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shape patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3752件
In the liquid crystal display panel obtained by enclosing a liquid crystal into a cell in which a pair of substrates 1 are provided while facing each other through the seal for enclosing the liquid crystal, a main seal pattern 2 composed of the seal arranged inside the panel is formed in a corrugated shape.例文帳に追加
一対の基板1が液晶封入用のシールを介して対面した状態で設けられたセルに液晶を封入した液晶表示パネルであって、パネル内に配置されたシールからなる本シールパターン2を波状に形成した。 - 特許庁
To provide a surface material for a vehicle which has a shape of a well designed pattern, a letter or the like on the surface and is particularly suitable for a seat is exposed to the open air, a seat for the vehicle and a production method of the surface material for the vehicle.例文帳に追加
本発明の目的は、表面にデザイン性に優れた模様や文字などの形状を備え、特に、屋外に曝される座席に適用可能な、車両用表皮材、車両用座席並びに車両用表皮材の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a capacitance sensor and its manufacturing method, making an assembling property between a circuit pattern and a decoration layer enhanced, capable of setting at a mounting site in a three-dimensional shape easily, and with less restriction for producing high-class feeling or high-quality feeling.例文帳に追加
回路パターンと加飾層の組み合わせ性を向上させ、三次元形状の取付箇所に容易に設置することができ、高級感や上質感の演出に制約の少ない静電容量センサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
In a sensor unit 3 of a reticle carrying device as a mask carrying device, drawing error of a pattern is estimated in advance by matching a reticle R mechanically with a predetermined reference in terms of an outer shape reference using a reference member 32, and measuring a mark RM of the reticle R.例文帳に追加
レチクル搬送装置のセンサユニット3において基準部材32を用いてレチクルRを外形基準で機械的に所定の基準に整合させて、レチクルRのマークRMを計測することによりパターンの描画誤差を求めておく。 - 特許庁
On the front end piece, a cut-off fitted for the cross-section shape of the cylindrical mirror body is disposed and a disk made of light-transmissive material decorated with an object such as desired design and pattern is rotatably supported near the cut-off part.例文帳に追加
前記前端片には、前記筒状鏡体の断面形状に即した切欠きを設けるとともに、所望の絵柄や模様などのオブジェクトを施した透光性材料からなる円盤を前記切欠き部位近傍に回転可能に支持させている。 - 特許庁
To provide a chemically amplified positive resist applicable to both a process using an antireflection film and a process not using the film, excellent in resist pattern shape, sensitivity, focal depth-width quality and post-exposure temporal stability and having no substrate dependence.例文帳に追加
反射防止膜を用いたプロセス及び用いないプロセスのいずれにも適用することができ、レジストパターン形状、感度、焦点深度幅特性及び引き置き経時安定性に優れ、かつ基板依存性のない化学増幅型ポジ型レジストを提供する。 - 特許庁
Plane shape is measured based on the fringes being formed through interference of a reference light comprising 0-order diffraction light reflected from the pattern face 7a of the diffraction optical element and a measuring light comprising the light reflected from the plane 8 to be inspected.例文帳に追加
回折光学素子の回折パターン面(7a)での反射0次回折光からなる参照光と被検面(8)での反射光からなる測定光との干渉によって形成される干渉縞に基づいて被検面の面形状を測定する。 - 特許庁
For the stencil reticule for the charged particle ray alignment, the opening part corresponding to a shape of an individual element graphic of a pattern is provided on the membrane, and a surface of the membrane is made hydrophobic.例文帳に追加
メンブレンにパターンの個別要素図形の形状に対応した開口部を設けた荷電粒子線露光用のステンシルレチクルであって、 前記メンブレンの表面が疎水性とされていることを特徴とする荷電粒子線露光用ステンシルレチクルとした。 - 特許庁
