1153万例文収録!

「semiconductor processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(50ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > semiconductor processingに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

semiconductor processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 4100



例文

To provide a semiconductor device allowing dynamic restriction of an interrupt request without suspending processing presently during execution in a main controller.例文帳に追加

主制御装置にて現在実行中の処理を中断することなく、割込み要求の制限を動的に行うことの可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a memory module processing apparatus, capable of facilitating work for wiring and inspection of specific data of a memory module, and for inspection of a semiconductor memory or the like.例文帳に追加

メモリモジュール処理装置は、メモリモジュールの特定データの書込みおよび検査、および半導体メモリなどの検査の作業を容易にすることができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit device and an image processing system which do not need the reduction of data transfer amount and an externally mounted distribution means.例文帳に追加

データ転送量の削減と外付け分配手段を必要としないことを可能とする半導体集積回路装置及び画像処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor-device that achieves a charge-trap flash memory capable of executing high-speed processing and having high charge-retention characteristics.例文帳に追加

高速処理が可能で、かつ電荷保持特性の高いチャージトラップ型フラッシュメモリを得ることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

A ring zone radius r_n and a phase distribution P1 are derived from a first design grid space a1 which is sufficiently smaller than the minimum processing size of the semiconductor process.例文帳に追加

半導体プロセスの最小加工寸法より十分に小さい第1の設計グリッド間隔a1で輪帯半径r_nと位相分布P1を求める。 - 特許庁


例文

To provide a semiconductor circuit that can realize high speed processing and low power consumption while minimizing the manufacturing cost and increase in a layout area.例文帳に追加

製造コスト及びレイアウト面積の増加を必要最小限に抑制しながら、高速化及び低消費電力化を実現できる半導体回路を提供する。 - 特許庁

Improved accuracy in fault detection can be accomplished by employing a variety of sensor types to predict the behavior of the semiconductor processing tool.例文帳に追加

故障検出の精度改善は、半導体処理ツールの挙動を予想するために種々のセンサ型を用いることにより達成させることができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a GaN-based semiconductor substrate, which can improve productivity by sharply shortening time required for surface processing treatment.例文帳に追加

表面加工処理の所要時間を大幅に短縮化して生産性を向上できるGaN系半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of plasma-processing a chalcogen compound semiconductor film containing chalcogen elements that do not cause side etching, in a phase change device manufacturing step.例文帳に追加

相変化デバイスの製造工程において、サイドエッチングを世紀させないカルコゲン元素を含んだカルコゲン化合物半導体膜のプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method and an apparatus of manufacturing a semiconductor whereby the variations of the concentrations of sulfuric acid and HF can be prevent in an SFM processing.例文帳に追加

SFM処理における硫酸、HFの濃度変動を抑えることが可能な半導体製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide the manufacturing method or the laser irradiation method of a semiconductor device using a laser crystallization method for efficiently improving a substrate processing.例文帳に追加

基板処理の効率を高めることができるレーザー結晶化法を用いた半導体装置の作製方法またはレーザー照射方法の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a method of plasma-processing a chalcogen compound semiconductor film containing chalcogen elements, not causing the side etch, in a phase change device manufacturing method.例文帳に追加

相変化デバイスの製造工程において、サイドエッチングを世紀させないカルコゲン元素を含んだカルコゲン化合物半導体膜のプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tape for semiconductor processing using a plastic film whose surface is embossed as a separator without coating a release agent such as polydimethylsiloxane (PDMS).例文帳に追加

ポリジメチルシロキサン(PDMS)等の離型剤を塗布することなく、表面をエンボス加工したプラスチックフィルムをセパレータとした半導体加工用テープを提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING INK JET FUNCTION, MANUFACTURE THEREOF, INK JET HEAD USING IT, INK JET RECORDER, AND INFORMATION PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

インクジェット機能を有する半導体装置およびその製造方法、該半導体装置を使用するインクジェットヘッド、インクジェット記録装置、および情報処理システム - 特許庁

To improve processing accuracy of a semiconductor device manufacturing method by specifying a hydrogen concentration to control an etching rate in pyrolysis using hydrogen.例文帳に追加

水素を用いた熱分解において、水素濃度を規定してエッチング速度を制御することで、半導体装置の製造方法の加工精度を向上させる。 - 特許庁

The second module 12 consists of a pixel unit processing part 31 and a frame buffer 32, and these parts are also arranged adjacently to each other on the semiconductor chip.例文帳に追加

第2のモジュール12は、ピクセル単位処理部31及びフレームバッファ32から構成され、これらも半導体チップ上で互いに近接して配置されている。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit capable of reducing electric power consumption by using a clock signal of a frequency suiting a processing content.例文帳に追加

処理内容に適した周波数のクロック信号を用いることにより、消費電力を低減することの可能な半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

