「second-layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(423ページ目) - Weblio英語例文検索

The organic EL panel is provided with a laminated body equipped with a plurality of first electrodes 3 formed in line, an organic layer 6 formed on the first electrodes 3, a plurality of barrier rib parts 8 formed so as to cross the first electrodes 3, and second electrodes 7 formed divided into a plurality of lines by the barrier rib parts 8.例文帳に追加

有機ＥＬパネルは、ライン状に形成された複数の第一電極３と第一電極３上に形成される有機層６と第一電極３に対して交差するように形成される複数の隔壁部８と、隔壁部８によって複数のライン状に分断形成される第二電極７と、を有する積層体３を有する。 - 特許庁

Of the fuel cell stack, in unit cells electrically connected and adjoined in series, a water permeating layer is arranged in a state in contact with a second porous body in a cathode electrode and a first porous body in an anode electrode respectively between the cathode electrode of one unit cell and the anode electrode of the other unit cell.例文帳に追加

本発明のの燃料電池スタックによれば、電気的に直列接続された隣接する単位セルにおける、一方の単位セルのカソード電極と他方の単位セルのアノード電極との間には、水透過層が、該カソード電極における第２の多孔体及び該アノード電極における第１の多孔体のそれぞれに当接した状態で配設されている。 - 特許庁

This heat treatment device is provided with: a heat source 3; a plurality of thermoelectric modules 81 and 82 laminated toward the heat source 3; and a temperature setting layer 9 installed between the first thermoelectric module 81 installed at the low temperature side and the second thermoelectric module 82 installed at the high temperature side among the plurality of thermoelectric modules 81 and 82, and set to a predetermined temperature.例文帳に追加

熱源３と、該熱源３に向けて積層される複数の熱電モジュール８１，８２と、複数の上記熱電モジュール８１，８２のうち低温側に設置される第１熱電モジュール８１と高温側に設置される第２熱電モジュール８２との間に設置され、かつ、所定の温度に設定される温度設定層９とを備える。 - 特許庁

The device further has a second semiconductor layer (1aa) having a high concentration region (210) that contains the same conductivity-type impurity as in the channel region, with a higher concentration than in the channel region, and comes into contact with at least a part of the channel region but does not come into contact with the data line side source drain region nor the pixel electrode side source drain region.例文帳に追加

更に、チャネル領域と互いに同じ導電型の不純物をチャネル領域よりも高濃度に含み、且つ、チャネル領域の少なくとも一部に接触すると共にデータ線側ソースドレイン領域及び画素電極側ソースドレイン領域に接触しない高濃度領域（２１０）を有する第２の半導体層（１ａａ）とを備える。 - 特許庁

The method of forming the conductive pattern includes: a first step for printing the conductive pattern onto a surface of the base material having a liquid repellent property; a second step for performing lyophilic processing on the surface of the base material which area does not have the conductive pattern printed thereon; and a third step for forming an insulating layer that covers the conductive pattern.例文帳に追加

表面が撥液性を有する基材表面に導電パターンを印刷する第１の工程と、前記導電パターンが形成されていない前記基材表面を親液性処理する第２の工程と、前記導電パターンを覆う絶縁層を形成する第３の工程と、を有することを特徴とする導電パターンの形成方法。 - 特許庁

An Si nitride film 3b is an etching stopper film in forming on a TEOS film 6a a trench pattern 7 into which a second layer wiring M2 is buried, but the trench pattern 7 is not formed on the Si nitride film 3b, hence there is no need of applying an excessive over-etching to the Si nitride film 3b and no undercut appears at the Si nitride film 3b.例文帳に追加

窒化シリコン膜３ｂは、第２層目の配線Ｍ_2 が埋め込まれる溝パターン７をＴＥＯＳ膜６ａに形成する際のエッチングのストッパ膜であるが、この窒化シリコン膜３ｂには溝パターン７は形成されないので、窒化シリコン膜３ｂに過剰なオーバーエッチングを施す必要がなく、窒化シリコン膜３ｂにはアンダーカットが生じない。 - 特許庁

Metallic meshes 1 composed of an electric good conductor construction material having almost the same area as window plate glass 3 are arranged by two pieces in a hollow part composed of a layer of the two window plate glass 3 arranged at an interval in parallel in a planar shape, and a relative crossing angle of the first metallic mesh 1 and the second metallic mesh 1 is superimposed on 45°±15°.例文帳に追加

