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該当件数 : 21457



例文

This lens array sheet 1 is equipped with a lens array layer 3 in which a first lens array 5 constituted by arraying several cylindrical lenses 4 in parallel by leaving spaces and a second lens array 7 constituted by arraying several cylindrical lenses in the spaces by aligning length directions in a direction crossing with the length direction of the first lens array are provided on the same plane.例文帳に追加

本発明は、複数本のシリンドリカルレンズ4が隙間をおいて平行に配列されてなる第1のレンズアレイ5と、複数本のシリンドリカルレンズが前記第1のレンズアレイの長さ方向と交差する方向に長さ方向を揃えて前記隙間に配列されてなる第2のレンズアレイ7とが同一面上に設けられたレンズアレイ層3を備えていることを特徴とするレンズアレイシート1を提供する。 - 特許庁

The semiconductor device includes a silicon layer formed with first and second circuits including respective electrodes; an SOI chip 1 having an embedded insulating film, and a supporting substrate in which a concave portion 1d where the embedded insulating film is exposed is formed in a portion corresponding to a formation region of the first circuit; and a base silicon substrate 14 formed with a compensating oxide film 15 on the surface.例文帳に追加

半導体装置は、それぞれ電極を含む第1および第2の回路が形成されたシリコン層と、埋め込み絶縁膜と、当該埋め込み絶縁膜が露出する凹み部1dが前記第1の回路の形成領域に対応する部分に形成された支持基板とを有するSOIチップ1と、表面に補償酸化膜15が形成された台座シリコン基板14とを備える。 - 特許庁

A dielectric breakdown protective element constituted of an insulation gate type field effect transistor is replaced with an equivalent circuit using a bipolar transistor, and a current flowing from the drain of the dielectric breakdown protective element to a substrate is expressed by a first current source by an impact ionization current and a second current source by the current based on an electron / hole pair thermally generated in a depletion layer.例文帳に追加

絶縁ゲート型電界効果トランジスタにより構成される静電破壊保護素子を、バイポーラトランジスタを用いた等価回路に置き換え、静電破壊保護素子のドレインから基板に流れる電流を、インパクトイオン化電流による第1電流源と、空乏層において熱的に発生する電子・正孔対に基づく電流による第2電流源とによって表す。 - 特許庁

The method for producing a two layer film includes: a stage where the nickel-containing first metallic film 12 is formed on a high molecule film in an atmosphere comprising any one gas selected from the group consisting of ammonia, nitrogen monoxide and nitrogen dioxide by a vacuum deposition process or the like; and a stage where the second metallic film essentially composed of copper is formed on the first metallic film.例文帳に追加

高分子フィルム上にアンモニア、一酸化窒素、および二酸化窒素よりなる群のうちのいずれか1つのガスを含む雰囲気下での真空蒸着法等によりニッケルを含む第1の金属膜12を形成する工程と、第1の金属膜上に銅を主成分とする第2の金属膜を形成する工程とを備える2層フィルムの製造方法。 - 特許庁

例文

Complex behavior equivalent to pseudo positive uniaxial crystal type birefringent material can be attained by adding up an action of a refractive index ellipsoid RIE1 showing a liquid crystal layer 71 in OFF state, an action of a refractive index ellipsoid RIE2 showing a first birefringence member 73a, and an action of a refractive index ellipsoid RIE3 showing a second birefringence member 73b.例文帳に追加

オフ状態の液晶層71を表す屈折率楕円体RIE1の作用と、第1複屈折部材73aを表す屈折率楕円体RIE2の作用と、第2複屈折部材73bを表す屈折率楕円体RIE3の作用とを加算すると、擬似的に正の一軸結晶型の複屈折材料と等価な複合的作用を達成することができる。 - 特許庁


例文

In the red dye donor element for heat sensitive dye transfer, which comprises a substrate bearing a dye layer containing the mixture of the magenta dye dispersed in a high polymerized binder and two kinds of yellow dies, the magenta dye is shown by formula A, the first yellow dye is shown by formula B and the second yellows dye is shown by formula C.例文帳に追加

高分子バインダー中に分散されたマゼンタ染料および2種のイエロー染料の混合物を含む染料層を担持している支持体を含んでなる感熱染料転写のための赤染料供与体要素であって、上記マゼンタ染料が下式Aを有し、上記第1イエロー染料が下式Bを有し、そして上記第2イエロー染料が式Cを有する、赤染料供与体要素。 - 特許庁