The microstructure 11 provided with a plurality of recessed parts 12 composed of a predetermined dimensional shape and the wall parts 13 having a desired dimension and the high aspect ratio between the recessed parts 12, is manufactured by applying Ta plating to this secondary duplicate pattern 8.例文帳に追加
そして、この2次複製型8にTaめっきを施して、所定の寸法形状からなる複数の凹部12と、凹部12の間において所望の寸法及び高いアスペクト比を有する壁部13とが設けられた微細構造体11を製造する。 - 特許庁
The ratio of the isolated hole shape width to the thickness of the photoresist layer is set so that the resist does not remain at the bottom of the main trench after development, but will remain at the bottom of the additional hole pattern (additional trench) made by the additional hole shapes 21.例文帳に追加
フォトレジスト層の厚さに対する孤立穴形状幅の比は、現像後において、主トレンチの底部にレジストが残らず、かつ、付加穴形状21によって出来る付加穴パターン(付加トレンチ)の底部にレジストが残ることとなるようにする。 - 特許庁
The lid 13 is obtained by performing the press forming of a thin metal plate in a box shape whose bottom surface is open, has a pair of extended sections 16 that oppose each other from the lower end, and joints the lower end of the extended sections 16 to the conductive pattern 12a on the insulating substrate 15.例文帳に追加
蓋体13は薄い金属板を底面の開放した箱形にプレス成形したものであり、下端部より対面して一対の延出部16を有し、延出部16の下端を絶縁基板15上の導電パターン12aに接合する。 - 特許庁
To the surface 100A on the minute uneven shape transfer side of a molten resin sheet 100 immediately before being contacted with a second roll 12 of a pattern roll, infrared rays are axially radiated in the roll locally in a long strip by an infrared heater 21.例文帳に追加
パターンロールである第2のロール12と接触する直前の溶融樹脂シート100の微細凹凸形状転写側の表面100Aに、赤外線ヒータ21によって赤外線をロール軸線方向に長い帯状に局部的に放射する。 - 特許庁
To provide a printing mask which can offer the degree of freedom to the shape and arrangement of a pattern of an opening, a screen printing method using the printing mask, a manufacturing method for a photoelectric transducer using the printing mask, and the photoelectric transducer.例文帳に追加
開口部のパターンの形状や配置に自由度をもたすことのできる印刷用マスクと、その印刷用マスクを用いたスクリーン印刷方法と、その印刷用マスクを用いた光電変換素子の製造方法と光電変換素子とを提供する。 - 特許庁
The piezoelectric vibration chip lays by wet etching when forming the external shape of the piezoelectric element plate 12, the electrode pattern 32 in a recess 22 where the angle made by one of main surfaces 12a, 12b of the piezoelectric element plate 12 and a side surface 12c becomes obtuse.例文帳に追加
そして圧電振動片は、圧電素板12の外形を形成するときのウエットエッチングによって圧電素板12の一方の主面12a,12bと側面12cとのなす角が鈍角になった入り込み22に、電極パターン32を引き回している。 - 特許庁
In each of sinusoidal stripe patterns required for measuring a three-dimensional shape utilizing a phase shift method, a projection pattern in which sinusoidal amplitude A_n is changed for each period is generated and projected to the object M to be measured for imaging.例文帳に追加
位相シフト法を利用した3次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンの各々において、1周期毎に正弦波の振幅A_nを変化させた投影パターンを生成して被計測物Mに投影して撮像する。 - 特許庁
To provide a method for forming an etching mask capable of facilitating control of a pattern shape for forming an oblique hole in processing by oblique etching, to provide a method for manufacturing a three-dimensional structure, and to provide a method for manufacturing a three-dimensional photonic crystalline laser device.例文帳に追加
斜めエッチングによる加工に際し、斜め開孔のパターン形状の制御を容易に行うことが可能となるエッチングマスクの形成方法、3次元構造体の製造方法及び3次元フォトニック結晶レーザー素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To accurately detect a shape of a gradation characteristic and enable adequate correction of gradation by a method wherein a continuous gradation pattern is actually outputted on a recording medium by an image forming apparatus capable of representing an intermediate tone to measure the density and the chroma.例文帳に追加