平面的平行に間隔をおいて配置してなる２枚の窓板ガラス３の層からなる中空部分に、それら窓板ガラス３とほぼ同面積の電気良導体材質からなる金属メッシュ１を２枚設置して、かつ１枚目の金属メッシュ１および２枚目の金属メッシュ１の相対交差角度を４５°±１５°に重畳するようにした。 - 特許庁

A first insulating film 102 as an inter-layer insulating film, a second insulating film 103 which is harder to be etched than a third insulating film, and a third insulating film 104 for forming a wiring groove are formed in order on a conductive body 101, and then a contact hole 105 reaching the surface of the conductive body through the first third insulating films is formed.例文帳に追加

導電体１０１上に層間絶縁膜として第１の絶縁膜１０２、第３の絶縁膜よりエッチングされにくい第２の絶縁膜１０３、配線溝を形成するための第３の絶縁膜１０４を順に成膜した後、これら第１〜第３の絶縁膜を貫通し導電体の表面に達するコンタクトホール１０５を形成する。 - 特許庁

The solid polymer fuel cell is provided with a catalyst layer consisting of catalyst-carrying particles 10, a first electrolyte 20 coating a part or a whole of the surface of the catalyst-carrying particles 10, and a second electrolyte 30 with an EW value larger than that of the first electrolyte coating the catalyst-carrying particles coated with the first electrolyte 20.例文帳に追加

触媒担持粒子１０と、触媒担持粒子１０の表面の一部または全部を被覆する第一電解質２０と、第一電解質２０で被覆された触媒担持粒子１０を被覆する、第一電解質よりもＥＷ値の大きな第二電解質３０とからなる触媒層を有する、固体高分子型燃料電池である。 - 特許庁

After the polycrystalline silicon layer 5 is formed via an insulation film 3 on one surface of a semiconductor substrate 1, a first oxide film 6, which does not comprise an impurity element adjusting the diffusion of an impurity element, is formed and then a second oxide film 7 comprising an impurity element is formed.例文帳に追加

半導体基板１の一方の表面上に絶縁膜３を介して多結晶シリコン層５を形成した後、不純物元素の拡散を調整する不純物元素を含まない第１の酸化膜６を形成し、次いで、不純物元素を含む第２の酸化膜７を形成したことを特徴とする多結晶シリコン抵抗５１の製造方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing the optical element by molding the resin composition containing a polymer having an alicyclic structure by using the mold, there is formed a layer of ≥3 nm and ≤20 nm of a fluorine containing compound on the contact surface between at least either of a first mold member and a second mold member which constitute the mold and a member molding space.例文帳に追加

脂環式構造を有する重合体を含有する樹脂組成物を成形型で成形する光学素子の製造方法において、成形型を構成する第１型部材及び第２型部材の少なくとも一方の部材成形空間との接触面に３ｎｍ以上２０ｎｍ以下のフッ素含有化合物層を設ける。 - 特許庁

The surface mount crystal oscillator includes a crystal piece 3 stored within a first recessed part 13 formed to a container body 1, an IC chip 2 stored within a second recessed part 14 formed to the container body 1 in the side opposing to the first recessed part 13, and a heat insulating layer 20 located between the crystal piece 3 and the IC chip 2.例文帳に追加

本発明の表面実装水晶発振器は、容器本体１に形成された第１の凹部１３内に収納された水晶片３と、容器本体１の、第１の凹部１３と対向する側に形成された第２の凹部１４内に収納されたＩＣチップ２と、水晶片３とＩＣチップ２との間に位置する断熱層２０と、を有する。 - 特許庁

An organic solvent in which at least an organic ammonium salt is dissolved is expanded on a water phase in which at least a first inorganic halide composed of the halide of a group IV element or a transition metal and one or more kinds of second inorganic halides composed of the halide of alkali metal are dissolved, and the produced organic/inorganic layer-shaped perovskite monomolecular film is moved onto a substrate.例文帳に追加

少なくとも、ＩＶ族元素又は遷移金属のハロゲン化物からなる第１の無機ハライドとアルカリ金属のハロゲン化物からなる１種以上の第２の無機ハライドとを溶解させた水相上に、少なくとも有機アンモニウム塩を溶解させた有機溶媒を展開し、生成した有機無機層状ペロブスカイトの単分子膜を基板上に移し取る。 - 特許庁