The method of manufacturing a metal oxide porous membrane incudes a first step of forming a metal oxide layer consisting of a flux containing metal oxide particles and an alkali metal compound on a substrate, a second step of heating and sintering the metal oxide particles at a temperature of a melting point or lower, and a third step of eliminating the flux from the obtained sintered compact.例文帳に追加

金属酸化物粒子とアルカリ金属化合物を含むフラックスからなる金属酸化物層を基板上に形成する第一の工程と、金属酸化物粒子の融点以下の温度で加熱して焼結させる第二の工程と、得られた焼結体からフラックスを除去する第三の工程とを有することを特徴とする金属酸化物多孔質膜の製造方法。 - 特許庁

The passive matrix type or the active matrix type organic thin film light emitting display is provided with first electrodes 2 arranged in a plurality of stripes on a transparent substrate 1, second electrodes 3 arranged along a crossing direction with respect to the electrodes 2 and in a plurality of stripes and at least an organic light emitting layer 4 which is held between the electrodes 2 and 3.例文帳に追加

透明基板1上に、短冊状に配置された複数列の第一の電極2と、第一の電極2と交差する方向に短冊状に配置された複数列の第二の電極3とを有し、第一の電極2と第二の電極3との間に少なくとも有機発光層4を挟持してなるパッシブマトリクス型またはアクティブマトリクス型の有機薄膜発光ディスプレイである。 - 特許庁

A recording thin film 3 is formed between a first electrode 1 and a second electrode 4, and a memory element 10 contains any one from among elements Cu, Ag and Zn with its size as 70 nm or less, at a layer 2 containing at least oxygen and rare earth in the recording thin film 3 that is within or adjacent to the recording thin film 3.例文帳に追加

第1の電極1と第2の電極4との間に記憶用薄膜3が挟まれて構成され、この記憶用薄膜3に少なくとも酸素と希土類元素とを有して成り、記憶用薄膜3内もしくは記憶用薄膜3と接している層2に、Cu,Ag,Znから選ばれるいずれかの元素が含まれ、素子サイズが70nm以下である記憶素子10を構成する。 - 特許庁

例文

The organic thin-film transistor gate insulation layer material contains : a polymer compound (A), having a repeating unit having a group containing fluorine atoms, a repeating unit having a photodimerization reactive group, and a repeating unit having a first functional group which generates a second functional group to react with active hydrogen by the action of electromagnetic waves or heat; and an active hydrogen compound (B).例文帳に追加

本発明の有機薄膜トランジスタゲート絶縁層材料は、フッ素原子を含む基を有する繰り返し単位と、光二量化反応性基を有する繰り返し単位と、電磁波もしくは熱の作用により、活性水素と反応する第2の官能基を生成する第1の官能基を有する繰り返し単位とを、有する高分子化合物(A)、及び活性水素化合物(B)を含有する。 - 特許庁

例文

The second substrate layer 4 made of NiFeCr or NiCr is made to have (110) orientation of the bcc structure to make crystal grain size of a spin bulb film large and to improve (111) orientation of fcc structure and thereby thermal and magnetic high stability can be obtained, improvement of magnetic conversion characteristic such as high change rate of magnetoresistance and linearity of magnetoresistance change can be attained.例文帳に追加

NiFeCr又はNiCrからなる第2下地層をbcc構造の(110)配向させて、スピンバルブ膜の結晶粒径を大きくし、fcc構造の(111)配向を向上させるため、熱的・磁気的に高い安定性が得られ、高い磁気抵抗変化率及び磁気抵抗変化の線形性など、磁気変換特性の向上を達成することができる。 - 特許庁

The gasification furnace system is equipped with a gasification furnace 20, a reforming furnace 30 and a char gasification/combustion furnace 40, wherein as a catalyst layer of the reforming furnace, first catalyst layers filled with a catalyst in which the reaction of a generated gas from the gasification furnace is endothermic and second catalyst layers filled with a catalyst in which the reaction of the generated gas is not endothermic are alternately layered in the gas flow direction.例文帳に追加

ガス化炉20、改質炉30、およびチャーガス化/燃焼炉40を備えたガス化炉システムにおいて、改質炉の触媒層として、ガス化炉からの生成ガスの反応が吸熱を伴う触媒を充填した第一の触媒層と、当該生成ガスの反応が吸熱を伴わない触媒を充填した第二の触媒層をガス流方向に交互に充填する。 - 特許庁