中間調表現が可能な画像形成装置において連続階調パターンを実際に記録媒体上に出力して濃度又は色度を測定し、階調特性の形を正確に知ることができ、適切な階調補正を可能とする。 - 特許庁
This exposure device is used for forming a pattern forming surface of a prescribed shape consisting of a photosensitive layer formed by exposing the photosensitive layer 64 formed on one surface of a body to be exposed, partially curing the photosensitive layer, removing the photosensitive layer of the uncured region and curing the photosensitive layer.例文帳に追加
被露光体の一面に形成された感光層を露光して部分的に硬化させ、未硬化領域の感光層を除去して、硬化した感光層からなる所定形状のパターン形成面を形成するための露光装置である。 - 特許庁
To provide a pattern for an authentication apparatus which can make the exterior shape of film smaller by reducing the number of wiring patterns and the number of terminals in the authentication apparatus for verification of the information received from an IC card and the information of the operated switch.例文帳に追加
ICカードから受信した情報と、操作されたスイッチの情報とを照合する認証装置において、配線パターンの数と端子の数を減らせ、フィルムの外形を小さくすることができる認証装置のパターンを提供する。 - 特許庁
The user can select the household electrical appliance to buy, make a design such as a color, a pattern, or a shape of the external appearance component capable of individually designing by software, transmit the design data, and order the household electrical appliance.例文帳に追加
購入する家庭電化製品を選択して、個別デザインが可能な外観部品に色や柄あるいは形状などのデザインをソフトウェアにより作成し、そのデザインデータを送信すると共に、家庭電化製品の発注処理を行なうことができる。 - 特許庁
To provide an etching method capable of making highly accurate working to a fine pattern and working of a high selection rate to a mask and a base layer be compatible without causing charge-up and etching shape abnormalities in a workpiece, and an etching device.例文帳に追加
被処理物にチャージアップやエッチング形状異常を与えることなく、微細パターンに対して高精度の加工とマスクや下地層に対する高選択比の加工とを両立することができるエッチング方法及びエッチング装置を提供する。 - 特許庁
Thereby, an optical image viewed from the front surface side of a diffusion plate 14 is brought into the state shown in the figure (B), and a longitudinally striped pattern vertically generated when compared with the configuration in which the LEDs 12 are disposed lengthwise and breadthwise in the shape of a matrix can be eliminated.例文帳に追加
これにより拡散板14の前面側から見た光学的像は図(B)に示すような状態となり、縦横にマトリックス状にLED12を配置した構成に比して垂直方向に発生する縦縞模様を解消することができる。 - 特許庁
To provide a resin laminate having a uniform metal crack pattern, which is arbitrary in densiness and roughness, characterized in that there is no irregularity due to a change in thickness or the like, a metal layer is not broken even in a molded product having a complicated shape and design properties are excellent.例文帳に追加
厚み等の変化によるバラツキがなく、また、複雑形状の成形品であっても金属層が破断せず、意匠性に優れた、均一で、緻密から粗大な任意の金属亀裂模様を有する樹脂積層体を提供すること。 - 特許庁
The screen plate for multilayer printing has a projecting part 31 for preventing an overlap in an opening part 4 (portion wherein no emulsion is present) formed by applying an emulsion 3 to meshes 2 knitted of metal thin wires 21 and 22 of stainless steel or the like and by cutting the emulsion 3 through in the shape of a printing pattern.例文帳に追加
多層印刷用のスクリーン版は、ステンレス等の金属細線21、22を編んで成るメッシュ2にエマルジョン3を塗布し、エマルジョン3を印刷パターン状に抜いた開口部4(エマルジョンのない部分)に重なり防止用凸部31を有する。 - 特許庁
The method for production comprises carrying out a step of discharging a pressure-sensitive adhesive forming a basis of the pressure-sensitive adhesive layer from nozzles and forming the pattern in a prescribed planar shape on the surface of the substrate near positions where the belt-like substrate is continuously slit while being transported.例文帳に追加