A light-emitting device includes a light source 13 including a light-emitting element 11 comprising a polyhedron for emitting first-wavelength light and a wavelength conversion layer 12 containing phosphor for converting the first-wavelength light to second-wavelength light having a wavelength longer than the first wavelength, and a light-transmitting member 14 provided at a light extraction side of the light source 13.例文帳に追加

第１波長の光を出射する多面体からなる発光素子１１と、第１波長の光を第１波長よりも波長の長い第２波長の光に変換する蛍光体を含有する波長変換層１２と、を含む光源１３と、光源１３の光取出し側に設けられた透光性部材１４と、を備える発光装置である。 - 特許庁

An oblique vapor deposition substrate 1 has a plurality of pixel parts 10a arranged apart from each other in two directions (a first direction a and a second direction b) linearly crossing each other, wherein each pixel part 10a is relatively rotated in a plane of the oblique vapor deposition substrate 1 in consideration of a distribution of vapor deposition directions of an oblique vapor deposition layer.例文帳に追加

本発明の斜方蒸着基板１は、複数の画素部１０ａが、直線的に交差した２方向（第１方向ａ、第２方向ｂ）に間隙を有して配列され、斜方蒸着膜の蒸着方向の分布を考慮して、各画素部１０ａが斜方蒸着基板１の面内において相対的に回転されていることを特徴とする。 - 特許庁

The organic EL panel includes: a translucent supporting substrate; a plurality of light emitting parts S1-S8 on which a first electrode, an organic light emitting layer, and a second electrode are laminated; and a plurality of wiring parts L1 to L8 formed on the supporting substrate and supplying a current to each of the light emitting parts S1-S8.例文帳に追加

透光性の支持基板と、前記支持基板上に透光性の第一電極と有機発光層と第二電極とを積層形成してなる複数の発光部Ｓ１〜Ｓ８と、前記支持基板上に形成され各発光部Ｓ１〜Ｓ８に個別に電流を供給する複数の配線部Ｌ１〜Ｌ８と、を備える有機ＥＬパネルである。 - 特許庁

One end of a base metal layer 26, formed by electroless plating etc., of fourth wiring 24 of the printed wiring board 21 is connected to a land 13a of second wiring 13 provided on a lower surface of a sealing film 12 including a columnar electrode (projection electrode) 11 of the semiconductor construction 1 through electric conduction holes 33 and 35 of a film substrate (insulating substrate) 22.例文帳に追加

半導体構成体１の柱状電極(突起電極)１１を含む封止膜１２の下面に設けられた第２の配線１３のランド１３ａに、プリント配線板２１の第４の配線２４の無電解メッキ等により形成された下地金属層２６の一端部をフィルム基板（絶縁性基板）２２の導通用孔３３、３５を介して接続する。 - 特許庁

A current non-injection region where the contact layer 7 contacts the dielectric film 8 is formed on the upper surface of the ridge part 6a in the vicinity of the resonator end face, and the first electrode 9 and the second electrode 10 are formed separately from the upper surface region of the dielectric film 8 excluding a sidewall surface of the opening in the current non-injection region.例文帳に追加

共振器端面近傍のリッジ部６ａの上面において、コンタクト層７と誘電体膜８とが接する電流非注入領域が設けられ、第一電極９及び第二電極１０は、前記電流非注入領域における前記開口部の側壁面を除く誘電体膜８の上面領域から離間して設けられている。 - 特許庁

In the display device P, a second glass plate 6, which is oppositely arranged to a first glass plate 4 and an opaque or colored resin film 5 adhered to a portion of one side of the first glass plate 4 by a pressure sensitive adhesive layer 10 or the like so as to place the resin film 5 therebetween, is adhered by an active energy line curable resin 12 or the like.例文帳に追加

第１ガラス板４と、この第１ガラス板４の片面の一部に感圧接着層１０などによって接着された不透明または有色の樹脂フィルム５とに対して、同樹脂フィルム５を間に挟むように対向配置された第２ガラス板６が活性エネルギー線硬化性樹脂１２などによって接着されているディスプレイ装置Ｐとした。 - 特許庁