The restoration method in the dumping site 1 comprises a first process of examining gas by a gas examination means 4 sampling and analyzing soil gas like methane, hydrogen sulfide or volatile toxic substances; a second process of removing the soil gas using a gas removing means according to the analysis result; and a third process of digging out and removing a waste layer 2 after removal of the soil gas.例文帳に追加

投棄サイト1における修復方法は、例えばメタン、硫化水素、揮発性有毒物質などの土壌ガスを採取して分析するガス調査手段4を用いてガス調査する第一工程と、その分析結果に応じてガス除去手段を用いて土壌ガスを除去する第二工程と、土壌ガスを除去した後に廃棄物層2を掘り起して撤去する第三工程とからなる。 - 特許庁

The semiconductor device includes a main-body transistor region 10 and an ESD protective element region 30, and has a drain region 11 including a semiconductor layer of a first conductivity type, a drift region 12 including a first conductivity semiconductor region formed on the drain region 11, and body regions 14 and 34 including a second conductivity semiconductor region formed at the drift region 12.例文帳に追加

本体トランジスタ領域10と、ESD保護素子領域30とからなり、第1導電型の半導体層からなるドレイン領域11と、ドレイン領域11上に形成された第1導電型半導体領域から成るドリフト領域12と、ドリフト領域12に形成された第2導電型半導体領域から成るボディ領域14,34とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of: forming a wettability improving film on a surface of a semiconductor substrate; coating a surface of the wettability improving film with a dopant diffusing agent containing dopants of a first conductivity type and a second conductivity type; and forming a dopant diffusion layer by diffusing the dopants in the semiconductor substrate from the dopant diffusing agent.例文帳に追加

半導体基板の表面上にぬれ性改善膜を形成する工程と、ぬれ性改善膜の表面上に第1導電型または第2導電型のドーパントを含有するドーパント拡散剤を塗布する工程と、ドーパント拡散剤から半導体基板にドーパントを拡散させることによってドーパント拡散層を形成する工程とを含む半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

The curved waveguide 26 is optically coupled with the resonator by two separated optical couplers 27A, 27B penetrating the layer of the spacer 24, and is turned by a first phase shifter 28 for controlling the optical path length of the resonator and a second phase shifter 29 which is operated so as to control coupling strength between the waveguide and the resonator in the waveguide.例文帳に追加

曲線導波管26は、スペーサ24層を貫通する2個の離間した光学カプラ27A,27Bにより共振器と光学的に結合され、共振器の光路長を制御するための第1の位相シフタ28、および導波管において、導波管と共振器の間の結合強度を制御するよう動作する第2の位相シフタ29により同調が与えられる。 - 特許庁

A radiation sensor comprises a radiation receiver, placed on a final element focal plane of a projection system, a transparent plate for supporting the radiation receiver on a side facing the projection system, a quantum transformation layer formed for absorbing first wavelength incoming light incident on the transparent plate and re-radiating second wavelength light, a fiber optics block with multiple optical fibers, and a radiation detector.例文帳に追加

放射センサは、投影システムの最終エレメントの焦点面に配置された放射レシーバと、投影システムに面する側で放射レシーバを支持する透過性プレートと、透過性プレートに入射した第一波長の光を吸収して、第二波長で光を再放射するように構成された量子変換層と、複数の光ファイバを備えるファイバオプティクスブロックと、放射ディテクタとを含む。 - 特許庁

An upper electrode 313 of a capacitance element 321 formed on a semiconductor substrate 300 is electrically connected to an upper wiring 318 formed above through a first conductive film 315 of a connection structure 331, a first contact plug 306, a second impurity diffused layer 303, and a third contact plug 317, which are formed on the semiconductor substrate 300 similarly.例文帳に追加

半導体基板300の上に形成された容量素子321の上部電極313が、同じく半導体基板300の上に形成された接合構造体331の第1導電膜315、第1コンタクトプラグ306、第2不純物拡散層303及び第3コンタクトプラグ317を介して、上方に形成された上部配線318と電気的に接続している。 - 特許庁

An appropriate lubrication amount is supplied to the image carrier for a long period of time even when the displacement amount of a pressurization member for pressurizing the lubricant becomes less, and replacement life of the lubricant is prolonged without increasing storage volume by using the lubricant in which first lubricant and second lubricant with hardness lower than that of the first lubricant are loaded like a layer.例文帳に追加

