「shape pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

In a contrast improvement filter 10 obtained by an inventive manufacturing method, a dark color convex pattern layer 2, instead of a dark color strip part, is printed and formed on a transparent base material 1 preferably via a primer layer 3 of a unique thickness shape.例文帳に追加

本発明の製造方法で得られるコントラスト向上フィルタ１０は、透明基材１上に好ましくは特有の厚み形状のプライマ層３を介して、暗色条部の代わりに暗色凸状パターン層２を印刷形成する。 - 特許庁

The auxiliary mask 22 overlaps an area other than the holes H correspondingly to the pattern to be transferred out of the main mask, and shields the area, and has a strip-like plate shape for shielding the holes H of the main mask 21 by two rows.例文帳に追加

補助マスク２２は、主マスクのうち転写対象のパターンに対応する穴Ｈ以外の領域に重ね合わせられ、これを遮蔽するものであり、主マスク２１の穴Ｈを２列分だけ遮蔽する短冊型の板状をしている。 - 特許庁

The imaging apparatus displays a shape nearly the same as that of a zoom operation button and in matching with its zooming direction and a character pattern in a changing directions on a screen of a display apparatus at the start of recording and during recording to display the operating direction and the zoom direction.例文帳に追加

記録開始時及び記録中に表示装置の画面表示にズーム操作ボタンと略同じ形状と方向に合わせた形状表示と変化方向のキャラクタパターンを表示し、操作方向とズーム方向を表示させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, capable of forming a resist pattern having a cross section of inverted tapered shape, markedly superior in heat resistance and in adhesion, even with respect to a substrate having high smoothness, without deteriorating the storage stability.例文帳に追加

保存安定性を損なうことなく、断面が逆テーパー状で、耐熱性が顕著に優れ、かつ平滑性の高い基板に対しても密着性に優れたレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

A substrate device includes the pattern film which is formed on the substrate, has the side face part, and comprises the single layer, wherein the side face part is formed so as to have a plurality of angles of slope toward the substrate surface, or is formed so as to produce a level difference shape.例文帳に追加

基板上に形成され、側面部を有すると共に単一層からなるパターン膜を備え、側面部は、基板の表面に対して複数の傾斜角度を有するように形成され、又は段差状に形成されている。 - 特許庁

To provide a method of producing a molding having a fine pattern on the surface accurately by holding a photopolymerizable composition formed in the shape of a thin film by spin coating, or the like.例文帳に追加

表面に微細パターンを有する成型体の製造方法において、スピンコート法等により薄膜に形成された光重合性組成物を保持し、精度よく微細パターンを有する成型体を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a bag-shaped container easy to grasp and hard to slip, which imparts a quality feeling to the pattern of the bag-shaped container to achieve the differentiation from other bag-shaped container and enhances rigidity to obtain excellent shape retention.例文帳に追加

袋状容器の模様に質感を与えて他の袋状容器との差別化を図り、かつ、剛性を高めて優れた保形性を得ることができ、掴みやすく滑りにくい袋状容器の製造方法を提供する。 - 特許庁

Multiple unit cells P of a second resistive element R2 series-connected to the first resistive element R1 are delimited by an identical rectangular shape to constitute a plane pattern, and include a second thin film F2 and an insulating portion IP.例文帳に追加

第１の抵抗素子Ｒ１に直列接続される第２の抵抗素子Ｒ２の複数の単位セルＰは、同一の長方形状によって外縁が区画された平面パターンであり、第２の薄膜Ｆ２と絶縁部ＩＰとを含んでいる。 - 特許庁

To provide a vehicular illumination device capable of drawing some patterns of the same shape and same size irrespective of a distance ranging from a vehicle when optical images including a predetermined pattern are projected onto a road surface in front of the vehicle.例文帳に追加

車両前方の路面上に所定パターンを含む光画像を投影する場合に、車両からの距離に拘らず、同じ形状及び大きさのパターンを描画することができる車両用照明装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a large degree of freedom of design of a pattern shape, to form a core part of high size precision in an easy method, to maintain optical transmitting performance without generating a defect even in case of bending, and to obtain superior durability.例文帳に追加

パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部を簡単な方法で形成することができ、曲げが作用した場合でも欠陥を生じることなく光伝送性能を維持し、耐久性に優れる。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal wire pattern where a satisfactory metal film can be securely formed on a supporting substrate having a rugged part with an optional shape in a submicron order; to provide a backlight system; and to provide a liquid crystal display using them.例文帳に追加