Provided is a bonded optical element which includes a first optical element having a concave face, a second optical element having a convex face at a position opposing to the concave face, and an adhesive layer adhering the convex face to the concave face, wherein the radius of curvature of the concave face is larger than the radius of curvature of the convex face.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明は、凹面を有する第１光学素子と、前記凹面と対向する位置に凸面を有する第２光学素子と、前記凸面と前記凹面とを接着させる接着層と、を備え、前記凹面の曲率半径は、前記凸面の曲率半径よりも大きいという特徴を有する、接合光学素子が得られるものである。 - 特許庁

The micro-shutter includes: a reflective layer which includes a plurality of first openings transmitting a portion of external light, and reflecting the remaining portion of the external light; a shutter which includes a plurality of second openings corresponding to the first openings to transmit the portion of the external light; and a first actuator which is provided at one side of the shutter and includes at least three electrodes.例文帳に追加

前記マイクロシャッタは、外部光の一部を透過する複数の第１開口部を有し、残りの外部光を反射する反射層と、複数の第１開口部に対応し、前記外部光の一部を透過する複数の第２開口部を含むシャッタと、シャッタの一側に配置され、少なくとも３つの電極を含む第１作動器とを含む。 - 特許庁

The catheter includes a flexible tubular body constituted of a first region for forming a leading end region and a second region for forming a base end region and is characterized in that a coil, wherein a linear member which is wound in a circumferential direction, is provided in the wall of at least a part of the tubular body as a reinforcing layer.例文帳に追加

先端部側領域を形成する第一領域と、基端部側領域を形成する第二領域と、から構成される可撓性の管状体を有するカテーテルであって、前記管状体の少なくとも一部の壁内に、線状部材が円周方向に巻回されたコイルを補強層として備えていること特徴とする。 - 特許庁

The metal oxide layer is formed on the surfaces of a cage by contacting the surfaces at the predetermined parts with a first solution essentially composed of water, alkoxy metal salt, lower alcohol and metal oxide minute particles and having a pH of 6 or less and by then contacting them with a second solution containing alkali metal salt and having a pH of 11 to 13.例文帳に追加

所定部位の表面を、水と、アルコキシ金属塩と、低級アルコールと、金属酸化物微粒子と、を必須成分とし、ｐＨが６以下である第一の溶液に接触させた後、アルカリ金属塩を含有し、ｐＨが１１〜１３である第二の溶液に接触させることにより、保持器の表面に金属酸化物層を形成する。 - 特許庁

The cathode 2 is constituted of a laminated film of a first transparent conductive film 2a; a light-transmitting thin film 2b made of a metal thin film; and a second transparent conductive film 2c, which is laminated in the thickness direction of the organic EL layer 8, and the metal thin film is formed with two kinds or more of metals selected from among a group of silver, indium, gold, magnesium, and tin.例文帳に追加

陰極２は、有機ＥＬ層８の厚み方向において積層された第１の透明導電膜２ａと金属薄膜からなる透光性薄膜２ｂと第２の透明導電膜２ｃとの積層膜により構成され、金属薄膜は、銀、インジウム、金、マグネシウム、錫の群から選択される２種類以上の金属により形成されている。 - 特許庁

The method peels the second substrate (S2) from the inside or interface of the peeling layer (3) while giving a vibration (53) to the laminate substrate.例文帳に追加

本発明に係る剥離方法は、剥離層(3)とその上部に形成された半導体素子(55)とを有する第１基板(S1)と、前記第１基板の前記半導体素子形成面と接着層(18)を介して接合された第２基板（S2)とを有する積層基板(S)の剥離方法であって、前記積層基板に振動(53)を与えつつ前記剥離層(3)の層内又は界面から前記第２基板(S2)を剥離する。 - 特許庁

The memory element comprises a first electrode arranged on a substrate, composite fine particles arranged on the first electrode with a layer containing an organic compound having a memory function being formed on the surface of the fine particles, and a second electrode arranged through the composite fine particles.例文帳に追加

前記の課題を解決するためになされた本発明のメモリ素子では、基板に配置された第１の電極と、該第１の電極上に配置された、メモリ機能を有する有機化合物を含む層が微粒子の表面に形成された複合微粒子と、該複合微粒子を介して配置された第２の電極から構成されることを特徴とする。 - 特許庁

The liquid crystal display device includes a liquid crystal display panel 10, a lower polarizing plate 30 stuck to the liquid crystal display panel 10, a backlight module 16 including an optical sheet 20 and a frame 24 enclosing the optical sheet 20, and a second adhesive layer 32 present between the lower polarizing plate 30 and the optical sheet 20 with the frame 24.例文帳に追加

液晶表示装置は、液晶表示パネル１０と、液晶表示パネル１０に貼り付けられた下偏光板３０と、光学シート２０及び光学シート２０を囲むフレーム２４を含むバックライトモジュール１６と、下偏光板３０と、光学シート２０及びフレーム２４と、の間に介在する光透過性の第２粘着層３２と、を有する。 - 特許庁

A second insulating film 104, a third insulating film 105 which is the inorganic film having an Si-H coupling and the low dielectric constant, and a fourth insulating film 106 are successively laminated on a laminate 100 having a first insulating film 102 formed on a semiconductor substrate 101 and lower-layer wiring 103 formed on the insulating film 102.例文帳に追加

半導体基板１０１上に形成された第１絶縁膜１０２及び第１絶縁膜１０２上に形成された下層配線１０３を有する積層体１００上に順次第２絶縁膜１０４、Ｓｉ−Ｈ結合を有する無機低誘電率膜である第３絶縁膜１０５及び第４絶縁膜１０６を積層する。 - 特許庁

In the display device, the peripheral drive circuit and the active matrix circuit are formed on the first substrate, the spacer, for maintaining the interval between the first substrate and the second substrate and made of the resin material, is disposed at the upper part of the peripheral driving circuit and a resin layer is formed between the peripheral drive circuit and the spacer.例文帳に追加

また、周辺駆動回路及びアクティブマトリクス回路が第１の基板に形成され、前記第１の基板と第２の基板との基板の間隔を保持する、樹脂材料でなるスペーサーが前記周辺駆動回路の上方に配置され、樹脂層が前記周辺駆動回路と前記スペーサーとの間に形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

It also includes a plurality of element formation areas 22, first insulation walls 32 surrounding the respective element formation areas 22, conductive walls 34 surrounding the first insulation walls 32, and second insulation walls 36 surrounding the conductive walls 34 when viewing the cross section parallel to the surface of the active layer 20.例文帳に追加

活性層２０を表面に平行する断面で観察すると、複数の素子形成領域２２と、各々の素子形成領域２２を囲繞している第１絶縁側壁３２と、各々の第１絶縁側壁３２を囲繞している導電側壁３４と、各々の導電側壁３４を囲繞している第２絶縁側壁３６が観測される。 - 特許庁

The manufacturing method of the foamed wallpaper comprises a first process (1) for extruding at least two resin layers containing a foaming agent-containing resin layer in a molten state to form a laminate, a second process (2) for cooling the laminate obtained in the first process and a third process (3) for laminating a paper base material to the cooled laminate.例文帳に追加

発泡壁紙を製造する方法であって、（１）発泡剤含有樹脂層を含む２層以上の樹脂層を溶融押し出しすることにより積層体を形成する第１工程、（２）第１工程で得られた積層体を冷却する第２工程及び（３）冷却された積層体に紙質基材を積層する第３工程 を含む、発泡壁紙の製造方法。 - 特許庁

The semiconductor laser element manufacturing method has a first step in which a striped ridge structure 8, 9 is formed to the upper part of a laminated structure, including an active layer 5 formed on a substrate 1, and a second step for forming a Schottky barrier SB on the upper face of the laminated structure, other than the ridge structure 8, 9 by utilizing ion bombardment.例文帳に追加

本発明に係る半導体レーザ素子の製造方法は、基板１上に形成された活性層５を含む積層構造の上部に、ストライプ状のリッジ構造８、９を形成する第１工程と、イオン衝撃を利用してリッジ構造８、９以外の積層構造の上面にショットキーバリアＳＢを形成する第２工程とを有する。 - 特許庁

The electrophoretic display device 20 is provided with an electrode, a pair of opposing substrates and an electrophoretic dispersion liquid layer arranged between the pair of substrates and having an electrophoretic dispersion liquid containing at least a kind of electrophoretic particles and has a first display region 81 and a second display region 82 with mutually different display colors.例文帳に追加