第1の潤滑剤と、第1の潤滑剤より硬度が低い第2の潤滑剤を層状に積載された潤滑剤を用いることにより、潤滑剤を押圧する押圧部材の変位量が少なくなっても像担持体に適切な潤滑量を長期間供給することができ、収納体積を大きくすることなく潤滑剤の交換ライフを伸ばすことができる。 - 特許庁

The method for manufacturing of the dye-sensitized solar cell includes the steps of: forming a frame-shaped sealing part on a flexible first electrode; forming a charge transfer layer inside the sealing part, oppositely sticking the first electrode and a separately formed flexible second electrode together under a reduced pressure; and transporting them under an atmospheric pressure to cure the sealing part.例文帳に追加

フレキシブルな第1電極の上に枠状の封止部を形成する工程と、封止部の内側に電荷移動層を形成する工程と、前記第1電極と別途形成したフレキシブルな第2電極とを、減圧下で対向させ貼り合わせる工程と、大気圧下に搬送して封止部を硬化する工程を有することを特徴とする色素増感型太陽電池の製造方法。 - 特許庁

The SONOS memory element comprising a semiconductor substrate, an insulating film formed on the semiconductor substrate, an active layer formed on a predetermined region of the insulating film and defined into a source, a drain, and a channel region, and first and second side gate laminations stacked on each of both sides of the channel region and the method for manufacturing the same.例文帳に追加

半導体基板、前記半導体基板上に形成された絶縁膜、前記絶縁膜の所定領域上に形成されてソース、ドレイン及びチャンネル領域に区画された活性層及び前記チャンネル領域の両側面にそれぞれ積層された第1及び第2サイドゲート積層物を備えることを特徴とするSONOSメモリ素子及びその製造方法による。 - 特許庁

In a BGA package employing a TAB tape having a plurality of electric wiring layers, second and subsequent electric wiring layers are formed by a step for preparing a copper foil applied with adhesive and having through holes bored previously, and a step for sticking the copper foil applied with adhesive while aligning with the TAB tape on which the first electric wiring layer is formed.例文帳に追加

複数の電気配線層を有するTABを用いたBGAパッケージにおいて、電気配線層の第2層以降は、貫通孔を予め加工した接着剤付き銅箔を準備する工程と、接着剤付き銅箔を電気配線層の第1層を形成したTABに位置合わせして貼り付ける工程とにより、それぞれ形成されるようになっている。 - 特許庁

The first hologram and second hologram multiply recorded in the hologram recording medium 2 are used for the phase conjugate reproduction, and the reproduced light is made to interfere in a hologram recording layer 4 formed on the surface of the optical device 3 as the object for correction to record a third hologram as the correction of the optical device 3 as the object for the correction to the master.例文帳に追加

そして、このホログラム記録媒体2に多重記録された第1のホログラムと第2のホログラムとを位相共役再生して、その再生光を補正対象の光学素子3の表面に形成されたホログラム記録層4中で干渉させ、このホログラム記録層4に、補正対象の光学素子3のマスタに対する補正分である第3のホログラムを記録する。 - 特許庁

The manufacturing method of the optical recording medium includes a sheet body forming step for forming a disk-like sheet body having a recording layer recording information utilizing holography and an aperture at a center part and a laminated body forming step for forming a disk-like laminated body by sandwiching the sheet body 32 between a first substrate 5 and a second substrate 1.例文帳に追加

ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有し、かつ中心部に開口を有する円盤状のシート体を形成するシート体形成工程と、第一の基板及び第二の基板により前記シート体を狭み込んで円盤状の積層体を形成する積層体形成工程とを含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法である。 - 特許庁

The nonvolatile semiconductor memory comprises a word gate 14 formed on a semiconductor substrate 10 via a first gate insulating layer 12, a source region or a drain region 16, 18 formed on the semiconductor substrate 10, and side wall-shaped first and second control gates 20, 30 formed along one side surface and the other side surface of the word gate, respectively.例文帳に追加

不揮発性半導体記憶装置は半導体基板10上に第1ゲート絶縁層12を介して形成されたワードゲート14と、半導体基板10に形成されたソース領域またはドレイン領域16,18と、ワードゲートの一方の側面および他方の側面に沿ってそれぞれ形成されたサイドウォール状の第1および第2コントロールゲート20,30と、を有する。 - 特許庁