製造方法は、感圧粘着層のもとになる粘着剤をノズルから吐出させて、基材の表面で所定の平面形状にパターン形成する工程を、帯状の基材を搬送しながら連続的にスリットする位置の近傍で行う。 - 特許庁
A functional resin is printed on a release-treated surface in a limited range with continuous or noncontinuous pattern (shape) to form a functional printed resin coating film 4a, and a pressure-sensitive adhesive is applied to the thus formed printed release sheet 3a and integrally pasted with a film 5.例文帳に追加
剥離処理面に機能性樹脂を、連続、或いは、非連続、の柄(形状)で限定範囲を、印刷により機能性印刷樹脂被膜4aを形成した印刷離型紙3aに、粘着剤を塗布してフイルム5と貼設一体とする。 - 特許庁
A base material 101, having a catalyst layer 102 for plating formed on a surface and a master 200 for plating, having a mask 201 with an uneven shape corresponding to a plating pattern and a reinforcing plate 202 are brought into tight contact and fixed for electroless plating.例文帳に追加
表面にメッキ用の触媒層102を形成した基材101と、メッキのパターンに対応した凹凸形状を有するマスク部201と補強板202を有するメッキ用の原盤200を密着させて固定し、無電解メッキを行う。 - 特許庁
To provide a method and equipment for measurement using a charged particle beam by which connection deviation of a pattern having an optional shape can be measured without drawing step of patterns for measurement to measure the connection deviation and the measurement reproducibility is made high.例文帳に追加
接続ズレを測定するために測定用のパターンの描画工程を必要とせず、また、任意形状のパターンの接続ズレの測定も可能で、測定再現性にも優れた荷電粒子ビームを用いた測定方法および装置を実現する。 - 特許庁
The shape and direction of the beam to be transmitted or received by the antenna are determined by the selected coupling geometry of the coupling edge, as determined by the pattern of electrical connections selected for physical edge features of the coupling edge.例文帳に追加
アンテナによって送信または受信されるビームの形状及び方向は結合エッジの物理的なエッジ構造に対して選択される電気接続のパターンによって決定される、結合エッジの選択された結合幾何形状によって決定される。 - 特許庁
To provide a photomask that can be manufactured at a low manufacturing cost, in which a phase defect due to a residue can be detected and a three-dimensional shape effect can be suppressed, and to provide a method for manufacturing a photomask, a method for designing a pattern of a photomask and a method for manufacturing an electronic device.例文帳に追加
安価な製造コストで製造でき、残渣による位相欠陥を検出でき、かつ3次元形状効果を抑制できるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスクのパターン設計方法および電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁
The cam groove 13 is formed in a shape uniformly providing in each one different size a moving amount of the detection plate 10 moved in accordance with a position of the end fence 5 corresponding to paper of each size, so as to facilitate analysis of a position pattern of the detection part 10.例文帳に追加
そして、各サイズの用紙に対応するエンドフェンス5の位置に応じて移動する検知板10の移動量を異なる1サイズ毎に均等とする形状にカム溝13を形成することで、検知部10の位置パターンの解析を容易にする。 - 特許庁
A number of bielectronic integrating term estimation part 3 estimates the number of the bielectronic integrating terms whose arithmetic results are stored in a storage resource based on the shape pattern of the computation object molecule and the number of total atomic orbits and a cut-off value for the two electronic integrating terms.例文帳に追加
二電子積分項数見積り部3は、計算対象分子の形状パターンおよび総原子軌道数と、二電子積分項に対するカットオフ値とに基づいて、演算結果を記憶資源に格納する二電子積分項の項数を見積もる。 - 特許庁
To provide a structure for mounting a FPC board using a reinforced plate wherein a signal wire pattern can be prevented from being disconnected due to the edge of the FPC reinforced plate when it is bent near the edge thereof by working the shape of the edge thereof.例文帳に追加
補強板を用いたFPCの取付構造において、補強板のエッジ形状を加工することにより、FPCを補強板のエッジ付近で屈曲させたときに、そのエッジによる信号線パターンの断線を防止できるようにする。 - 特許庁