サブミクロンオーダーの任意形状の凹凸部を有する支持基板上に、良好な金属膜を確実に形成することができるメタルワイヤーパタンの製造方法、バックライトシステム及びそれらを用いた液晶ディスプレイを提供する。 - 特許庁

To make measurable reliably a hardening depth and to make it possible to display a hardening depth pattern, even in a work wherein no boundary layer exists between a thermally affected layer and a base layer, or a work having a complicated shape portion on its surface.例文帳に追加

熱影響層と母層の境界層が存在しないワークや表面に複雑な形状部分を有するワークについても、信頼性のある焼入れ深さの測定を可能とし、焼入れ深さパターンの表示も可能とする。 - 特許庁

To provide a resin wiring board which can realize thin, compact, and highly reliable semiconductor device using a thin resin board, wherein warpage can be made small even when a wiring pattern of different shape is prepared in both sides.例文帳に追加

薄い樹脂基板を用いて、両面に異なる形状の配線パターンを設ける場合であっても、反りを小さくすることができ、薄型、小型、高信頼性の半導体装置を実現できる樹脂配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a body fluid absorbing article the contour shape of which can be visually recognized more clearly by applying a required pressure to decorative parts having a decorative effect in a compressed groove pattern without pressing with relatively large force.例文帳に追加

比較的に大きな力でプレスすることなく、圧搾条溝のうち装飾効果を有する装飾部に所要の圧力を加えてその輪郭形状をより明瞭に視認することのできる体液吸収性物品の提供。 - 特許庁

A phosphor layer 9 having a peak wavelength of 300 nm or more and 400 nm or less is formed into a predetermined light emitting pattern shape on an inner face of the anode substrate 6, and a metal back layer 10 is formed so as to cover the phosphor layer 9.例文帳に追加

陽極基板６の内面には、３００ｎｍ以上４００ｎｍ以下のピーク波長を持つ蛍光体層９が所定の発光パタン形状に形成され、蛍光体層９を覆うようにメタルバック層１０が形成される。 - 特許庁

The photomask is used to manufacture a fine hemispherical structure, such as a microlens, where a gradation pattern 1A, gradually varying in intensity of exposure light from the center part to the peripheral part according to the spherical shape of the hemispherical structure, is formed on a transparent substrate 10 by pattern drawing by means of a drawing device.例文帳に追加

マイクロレンズ等の微小な半球状構造体の製造に用いられるフォトマスクにおいて、透明基板１０上に、前記半球状構造体の球面形状に対応させて、露光した光の強度が中心部から周辺部に向けて徐々に変化するような階調パターン１Ａを、描画装置によるパターン描画によって形成する。 - 特許庁

In a suitable position of a photograph 2, a cut penetrating from the front to the back in a shape surrounding the periphery is provided concentrically, a paper pattern 2 where a plurality of folding pieces 4 are formed concentrically is stuck, the folding pieces 4 of the paper pattern 2 are bent up to determine the cutting range of the photograph while confirming the positional relationship to a photograph image.例文帳に追加

写真８の適宜位置に、周囲を囲むような形状で表裏を貫通する切り込みを同心状に設けて、同心状に複数の折曲片４を形成した型紙２を貼り付け、該型紙２の前記折曲片４を上に折り曲げて、写真画像との位置関係を確認しながら写真の切り抜き範囲を確定する。 - 特許庁

The sheet with the electrostatic eliminating function includes a base sheet 2, a plurality of pattern parts 3 arranged independently along the longitudinal direction of the base sheet and having at least conductive material parts 3a, and electrostatic eliminating parts 5 of strip shape continuously arranged along the longitudinal direction of the base sheet to electrically connect the conductive material parts of the plurality of pattern parts to each other.例文帳に追加

基体シート２と、基体シートの長手方向沿いに独立して配置されかつ少なくとも導電性材料部３ａを有する複数の絵柄部３と、基体シートの長手方向沿いに連続して配置されかつ複数の絵柄部の導電性材料部を互いに電気的に接続する帯状の除電帯部５とを備える。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam, an X-ray or EUV light simultaneously satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, and good line-edge roughness in solving problems associated with performance improving techniques in micro processing of a semiconductor element using the electron beam, the X-ray or the EUV light, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A mask film 17 (a pattern film) having a desired shape is attached onto a substrate 11 being a subject to be processed, a resin film 18 is formed to cover the film 17 and such a recessed part 19 that a pattern of the film 17 is transferred to the film 18 is formed on the film 18 when the film 17 is peeled off together with the film 18.例文帳に追加