本発明の電気泳動表示装置２０は、電極と、対向する１対の基板と、該１対の基板間に設けられ、少なくとも１種の電気泳動粒子を含む電気泳動分散液を有する電気泳動分散液層とを備え、表示色が互いに異なる第１の表示領域８１と、第２の表示領域８２とを有している。 - 特許庁

The developing device 12 including a toner conveying body 13 which conveys first toner and a restricting member 15 which restricts the thickness of a layer of the first toner conveyed by the toner conveying body 13 coats the surface of the restricting member 15 with second toner having a charging quantity per unit mass different from the charging quantity of the first toner per unit mass.例文帳に追加

第１のトナーを搬送するトナー搬送体１３及びトナー搬送体１３に搬送される第１のトナーの層の厚さを規制する規制部材１５を含む現像装置１２において、規制部材１５の表面に、第１のトナーの単位質量当たりの帯電量と異なる単位質量当たりの帯電量を備える第２のトナーを塗布する。 - 特許庁

Between layers of the second TFT90 and the transparent substrate 2, a dielectric multilayer film 30 for constituting a light resonance device 3 is formed, and between the layers of dielectric multilayer film 30 and the pixel electrode 4, the interlayer-insulating film 5 at an area flatly superposed on the light emitting layer 65, a gate-insulating film 92, and the insulation-protecting film 20 are removed.例文帳に追加

第２のＴＦＴ９０と透明基板２との層間に、光共振器３を構成する誘電体多層膜３０が形成され、誘電体多層膜３０と画素電極４との層間では、発光層６５と平面的に重なる領域の層間絶縁膜５、ゲート絶縁膜９２および絶縁保護膜２０が除去されている。 - 特許庁

The semiconductor substrate which has the initial thickness (first thickness) has only the element formation portion made thin to a second thickness and after a metal layer is formed on its backside, the initial peripheral part which still has the initial thickness (first thickness) of the semiconductor device is ground from the backside to a third thickness to form a peripheral portion which has a small step with the element formation portion.例文帳に追加

初期の厚み（第１の厚み）を有する半導体基板の、素子形成部のみを第２の厚みまで薄化し、その裏面に金属層を形成した後、初期の半導体基板の厚み（第１の厚み）を残した初期周辺部を裏面側から第３の厚みになるまで研削し、素子形成部との段差が少ない周辺部を形成する。 - 特許庁

This roof structure is formed by laying a plurality of solar battery panels 4 for arranging a solar battery (a sunlight power generation module 43) in a first frame 42, and plant cultivating panels 5 for arranging a plant cultivating layer 53 of cultivating greening plants in a second frame 52 having the same dimension in a plane shape as the first frame 42, on the roof surface 2 of the building 1.例文帳に追加

本発明に係る屋根構造は、第１の枠４２内に太陽電池（太陽光発電モジュール４３）が設けられてなる太陽電池パネル４と、第１の枠４２と平面形状が同寸法の第２の枠５２内に緑化植物が植栽された植栽層５３が設けられてなる植栽パネル５とが、建物１の屋根面２に複数敷設されている。 - 特許庁

Thereafter a second intermediate 42 is obtained by inserting the first intermediate 41 bearing the through-holes 14 to a mold 33 on which a suction hole 34 is formed, and sucking a heated non permeable thermoplastic film 25 toward the entire inner surface of container body 11 and sticking the same to the entire inner surface of container body 11 thereby forming a waterproof layer 15.例文帳に追加

次に、貫通孔１４が形成された第１の中間体４１を吸引孔３４が形成された金型３３に挿入し、加熱した非透水性の熱可塑性フィルム２５を容器本体１１の内面全体に向かって吸引し、容器本体１１の内面全体に貼り付けて耐水層１５を形成して第２の中間体４２を得る。 - 特許庁

The second catalyst layer 11b is a simple substance catalyst, a mixture catalyst, or a composite oxide catalyst of one or more substances selected from a group consisting of iron-alumina, iron-zirconia, iron-ceria, and iron-titania and shows catalytic activity of decreasing 60% or more of NO_x contained in exhaust gas at an exhaust gas temperature in a temperature range of 400 to 700°C.例文帳に追加