The EL element comprises a rear face substrate 10; an organic EL part 13 having a first electrode, an organic membrane and a second electrode; a sealing layer 11 including a nanocmposite composed of a layered inorganic substance, a polymer and a curing agent to fill up an inner space with the EL part 13 stored therein by joining the substrate 10.例文帳に追加

背面基板10と、第1電極、有機膜及び第2電極を持つ有機電界発光部13と、前記背面基板と結合して有機電界発光部13が収容された内部空間を充填する、層状無機物、高分子および硬化剤からなるナノ複合体を含む封止層11と、を具備することを特徴とする有機EL素子が提供される。 - 特許庁

To improve durability in a fuel filter device configured such that a filter assembly having first filter layers is provided in a fuel flow path which leads from the inside of a fuel tank through a fuel pump to a fuel consumption unit and also such that, in second filter layers which form at least some of the first filter layers, the finest filter layer is disposed at the downstream-most position.例文帳に追加

第1複数層の濾過層を有するフィルタ組立体が、燃料タンク内から燃料ポンプを経て燃料消費手段に達するまでの燃料流通経路に設けられ、第1複数層の少なくとも一部を構成する第2複数層の濾過層では最下流に最も目が細かい濾過層が配置される燃料濾過装置において、耐久性の向上を図る。 - 特許庁

A strip of thin-film layer 4 is formed at the upper section of the high-breakdown-voltage junction terminator structure for potentially separating the section between first and second reference circuit formation regions 1 and 2.例文帳に追加

第1、第2基準回路形成領域1、2間を電位的に分離する高耐圧接合終端構造上部に帯状の薄膜層4が形成され、この薄膜層4に形成されるツェナーダイオードは、高耐圧NMOS5、高耐圧PMOS6が設けられている箇所やコーナ箇所の曲線部分Bと、基準回路形成領域1、2端部と平行している直線部分Cとに形成される。 - 特許庁

To provide a thin film transistor, a method of manufacturing the same, and a display element which can obtain a gate insulating film with a high dielectric constant by stacking a first gate insulating film of sol-gel type with a high dielectric constant and a second gate insulating film made of amorphous silicon or a polymeric organic substance with a relatively low dielectric constant, so that the gate insulating film having a double layer is formed.例文帳に追加

高い誘電率特性を持つゾル—ゲルタイプの第1ゲート絶縁膜と、多少低い誘電率特性を持つ非晶質シリコンまたは有機高分子物質の第2ゲート絶縁膜とを積層して二重層のゲート絶縁膜を形成することによって、高誘電率のゲート絶縁膜を得ることができる薄膜トランジスタ及びその製造方法、並びにディスプレイ素子を提供する。 - 特許庁

The anode for the nonaqueous electrolyte secondary battery contains a composite anode active material comprising silicon-containing particles 11, carbon nano-fibers 12, and a catalyst element 13; a first binder 15 made of an acrylic group-containing polymer; and a second binder made of adhesion rubber particles, and has a mix layer arranged on a current collector 1A.例文帳に追加

本発明の非水電解質二次電池用負極は、少なくともリチウムイオンの吸蔵放出が可能な含ケイ素粒子11とカーボンナノファイバ12と触媒元素13とからなる複合負極活物質14と含アクリル基高分子である第1結着剤15と粘着性ゴム粒子である第2結着剤16とを含み集電体1A上に設けられた合剤層とを有する。 - 特許庁

A second electrode 5, confronting a first electrode 3 with an insulator layer 4 between, has a plurality of parallel arranged divided electrodes 5a and a connection part 5b for connecting end parts of the divided electrodes 5a and is formed partly into a shape having a bend portion 5b bent substantially at right angles, and the internal angle of the bend portion 5d is made with a smooth curve.例文帳に追加

誘電体層4を挟んで第一電極3と対向する第二電極5は、平行に配列された複数の分割電極5aと、これらの分割電極5aの端部を接続する接続部5bとを有し、一部に略直角に屈曲する屈曲部分5dを有する形状をもって形成され、屈曲部分5dの内角が滑らかな曲線により結ばれている。 - 特許庁