To suppress the occurrence of defects in the shape of a printed pattern in continuous printing by intaglio offset printing, and to expand the widths of filling rate to the printing plate, transfer rate to a blanket for printing and transfer rate to a transfer medium.例文帳に追加
凹版オフセット印刷による連続印刷において印刷パターンの形状不良を低減し、かつ、印刷版への充填速度、印刷用ブランケットへの転写速度並びに被転写体への転写速度の速度幅をそれぞれ拡げることができる。 - 特許庁
This pattern paper for installation of equipment is constituted by forming a bottom surface in correspondence with a shape of a buried part 10a of the equipment, forming a side surface 3 at height corresponded to depth of the buried part 10a on its circumference and providing opening parts 2a, 2b, 3a for scratching at both required positions.例文帳に追加
機器の埋設部10aの形状に合わせて底面2を形成すると共に、その周囲に埋設部10aの奥行きに合わせた高さで側面3を形成し、双方の必要な位置にけがき用の開口部2a,2b,3aを設けた。 - 特許庁
To provide a photomask, manufacturing method of photomask and manufacturing method of semiconductor device which can improve a resist shape on a wafer after a photomask pattern exposure, and obtain sufficient defect detection sensitivity in the defect inspection of the photomask.例文帳に追加
フォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスクの欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
The set of progressive golf clubs with an elliptical pad construction on the back of the striking face corresponds to a location, shape and size of a predetermined golfer's impact pattern for the lofts and lengths of each of the golf clubs in the set.例文帳に追加
楕円形パッド構造が打撃面のバックにある漸進的なゴルフクラブ・ヘッドのセットであって、その楕円形パッド構造はセットの各ゴルフクラブのロフトと長さに関して予め定められたゴルファーの打撃パターンの場所、形及びサイズに対応する。 - 特許庁
The apparatus 6 for production comprises discharging apparatuses 17 for discharging the pressure-sensitive adhesive forming the basis of the pressure-sensitive adhesive layer from the nozzles and forming the pattern in the prescribed planar shape on the surface of the substrate 1 arranged near the positions where the substrate 1 is slit with the blades 8.例文帳に追加
製造装置6は、刃8によって基材1をスリットする位置の近傍に、感圧粘着層のもとになる粘着剤をノズルから吐出させて、基材1の表面で所定の平面形状にパターン形成する吐出装置17を配設した。 - 特許庁
The management box has the number of marks 2 equal to the individual number of accommodatable commodities to be managed and the marks 2 are marks 2a, 2b, 2c, 2d, 2e which symbolize characteristics of a color, a pattern and a shape of the commodities to be managed respectively.例文帳に追加
本発明の管理箱は、収納可能な商品の個数分のマーク2を有しており、前記マークはそれぞれ管理すべき商品の色、模様、形状等の特徴を象徴化したマーク2a、2b、2c、2d、2eであることを特徴とする。 - 特許庁
The pattern having an inclined side wall in its sectional shape is formed by controlling light exposure in the plane direction in a part of a photosensitive layer to be exposed or the direction of blowing of a developer on the exposed photosensitive layer when the photosensitive layer is exposed and developed.例文帳に追加
感光層の露光、現像に伴って、露光部における面方向の露光量又は露光した感光層に対する現像剤の噴出方向をコントロールすることにより、断面形状において傾斜した側壁を有するパターンを形成する。 - 特許庁
An end 30 where the metal contact piece 11 is soldered to the print pattern 12 of the printed board 10 has a bent part 30 bent in a beveling corner shape and is raised almost at right angles to a surface 10a of the printed board 10.例文帳に追加
金属接片11がプリント基板10のプリントパターン12と半田付けされる端部30は、面取り状の角形状をもって屈曲された屈曲部30aを有し、プリント基板10の面10aに対してほぼ垂直に起立されている。 - 特許庁
To provide a dye-containing negative curable composition suitable for use of a dye, excellent in rectangularity of a pattern shape, and having high sensitivity and large latitude to development time, and to provide a color filter using the composition and a method for manufacturing the same.例文帳に追加