A main surface of the stepped film 10 is bonded to a main surface of a semiconductor substrate 7 with the grooved wiring thereon in a compression and heating processing apparatus.例文帳に追加

段差膜10の主面と、溝配線22が形成された半導体基体7の主面とを加圧加熱処理装置内において貼り合わせる。 - 特許庁

To provide a semiconductor processing system and method which enables a precise and high-speed monitor and control of the level of water vapor present as process gases.例文帳に追加

プロセスガスとして存在する水蒸気のレベルの正確で高速なモニターおよび制御を可能にする半導体処理装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device which enables high processing speed when set operation, reset operation, of read operation is executed for a memory cell array.例文帳に追加

メモリセルアレイに対しセット動作、リセット動作又はリード動作を実行する際に、処理速度を高速化することのできる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

While the surface temperature of the semiconductor wafer is kept at an almost constant processing temperature T2, also a temperature at a position slightly deeper from the surface is raised by some extent.例文帳に追加

半導体ウェハーの表面温度を概ね一定の処理温度T2に維持しつつも、表面よりやや深い位置をもある程度昇温することができる。 - 特許庁

To provide a pattern correction device capable of quickly and accurately performing correction processing of a pattern for use in manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造に用いるパターンの補正処理で、高速でしかも高精度に補正処理を行うことができるパターン補正装置を提供する。 - 特許庁

An epitaxial growth system 10 comprises a chamber section 12 for placing a semiconductor wafer 100, and a section 16 for supplying processing gas into the chamber.例文帳に追加

エピタキシャル成長装置10は、半導体ウェハ100を配置するチャンバ部12とチャンバ内に処理ガス等を供給するガス供給部16とを備えている。 - 特許庁

In this processor controller, a first semiconductor substrate 100 is integrally integrated with a plurality of processors 10, 12, 14, 16 executing different processing.例文帳に追加

演算処理装置において、第1半導体基板100は、異なる処理を実行する複数のプロセッサ10、12、14、16が一体に集積化される。 - 特許庁

To validly exclude sudden abnormal fluctuating values (drift components) from a measured value group cause to feedback to the processing condition decision of the manufacture of a semiconductor product.例文帳に追加

半導体製品の製造の処理条件決定にフィードバックさせる測定値群から、突発的な異常変動値(ドリフト成分)を有効に排除する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a connection portion having a structure which hardly receives damage to wiring during processing of a contact hole and suppresses a decrease in reliability.例文帳に追加

コンタクトホールの加工時において配線のダメージを受けにくく、信頼性の低下を抑制できる構造の接続部を有する半導体装置を提供すること。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device of an embodiment includes a deposition step, a processing step, an ion implantation step, an annealing step, and an adjustment step.例文帳に追加

実施形態にかかる半導体装置の製造方法は、成膜工程と、加工工程と、イオン注入工程と、アニール工程と、調整工程とを含む。 - 特許庁

To perform image processing by using data read out from a semiconductor chip capable of reading out stored data in a non-contact state.例文帳に追加

記憶させたデータを非接触で読み取ることができる半導体チップを応用して、半導体チップから読み出したデータを用いて画像処理を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor processing method of forming a contact pedestal, an integrated circuit using the contact pedestal, and a method of forming a storage node of a capacitor.例文帳に追加

接点ペデスタルを形成する半導体処理方法、接点ペデスタルを用いた集積回路、及びキャパシタの記憶ノードを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing line of semiconductor device comprises conveyance means for conveying wafers along a route of movement extending to lap multiple times, and multiple processing devices.例文帳に追加

複数回周回するように伸びる移動経路に沿ってウエハを搬送する搬送手段と、複数の加工装置を備えた半導体装置の製造ライン。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an electrostatic discharge protection circuit capable of reducing processing steps, the development period, and the size.例文帳に追加

プロセス工程及び開発期間を減らし、サイズを小さくすることができる静電気放電保護回路を有する半導体装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, which enables fill the interior of a microscopic contact hole with an Al material with good reproducibility and is adaptable to batch processing.例文帳に追加

微細なコンタクトホール内を再現性良くAl材料で埋め込むことが可能で、バッチ処理に適した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method, a manufacturing apparatus, and manufacturing system for a semiconductor processing liquid including a cyanide ion which is safe and has an excellent industrial productivity.例文帳に追加

シアン化物イオンを含む半導体処理液の安全かつ工業生産性に優れた製造方法、製造装置及び製造システムを実現する。 - 特許庁

To provide an information processing apparatus achieving efficient data access when including a nonvolatile semiconductor memory as a cache.例文帳に追加