A magnetic thin film 12 as a magnetic body is formed on a non-magnetic substrate 10, and the first spiral flat coil 14a for applying a bias magnetic field to the magnetic thin film 12 or for taking out an induced output and the second spiral flat coil 14b for applying feedback are formed on the same plane through an insulating layer on the magnetic thin film 12.例文帳に追加

非磁性基板10上に磁性体としての磁性薄膜12を形成し、その磁性薄膜12上に絶縁層を介して、磁性薄膜12に対しバイアス磁界を印加するため又は誘導出力を取り出すための第1の渦巻き型平面コイル14aと、帰還を掛けるための第2の渦巻き型平面コイル14bとを同一平面に形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of forming a first semiconductor region, made of an amorphous semiconductor on a surface of an insulator, scanning a continuous oscillation laser beam from one end of the first region to the other end, once melting the first region, crystallizing the first region, and thereafter etching the first region, to form an active layer of a TFT to form a second semiconductor region.例文帳に追加

絶縁表面上に、非晶質半導体で成る第1半導体領域を形成し、第1半導体領域の一端から他端に向けて連続発振レーザービームを走査して、第1半導体領域を一旦溶融させて結晶化し、その後、TFTの活性層を形成するために第1半導体領域をエッチングして第2半導体領域を形成するものである。 - 特許庁

This light emitting device has a light emitting element in which a charge injection transport medium containing an organic compound or inorganic compound and a light emitting medium are formed between a first electrode and a second electrode, the first electrode has an opening part on it, a barrier layer to cover the periphery part of the first electrode is provided, and the corner part of the opening part has a roundish shape.例文帳に追加

第1の電極と第2の電極の間に有機化合物又は無機化合物を含む電荷注入輸送媒体及び発光媒体が形成された発光素子を有し、前記第1の電極上には開口部を有し、前記第1の電極の外周部を覆う隔壁層が設けられ、前記開口部の角部は丸みを帯びた形状であることを特徴とする。 - 特許庁

A semiconductor device includes a substrate 20, the wiring pattern 30 formed on a first face 22 of the substrate 20, a first layer 42 formed to cover a second portion 34 excluding a first portion 32 of the wiring pattern 30, and a semiconductor chip 10 which is mounted on the first face 22 of the substrate 20 and is electrically connected with the wiring pattern 30 at the first portion 32.例文帳に追加

半導体装置は、基板20と、基板20の第1の面22に形成されてなる配線パターン30と、配線パターン30の第1の部分32を除いて第2の部分34を覆うように形成された第1の層42と、基板20の第1の面22に搭載されて第1の部分32で配線パターン30と電気的に接続されてなる半導体チップ10と、を有する。 - 特許庁

The spacer body structure is provided with a support substrate 24 arranged in opposition to the first and the second substrates, equipped with a plurality of electron beam passing holes 26 set in opposition to the respective electron emission sources and coated with an insulating layer 25, as well as a plurality of spacers 30a, 30b erected on at least either surface of the support substrate 24 among the plurality of electron beam passing holes.例文帳に追加

スペーサ構体は、第1および第2基板に対向して配設され、それぞれ電子放出源に対向した複数の電子ビーム通過孔26を有しているとともに絶縁層25で被覆された支持基板24と、複数の電子ビーム通過孔間で、支持基板の少なくとも一方の表面上に立設された複数のスペーサ30a、30bと、を備えている。 - 特許庁

In addition, a plurality of second electrodes 7 are arranged in stripes among the plurality of first electrodes 6 for discharging residual electric charge remaining in the electric charge storage part 11 or the reading photoconductive layer 5 when the erase light L2 is irradiated, and are provided on a plurality of read light shielding films 9 for transmitting the erase light L2 and shielding the read light L1.例文帳に追加

また、消去光L2が照射されたとき電荷蓄電部11または読取用光導電層5に残存する残存電荷を放電する、複数の第1線状電極6の間にストライプ状に配列された複数の第2線状電極7が、消去光L2を透過し読取光L1を遮光する複数の読取光遮光膜9上の領域に設けられている。 - 特許庁

If the length of a signal line to the area of the gate of an input stage transistor in a second circuit exceeds a specified allowable value (S14), the signal line is detoured up to the uppermost layer thereof at a position in the range of the allowable value the signal line (S16) thus blocking charges due to antenna effect until the detouring part is formed.例文帳に追加