また第２触媒層１１ｂは鉄−アルミナ、鉄−ジルコニア、鉄−セリア及び鉄−チタニアからなる群より選ばれた１種又は２種以上の単体触媒、混合触媒又は複合酸化物触媒からなり４００〜７００℃の温度範囲の排ガス温度で排ガスに含まれるＮＯｘの６０％以上を低減する触媒活性を示す。 - 特許庁

When an ink ribbon 23 is rewound by the second predetermined quantity along with the direction opposite to the printing line by revolving an ink ribbon spool and rewinding the ink ribbon 23 to the ink ribbon spool in the direction opposite to the printing line, an abrasive layer 23A in the ink ribbon 23 is moved into the state of contact with the thermal head 13, and then the thermal head 13 is cleaned.例文帳に追加

インクリボンスプールを回転し、インクリボン２３を印字方向とは逆方向にインクリボンスプールに巻き戻すことにより、印字方向とは逆方向に沿ってインクリボン２３が第２所定量巻き戻される際、インクリボン２３における研磨層２３Ａをサーマルヘッド１３への当接状態にし、サーマルヘッド１３のクリーニングを行うように構成する。 - 特許庁

A core material composed of a stereoscopic network structure with rigid softness M (N.cm) of 1≤M≤14 is placed in the middle layer 9 formed in between the first and second futon layers which are made by filling down 4 and/or feather 5 in surface cloth 3 stereoscopically quilted in sections.例文帳に追加

第一布団層と第二布団層との間に中間層を有する多層構造敷き布団において、升目状に立体キルティングされた側地内に羽毛及び／又は羽根を充填した第一布団層と第二布団層との間に形成される中間層に、剛軟度Ｍ（Ｎ・ｃｍ）が、１≦Ｍ≦１４の立体網状構造物からなる芯材を配置する。 - 特許庁

To provide an induction heating coil capable of performing the uniform heating so as to form a uniform hardened layer pattern on a surface continuous to first and second stepped parts from a small diameter shaft part of a stepped shaft-like member without fitting any magnetic material (a magnetic flux focusing member) such as a dust core and a silicon steel plate.例文帳に追加

ダストコアや珪素鋼板等の磁性材（磁束集中材）を加熱導体に取付けなくても、段付き軸状部材の小径軸部から第１及び第２の段部に連なる表面上に均一な焼入硬化層パターンを形成し得るように均一加熱を行うことができるような高周波誘導加熱コイルを提供する。 - 特許庁

The method includes such steps as flowing of oxygen by a first amount, flowing of deuterium by a second amount to form a vapor oxide with the oxygen of the first amount, inserting of a silicon substrate comprising an upper surface into the vapor oxygen, and raising the temperature of the silicon substrate in the vapor oxide to form a dielectrics layer on the upper surface.例文帳に追加

この方法は、第１の量の酸素を流し；第２の量の重水素を流して、前記第１の量の酸素と酸化蒸気を形成し；上面を有するシリコン基板を前記酸化蒸気内に挿入し；前記酸化蒸気中で前記シリコン基板の温度を上昇させて、前記上面上に誘電体層を形成するステップを備える。 - 特許庁

The via contact 18 is not formed on an area within at least twice or less of the disposing pitch of a diffused layer region from the short side of the first connecting wiring 12 at the end of the first connecting wiring 12 opposed to the end of the lead wiring 16 to the second connecting wiring 13 via an element region 11.例文帳に追加

そして、引出し配線１６が第２の接続配線１３に接続されている端部と素子領域１１を挟んで対向する第１の接続配線１２の端部において、第１の接続配線１２の短辺から拡散層領域の配置ピッチの少なくとも２倍以内の領域にはビアコンタクト１８が形成されていない構成とする。 - 特許庁

Concerning the method for producing the honeycomb structure by the minute shells which includes the first, second, and third processes, while the surface formed with the recesses is turned in the gravity action direction, a coating layer by the honeycomb material is formed, the honeycomb material is stretched by expanding the gas in the closed spaces, and the honeycomb material is dried.例文帳に追加

上記第１工程と第２工程と第３工程とからなる微細なシェルによるハニカム構造体の製造方法について、上記凹部が形成された面を重力の作用方向に向けた状態で、ハニカム材による塗布層を形成するとともに上記密閉空間内のガスを膨張させてハニカム材を延伸させ、さらに、ハニカム材を乾燥させること。 - 特許庁