely increase a feasible range of analysis and evaluation, and to obtain a thin-film sample having high reliability.例文帳に追加

試料の研磨面における研磨痕や応力ムラの発生を抑え、試料表面の極めて広い範囲において十分な平坦度が得られて分析評価の可能な領域の大幅な拡大化を実現し、信頼性の高い薄膜化された試料を得る。 - 特許庁