第2回路における入力初段トランジスタのゲートの面積に対する信号配線の長さが所定の許容値を越えている場合に(S14)、上記信号配線における上記許容値の範囲内の位置で、上記信号配線における最上層まで上記信号配線を迂回させることにより(S16)、上記迂回部分が形成されるまでアンテナ効果による電荷を遮断する。 - 特許庁

The method of manufacturing the glass optical device includes obtaining the optical device by press molding a glass base material having a core part comprising optical glass (first glass) having ≥550°C Tg and a covering part covering the surface of the core part and comprising second glass into a lens shape, annealing the resultant press molded product and removing the covering layer existing on the surface of the press molded product.例文帳に追加

転移点が550℃以上である光学ガラス(第一のガラス)からなる芯部と、前記芯部の表面を被覆する第二のガラスからなる被覆部とを有するガラス素材をレンズ形状にプレス成形して得られたプレス成形品をアニールし、次いで、プレス成形品の表面にある被覆層を除去してガラス光学素子を得ることを含む、ガラス光学素子の製造方法。 - 特許庁

The semiconductor device has a selection gate electrode SG of a selection gate transistor ST and a perimeter gate electrode TG of a perimeter gate transistor TR, a first insulation film 30 and a first barrier film 31 on an impurity diffusion layer 28 between gate electrodes SG and TG and the side face of the gate electrode, and a second insulation film 32 filling between the gate electrodes SG and TG on the first barrier film 31.例文帳に追加

選択ゲートトランジスタSTの選択ゲート電極SG、及び周辺トランジスタTRの周辺ゲート電極TGを有し、ゲート電極SG、TG間の不純物拡散層28上及びゲート電極側面に第1絶縁膜30、第1バリア膜31を有し、第1バリア膜31上にゲート電極SG、TG間を埋める第2絶縁膜32を有する。 - 特許庁

When it is determined that the size of a display region for displaying drawing data to be drawn in a second window to be displayed on a lower layer of a first window is equal to or smaller than a predetermined size in an overlap region of the windows, control is performed so that the drawing data is not drawn in the overlap region, or the drawing data is drawn with lowered transmittance of the first window.例文帳に追加

第1のウィンドウの下位レイヤに表示される第2のウィンドウに描画される描画データを表示する表示領域の大きさが、ウィンドウの重複領域において所定の大きさ以下であると判断した場合、重複領域において描画データが描画されないように制御し、又は、第1のウィンドウの透過度を低くして描画データを描画させる。 - 特許庁

In a full dot matrix display type liquid crystal display element which is constituted by disposing a first transparent electrode substrate having a plurality of lines of row electrodes and a second transparent electrode substrate having a plurality of lines of column electrodes opposite to each other across a liquid crystal layer and by using each intersection of the row electrodes and the column electrodes as a display element, each display element D is made to be a hexagonal dot pattern.例文帳に追加

複数本の行電極を有する第1透明電極基板と、複数本の列電極を有する第2透明電極基板とを液晶層を挟んで対向的に配置し、行電極と列電極の交点部の各々を表示画素としてなるフルドットマトリクス表示型の液晶表示素子において、各表示画素Dを六角形のドットパターンとする。 - 特許庁

A solid state imaging device of single layer electrode structure having a planar surface is fabricated by forming an interelectrode insulating film 6 on the sidewall of a first electrode 3 and then etching back a second electrode 7 using mask patterns 4 and 5 for forming the pattern of the first electrode as an etching stopper.例文帳に追加

単層電極構造の固体撮像素子を形成するに際し、第1の電極3の側壁に電極間絶縁膜6を形成したのち、第1の電極のパターンを形成するためのマスクパターン4,5をエッチングストッパとして第2の電極7をエッチバックするようにし、平坦な表面をもつ単層電極構造の固体撮像素子を形成するようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

The display panel 2 is formed by joining a transparent panel 12 in which reflecting structure 30 having a first surface 31 reflecting the light emitted from a light emitting element 14 to the emission side D1 and a second surface 32 reflecting the emitted light to the light emitting element 14 side to a substrate 15 on which a luminescent layer 11 containing a plurality of light emitting elements 14 is formed.例文帳に追加

複数の発光素子14を含む発光層11が形成された基板15に対し、発光素子14からの出力光を射出側D1に反射する第1の面31および出力光を発光素子14の側に反射する第2の面32を備えた反射構造30が形成された透明パネル12を接合した表示パネル2を提供する。 - 特許庁