染料の使用に好適であり、パターン形状の矩形性に優れ、且つ、高感度で、現像時間に対するラチチュードの広い染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
An example of the adhesion means includes a structure to exhaust air between the master information carriers and the magnetic recording medium by using exhausters 36a and 36b through a plurality of through holes 39 provided in the area where the rugged shape pattern of the master information carriers is not formed.例文帳に追加
密着手段の一例は、マスター情報担体の凹凸形状パターンが形成されていない領域に設けた複数の貫通孔39を通して、マスター情報担体と磁気記録媒体との間を排気装置36a,36bによって排気する構成を含む。 - 特許庁
To provide an excellent positive type resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity and high resolution and giving a resist pattern whose profile is rectangular (free from a T-top shape peculiar to a resist for irradiation with electron beams).例文帳に追加
高感度かつ高解像度で、得られるレジストパターンプロファイルが矩形(特に電子線照射用レジストに特有のT−top形状とならない)である、優れた電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁
The semiconductor random access memory having a complex shape is provided with a ROM device storing an all latent row data pattern to be input to a memory cell array during test procedure, a variable step address generator, a comparing device, and a control device.例文帳に追加
複雑な形状を持つ半導体ランダムアクセス・メモリが、試験手順の間に記憶セル・アレイに入力すべき悉くの潜在的な行データ・パターンを記憶するROM装置、可変ステップ・アドレス発生器、比較装置及び制御装置を備えている。 - 特許庁
Between the substrate W and the holding base 12, a drip-proof plate 14 having almost the same shape as that of the substrate W is disposed in a position distant from the substrate W so as to cover the front surface (pattern surface) Sf of the substrate W from below.例文帳に追加
また、その基板Wと、保持基台12との間には、基板Wとほぼ同一形状を有する防滴板14が基板Wの表面(パターン面)Sfを下方から覆うように基板Wから離間して配置されている。 - 特許庁
To provide a master carrier for magnetic transfer, its manufacturing method, and a magnetic recording medium in which it is possible to prevent erosion of a transfer pattern by an etchant in a wet etching process of shaping a master into substantially a doughnut shape in a master fabricating process.例文帳に追加
マスター作製工程でマスターを略ドーナッツ形状に加工するウエットエッチング工程でのエッチング液の転写パターンへの侵食を防ぐことができる磁気転写用マスター担体及びその製造方法、並びに磁気記録媒体の提供。 - 特許庁
To provide a pattern dimension measuring method capable of measuring a cross-sectional shape using a scanning charged particle microscope such as a STEM (Scanning Transmission Electron Microscope), as to a plurality of cross sections, by one time of sample preparation, and a system therefor.例文帳に追加
STEM等の走査型荷電粒子顕微鏡を用いた断面形状計測を1回のサンプル作成で複数の断面について行うことができるようにしたパターン寸法計測方法及びそのシステムを提供することにある。 - 特許庁
In the transparent resin film 14, a large number of convex lens-like projections 15 or concave lens-like depressions are formed on the surface of the film with the standard screen ruling so as to form a continuous pattern with an arbitrary shape on the surface of the film in to give a lens effect.例文帳に追加
透明樹脂フィルム14はフィルム表面に標準スクリーン線数で多数の凸レンズ状突起15あるいは凹レンズ状凹みを形成し、フィルム表面に任意形状の連続パターンを形成し、レンズ効果を持たせたものである。 - 特許庁
In the manufacturing method of light diffusing plate, a light diffusing plate having a desired diffusing function is obtained by discharging an ink 14 on a white or transparent substrate 11 in the shape of a desired dot pattern with an ink jet device and by sticking the discharged ink 14 to the substrate to form dots 15.例文帳に追加
白色又は透明の基板11上にインクジェット装置により所望のドットパターン状にインク14を吐出し、その吐出したインク14を固着させてドット15を形成することにより、所望の拡散機能を持たせる。 - 特許庁
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