加工対象物である基板１１上に所望形状のマスクフィルム１７(パターン膜)を貼付し、このマスクフィルム１７を覆うように樹脂膜１８を形成した後、マスクフィルム１７をマスクフィルム１７上の樹脂膜１８と共に剥離すると、樹脂膜１８にマスクフィルム１７のパターンが転写された凹部１９が形成される。 - 特許庁

A laminated body of an underlayer 8 and a conductor material 11 in the desired shape is formed on a substrate 1 by forming a resist pattern 10 on an underlayer material 9 formed at the surface of substrate 1, conducting the electrolytic-plating of the conductor material 11 to the surface of this underlayer 9 and removing, thereafter, the unwanted underlayer material 9 by peeling the resist pattern 10.例文帳に追加

基板１の表面に成膜した下地材料９上にレジストパターン１０を形成し、この下地材料９の表面に導体材料１１を電解めっきした後、レジストパターン１０を剥離して不要な下地材料９を除去することにより、基板１上に所望形状の下地層８と導体材料１１の積層体を形成する。 - 特許庁

Here, the light-emitting parts 22 are so arranged that major diameters D of adjacent oval shapes of irradiation light overlap each other, so that an outside contour line of the light distribution pattern formed by the irradiation light emitted from each light-emitting part 22 can be formed into a circular shape with smaller unevenness and a circular and uniform light distribution pattern as a whole can be obtained.例文帳に追加

このとき、隣接する長円形状の照明光の長径Ｄ同士が重なるように発光部２２を配置したので、各発光部２２から発せられる照射光により形成される配光パターンの外側輪郭線を、凹凸の少ない円形状とすることができ、全体として円形で均一な配光パターンを得ることができる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using an electron beam, X-ray or EUV light and simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness, high contrast, prevention of conversion to a negative resist composition, and surface roughness, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、高コントラスト、ネガ化防止、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This position detection device has a characteristic wherein a pattern 41a whose shape when viewed from a prescribed position changes following rotation of a rotator 41 is provided on the outer surface of the rotator 41, and the pattern 41a is read by a reading device 43 provided on the prescribed position, and the rotation amount of the rotator 41 is recognized from the read data.例文帳に追加

回転体４１の外面に、所定位置から視た場合の形状が該回転体４１の回転に伴って変化する模様４１ａを設け、この模様４１ａを前記所定位置に設けられた読取装置４３によって読取り、その読取データから前記回転体４１の回転量を認識するようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

Distribution of wave front variation caused by the 0-order diffraction light reflected from the diffraction pattern face is measured based on the interference fringe between the reference light comprising the light reflected from a reference plane 5a and a measuring light comprising the 0-order diffraction light reflected from the diffraction pattern face and then the measurements of plane shape are corrected based on the measured distribution of wave front variation.例文帳に追加

参照面（５ａ）での反射光からなる参照光と回折パターン面での反射０次回折光からなる測定光との干渉縞に基づいて、回折パターン面での反射０次回折で生じる波面変化の分布を測定し、測定した波面変化の分布に基づいて被検面の面形状の測定結果を補正する。 - 特許庁

A method for preparing the connected lines wherein two stock lines respectively consisting of a pattern part and blank parts on both sides thereof are synthesized and one connected line with a shape wherein two pattern parts are arranged through a blank part between the lines with a specified width designated being different from a simple synthesized width of a blank part of two stock lines between them is prepared, is provided.例文帳に追加

本発明は、それぞれ模様部とその両側の余白部とからなる２つの素材罫を合成し、２つの模様部がその間に２つの素材罫の余白部の単純合成幅とは異なる指定された所定幅の罫間余白部を介して並置された形の１つの接合罫を作成する接合罫の作成方法に関する。 - 特許庁

The dummy pattern 3 is arranged while folded in a rectangular wave shape to the line width of a conventional linear pattern and then the peeling load of the dummy seal 3 per unit area of a glass is improved to obtain the large effect that a serious defect which is seal peeling is hardly caused in a process of cutting the stuck glass to a panel individual piece size.例文帳に追加

また、ダミーパターン３を従来の直線パターンの線幅で矩形波状に折り曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりのダミーシール３の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなるという効果も多大と成りうる。 - 特許庁

To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to pattern form and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape.例文帳に追加

高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A method of manufacturing the surface emitting laser element includes: laminating a transparent dielectric layer 111a with an optical thickness of λ/4 on an upper surface of a laminated body; forming, on an upper layer thereof, a first resist pattern 120a defining an outer shape of a mesa structure and a resist pattern 120b protecting a region corresponding to a low reflection rate part included in an emitting region; and etching the dielectric layer 111a.例文帳に追加

積層体の上面に、光学的厚さがλ／４の誘電体層１１１ａを積層し、その上面に、メサ構造体の外形を規定するレジストパターン１２０ａ及び出射領域における反射率が低い部分に対応する領域を保護するレジストパターン１２０ｂを形成・硬化させた後、誘電体層１１１ａをエッチングする。 - 特許庁

The transfer sheet on which a toner image formed on an image carrier is transferred and fixed, whereby the image is formed, contains heat foaming material in the shape of a predetermined pattern in advance, and produces the rising part in the predetermined pattern by heating and pressuring processing after forming the image.例文帳に追加

像担持体上に形成されたトナー像を転写し、定着することにより、画像を形成されることを目的とする転写シートであり、該転写シートは予め所定のパターン状に熱発泡材を含有し、画像形成後における加熱加圧処理により、所定のパターンの隆起部分を発生させることのできることを特徴とする転写シートを提供する。 - 特許庁

In the antenna for reader 15 with an antenna pattern 31, formed on the antenna formation object member 11, such as, the shelf board of the bookstand, a conductive and porous sheet-like member 41, is provided on the antenna formation object member 11 so as to extend in a loop shape, substantially along the outer periphery of the antenna pattern 31 in planar view.例文帳に追加

書架の棚板などのアンテナ形成対象部材１１に形成されているアンテナパターン３１を有するリーダ用アンテナ１５において、導電性で多孔性のシート状部材４１が、平面的に見て上記アンテナパターン３１の外周囲にほぼ沿ってループ形状に延在するように、上記アンテナ形成対象部材１１に設けられている。 - 特許庁

Next, a feature amount vector is extracted by using the feature extraction matrix from the means 4, the similarity of this and the representative feature amount vector from the means 4 is calculated, an input pattern is estimated from this similarity and information on the size and shape of the pattern are effectively taken out to extract features.例文帳に追加

つぎに、入力パターンベクトルと前記学習手段４からの特徴抽出行列を用いて特徴量ベクトルを抽出し、これと学習手段４からの代表特徴量ベクトルとの類似度を計算し、この類似度から入力パターンを推定して、パターンの持つ大きさや形の情報を有効に取り出して特徴抽出を行なう。 - 特許庁

To provide an optical filter and a method of manufacturing the optical filter by which air bubbles are formed because of unevenness due to a metal pattern and the sectional shape of the pattern and then remaining air bubbles make transparency and antireflection effect insufficient, even when laminating is carried out with an adhesive layer, serving as a flattening layer, of an antireflective film with the adhesive layer.例文帳に追加

平坦化層を兼ねる接着剤層付き反射防止フィルムの接着剤層でラミネートする場合でも、金属パターンによる凹凸及びパターンの断面形状が原因で気泡が発生し、残留気泡により透視性や反射防止効果が不十分なものとなるのを防止することのできる光学フィルタとその製造方法を提供する。 - 特許庁

A superconducting filter device (1) has: a filter device substrate (10) forming a superconducting filter pattern (11) of a specified shape; a dielectric substrate (20) loaded on the superconducting filter pattern; a stress dispersing member (22) arranged on the dielectric substrate; and a rigid pressure plate (24) arranged on the stress dispersing member.例文帳に追加

超伝導フィルタ装置（１）は、所定の形状の超伝導フィルタパターン（１１）が形成されたフィルタデバイス基板（１０）と、前記超伝導フィルタパターン上に搭載される誘電体基板（２０）と、前記誘電体基板上に配置される応力分散部材（２２）と、前記応力分散部材上に配置される剛性の加圧板（２４）とを有する。 - 特許庁

The discontinuous points are formed by proper dimension on the reference potential plane positioned near a wiring pattern formed on a semiconductor chip or a package board configuring the semiconductor device, so that the delay elements having desired characteristics can be equivalently and easily added according to the shape of not the signal line side of the wiring pattern but the reference potential plane side.例文帳に追加

半導体装置を構成する半導体チップやパッケージ基板上で形成された配線パターンに近い位置にある参照電位平面に適切な寸法でこの不連続点を形成して配線パターンの信号線側ではなく、参照電位平面側の形状により、所望の特性を有する遅延素子を等価的に容易に付加することが出来る。 - 特許庁

To provide a curable sheet composition, which is capable of following a metal mold shape by heating and pressurizing and of polymerizing to cure by means of photoirradiation and of fixing an optical element molding pattern, and which can mold a lens pattern directly on a glass substrate or the like and is excellent in the adhesiveness to the substrate, and further has the high transparency and weatherability.例文帳に追加

加熱加圧により金型形状に追従し、光照射により重合硬化し光学素子成型パターンを固定化することが出来る硬化性シート組成物であって、ガラス基板などの上に直接レンズパターンを成型でき、基板への密着性に優れ、さらに透明性、耐候性の高い硬化性シート組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition having re-adherability after exposure, and improved in pattern formability with an alkali developer, heat resistance after re-adhesion and pasting ability at low temperature when formed into a film shape; an adhesion sheet using the composition; an adhesive pattern; a semiconductor wafer with an adhesive layer; and a semiconductor device; and a method for manufacturing the device.例文帳に追加

アルカリ現像液によるパターン形成性及び再接着後の耐熱性と、フィルム状に形成されたときの低温貼付性の改善された、露光後の再接着性を有する感光性接着剤組成物、これを用いた接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、並びに半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The pattern 5 is made by copper; i.e., a shape corresponding to the pattern 5 is printed onto the surface of the base 3 using catalytic element containing liquid, and metal component containing liquid including copper is brought into contact with the place where the printing is done to separate out the copper by an electroless plating method.例文帳に追加

パターン５は、銅によって形成されたもので、パラジウム化合物を含有する触媒成分含有液を用いて、パターン５に相当する形状の印刷を基体３の表面に施すとともに、当該印刷が施された箇所に銅を含有する金属成分含有液を接触させて、無電解めっき法にて銅を析出させることによって形成されている。 - 特許庁

To provide a photomask blank which is capable of shortening the dry-etching time by increasing the dry-etching speed of a light shielding film, reducing the film reduction of a resist film, improving resolution and pattern accuracy (CD accuracy) by reducing the thickness of the resist film, and forming a light shielding film pattern having a good cross-sectional shape due to the reduction of the dry-etching time.例文帳に追加

遮光膜のドライエッチング速度を高めることで、ドライエッチング時間が短縮でき、レジスト膜の膜減りを低減することができ、レジスト膜を薄膜化して解像性、パターン精度（ＣＤ精度）を向上でき、ドライエッチング時間の短縮化による断面形状の良好な遮光膜のパターンが形成することができるフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide an imaging recipe generating apparatus and a method thereof in an SEM and the like having reduced a generation period by automatic generation of an imaging recipe for evaluating pattern shape through analysis using a CAD image converted from the CAD data, by measuring each kind of size value such as wiring width of pattern from the observed image.例文帳に追加

ＳＥＭ装置等において、観察画像からパターンの配線幅などの各種寸法値を計測してパターン形状の評価を行うための撮像レシピを、ＣＡＤデータから変換されたＣＡＤ画像を用いた解析により自動生成して生成時間の短縮を図った撮像レシピ作成装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

The information for generating a magnetic signal read by the magnetic reading head of a magnetic card reader is obtained, and a magnetic signal pattern is formed based on a wiring pattern formed into a planar shape having at least one conductive part roughly orthogonal to the magnetic detecting direction of the magnetic head to supply a desired current corresponding to the obtained information.例文帳に追加

磁気カードリーダの磁気読取ヘッドによって読み取り可能な磁気信号を生成するための情報を取得し、磁気ヘッドの磁気検知方向に略直行し、取得した情報に対応して所望の電流を流す少なくとも１本の導電部を有する平面状に形成された配線パターンにより磁気信号パターンを生成する。 - 特許庁

In addition, to clarify a specified section 204 including the changed dummy pattern, a specific dummy pattern is given any change such as thinning, changing of shape or size, etc., thereby specifying the position of the surface picture easily in the semiconductor integrated circuit when the surface picture of the semiconductor integrated circuit is magnified and displayed.例文帳に追加

また、この変化させたダミーパターンを含む一定の区画２０４を明確に示するために、特定のダミーパターンに対して、間引く，形状を変える，大きさを変える等の変化を施すことにより、半導体集積回路の表面画像を拡大して表示した場合に、半導体集積回路内における表面画像の位置をより容易に特定することができる。 - 特許庁

The card includes: a card substrate comprising a single layer or comprising one or more layers of core substrates and an exterior substrate; a reflective layer on the card substrate; and a light permeability pattern on the reflective layer, in which the reflective layer has an irregular shape following the light permeability pattern.例文帳に追加

上記課題を解決するため、本発明では、単層からなるカード基材又は１層以上のコア基材と外装基材からなるカード基材と、カード基材上に反射層を有し、該反射層上に光透過性パターンを有するカードであって、該反射層が該光透過性パターンに追従する凹凸形状を有することを特徴とするカードとする。 - 特許庁