This manufacture method includes a first process for immersing a sintered substrate in a solution of mixed salts, of nickel and cobalt and providing alkaline treatment to form a nickel-cobalt solid solution hydroxide layer on the surface of the sintered substrate, a second process for providing heat treatment to the sintered substrate in the presence of alkaline aqueous solution and oxide, a third process for filling nickel hydroxide containing cobalt in pores of the sintered substrate.例文帳に追加

焼結基板をニッケルとコバルトの混合塩溶液に浸漬した後、アルカリ処理して、焼結基板の表面にニッケル・コバルト固溶水酸化物層を形成する第1工程と、この焼結基板をアルカリ水溶液と酸素の存在下で加熱処理する第2工程と、この焼結基板の細孔内にコバルトを含む水酸化ニッケルを充填する第3工程を備える。 - 特許庁

The polymer of this invention comprises 50 wt.% or more of an acrylate and/or a methacrylate and a layer separation structure is formed in which, after solution polymerizing in a non-aqueous system the first polymer which has a hydrophilicity-imparting agent at least as one ingredient, the reaction is reduced and the second polymer of at least one kind which is extended from the first polymer is formed.例文帳に追加

本発明のポリマーはアクリレートおよび/またはメタクリレートを50重量%(以下単に%)以上であり、親水性付与体を少なくとも一成分とする第1のポリマーを非水系で溶液重合した後、反応を低下させ、少なくとも1種以上の該ポリマーから延長される第2のポリマーが形成された層分離構造とすることを特徴とする。 - 特許庁

A magnetic random access memory comprises: a memory cell that includes a first magnetoresistive element capable of writing data in a magnetization direction of a free ferromagnetic layer which is changed by spin transfer; and a reference cell that includes multiple second magnetoresistive elements for storing data for reference in a magnetization direction of free ferromagnetic layers which are changed by spin transfer, and that is used when the memory cell conducts reading operation.例文帳に追加

磁気ランダムアクセスメモリは、スピン注入により変更される自由強磁性層の磁化の向きでデータを書き込み可能な第1磁気抵抗素子を含むメモリセルと、スピン注入により変更される自由強磁性層の磁化の向きでリファレンス用データを記憶する複数の第2磁気抵抗素子を含み、メモリセルの読み出し動作時に用いられるリファレンスセルとを具備する。 - 特許庁

The arithmetic processing unit b1 identifies the separation shape of the adhesion layer a3 by alternately repeatedly executing first shape identification calculation using strain calculated based on the spectrum information, and second shape identification calculation by a spectrum shape of the reflected light based on the spectrum information while using a previous identification result for an initial value of succeeding shape identification calculation.例文帳に追加

演算処理装置b1は、スペクトル情報に基づき算出される歪を用いた第1の形状同定演算と、スペクトル情報に基づき反射光のスペクトル形状による第2の形状同定演算とを、先の同定結果を後の形状同定演算の初期値として用いながら、交互に繰り返し行って接着層a3のはく離形状を同定する。 - 特許庁

The forming method of the dielectric DBR mirror of the surface emitting laser comprises a process for constituting a resonator comprising an active layer with semiconductor growth, a process for depositing dielectric DBR comprising Si on an end face of the resonator at a first temperature of 150°C to 300°C, and a process for performing heat treatment at a second temperature different from the first temperature.例文帳に追加

本発明の面発光レーザの誘電体DBRミラーの形成方法は、半導体成長により活性層を含む共振器を構成する工程と、同共振器端面にSiを含む誘電体DBRを温度150℃以上300℃以下の第一温度で成膜する工程と、そのあとに第一温度と異なる第二温度で熱処理を施す工程を有する。 - 特許庁

例文

The photosensitive element 1 comprises a support film 10 and a layer 20 comprising a photosensitive resin composition disposed on the first principal surface 12 of the support film 10, wherein the support film 10 has a haze of ≤1.0% and the second principal surface 14 of the support film 10 has a surface resistivity of10^13 Ω.例文帳に追加

本発明は、支持体フィルム10と、その支持体フィルム10の第1の主面12上に設けられた感光性樹脂組成物からなる層20とを備える感光性エレメント1であって、支持体フィルム10のヘーズは1.0%以下であり、且つ支持体フィルム10の第2の主面14の表面抵抗率は10^13Ω以下である感光性エレメント1を提供する。 - 特許庁




  
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