不揮発性半導体メモリをキャッシュとして内蔵する場合におけるデータアクセスを効率的に行うことを実現した情報処理装置を提供する。 - 特許庁

The encoder unit 10 includes a processing circuit 14 and the detecting circuit 16 and is integrally formed on the same semiconductor substrate and integrated to achieve compactness.例文帳に追加

エンコーダユニット10は処理回路14及び検出回路16を含んで同一半導体基板上に一体形成され、小型化及び集積化が図られる。 - 特許庁

An address included in the readout input pattern data IP is transferred to a semiconductor memory 10 and descramble processing is performed in a security circuit 11.例文帳に追加

読み出された入力パターンデータIPに含まれるアドレスは、半導体メモリ10に転送され、セキュリティ回路11においてデスクランブル処理される。 - 特許庁

To provide a data storage device and a data management method for improving a processing speed when reading data from a non-volatile semiconductor memory.例文帳に追加

不揮発性半導体メモリからデータを読み出す際の処理速度を向上させることが可能なデータ記憶装置及びデータ管理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a data processor and a semiconductor integrated circuit, that can increase data processing capabilities without increasing radiation electromagnetic noise.例文帳に追加

放射電磁雑音を増大させることなくデータ処理能力を高めることが可能なデータ処理装置および半導体集積回路を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device easy to control its operation characteristics and having a transistor advantageous to miniaturization, and to provide its manufacturing method and a data processing system.例文帳に追加

動作特性の制御が容易で微細化に有利なトランジスタを有する半導体装置およびその製造方法並びにデータ処理システムを提供する。 - 特許庁

First and second semiconductor wafers W1 and W2 are disposed within a processing vessel 1 as stacked in an upper/lower positional relation but with a spacer S disposed therebetween.例文帳に追加

第1および第2の半導体ウエハW1,W2は、スペーサSを介して上下に重ね合わせた状態で処理容器1内に配置される。 - 特許庁

To provide a nonvolatile semiconductor memory device which is capable of effectively increasing a dispersion of data, and preventing unnecessary data randomization processing.例文帳に追加

データのばらつきを有効に大きくすることができると共に、無駄なデータランダマイズ処理を防止することができる不揮発性半導体記憶装置を提供すること。 - 特許庁

CALCULATION METHOD OF STORED ENERGY AND PROXIMITY EFFECT, PROGRAM MEMORY MEDIUM, DESIGNING METHOD OF MASK OR RETICLE PATTERN, AND PROCESSING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

蓄積エネルギー計算方法、プログラム記憶媒体、近接効果計算方法、マスク又はレチクルパターンの設計方法、及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁

To provide a compound semiconductor device manufacturing method and a cleaning agent which can appropriately remove residue occurring in processing associated with formation of a recess and the like.例文帳に追加

リセス等の形成に伴う処理で生じる残渣を適切に除去することができる化合物半導体装置の製造方法及び洗浄剤を提供する。 - 特許庁

To provide a method of removing a substrate structure can improve the efficiency of separating a semiconductor layer and a substrate by etching and suppress a processing cost.例文帳に追加

半導体層と基板をエッチングで分離する効率を高め、かつプロセスにかかる費用を抑えることができる、基板構造体を除去する方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of processing a high dielectric capacitor film in an excellent shape and improving yield.例文帳に追加

高誘電体キャパシタ膜を良好な形状に加工することができ、歩留まりを向上することが可能な半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat processing furnace reducing the film thickness variation of a film formed on a semiconductor substrate and suppressing the deviation of the flow of process gas.例文帳に追加

プロセスガスが偏って流れることを抑え、半導体基板上に形成される膜の膜厚バラツキを低減することが可能な熱処理炉を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck, a semiconductor processing system and a separating method of electrostatic chuck where the work for removing an article to be processed from a mounting table can be simplified.例文帳に追加

載置台から被処理体を取り外す作業を簡素化できる静電チャック、半導体処理装置及び静電チャックの脱離方法を提供する。 - 特許庁

To attain a long service life and to eliminate nonuniformity of time concerning synchronous processing by averaging the rewrite frequency of a semiconductor flash memory.例文帳に追加

半導体フラッシュメモリの書換え回数を平均化することによって長寿命化を図るとともに、同期処理に係わる時間の不均一性を解消すること。 - 特許庁

Preferably, the dedicated processor is a dynamically reconfigurable semiconductor device, coping with various kinds of the processing.例文帳に追加

また、専用プロセッサが動的に再構成可能な半導体デバイスであることが好ましく、この場合柔軟に様々な処理に対応することが可能となる。 - 特許庁

例文

To provide a heat shield where a pump is shielded from the thermal energy generated in a semiconductor wafer processing chamber to improve the performance of a cryopump.例文帳に追加

半導体ウェーハ処理チャンバー内に生じた熱エネルギーからポンプをシールドすることによりクライオポンプの性能を向上させる熱シールドを提供する。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS