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substrate structuresの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 395件
A metal film 8 is formed on a semiconductor substrate 1 including a first region so that the film thickness of the metal film 8 can be a predetermined film thickness or larger, wherein the first region is a region between gate structures G1, G2 on the semiconductor substrate 1.例文帳に追加
本発明の一実施例によれば、ゲート構造G1,G2間の半導体基板1上の領域である第一の領域に形成される金属膜8の膜厚が、所望の膜厚以上となるように、第一の領域を含む半導体基板1上に、金属膜8を形成する。 - 特許庁
The electromechanical conversion device comprises a semiconductor substrate 7; a semiconductor vibration film 4; and a plurality of elements 3 having at least one of cell structures 1 formed of a vibration film supporting part 6 for supporting a vibration film such that a gap is formed between a surface of the substrate 7 and the vibration film 4.例文帳に追加
電気機械変換装置は、半導体基板7と、半導体振動膜4と、基板7の一方の表面と振動膜4との間に間隙が形成される様に振動膜を支持する振動膜支持部6で形成されるセル構造1を1つ以上有するエレメント3を複数有する。 - 特許庁
The substrate coated with titanium oxide in the double layer structure includes a first layer mainly comprising anatase type titanium oxide, and a second layer comprising a plurality of needle-shaped crystal structures mainly comprising rutile type titanium oxide grown from the first layer, formed on a solid substrate.例文帳に追加
上記二層構造の酸化チタンによって被覆された基板は、アナターゼ型酸化チタンを主構成成分とする第一層、および、第一層から成長させた、ルチル型酸化チタンを主構成成分とする複数の針状結晶構造物からなる第二層が固体基材上に形成されている。 - 特許庁
A porous layer is partially formed in a silicon substrate, and a silicon layer is formed on that substrate, and the formation of a porous layer in that silicon layer is repeated to manufacture the three dimensional porous structure having a plurality of porous regions having different three dimensional structures respectively.例文帳に追加
シリコン基板中に部分的に多孔質層を形成し、その基板上にシリコン層を形成し、そのシリコン層に多孔質層を形成することを繰り返すことによって三次元構造の異なる複数の多孔質領域を有する三次元多孔質構造体を作製する。 - 特許庁
A semiconductor laser 30 is provided with two semiconductor laser elements which have laminated structures formed of different materials and p-side electrodes having the same height and are formed in a monolithic structure on a common substrate and the laser 30 is mounted on a sub-mount substrate.例文帳に追加
本半導体レーザ装置30は、それぞれの積層構造の材料が相互に異なり、p側電極が同じ高さで、共通の基板上にモノリシック構造で形成された2個の半導体レーザ素子を有する半導体レーザ装置であって、サブマウント基板上に装着されている。 - 特許庁
To provide a flexure substrate for suspensions, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive and a method of manufacturing a flexure substrate for suspensions that can prevent generation of wiring defect in spite of structures in which first wiring intersects second wiring in three dimensions.例文帳に追加
本発明は、第2配線が第1配線と立体的に交差する構造を有していても、配線欠陥の発生を防止できるサスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブ、およびサスペンション用フレキシャー基板の製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
According to the method, a dispersion liquid obtained by dispersing the thin wiry structures such as the silicon nanowires 17, is made to flow on a surface of a substrate 11 in the predetermined orientation, and a binding portion (gold nanoparticle 21) at one end of each thin wiry structure is joined to a predetermined binding portion (-SH group) on the surface of the substrate 11.例文帳に追加
シリコンナノワイヤー17などの細線状構造体を分散させた分散液を基板11の表面上を所定の方向に流し、細線状構造体の一端の結合部位(金ナノ粒子21)と基板11の表面の所定の結合部位(−SH基)とを結合させる。 - 特許庁
The indication plate 120 is provided with light scattering structures, such as a surface irregularity structure, the tabular insulated substrate 121 of visible light permeability, and the metal layer 122 deposited on the opposite surface of an observation side of the insulated substrate 121.例文帳に追加
本発明の表示板120は、表面凹凸構造などの光散乱構造を具備し可視光透過性を備えた板状の絶縁基材121と、この絶縁基材121における観察側とは反対側の面上に被着された金属層122とを有することを特徴とする。 - 特許庁
The quantum dot organic electroluminescent element includes: a substrate 100; a first electrode layer 110 on the substrate 100; a plurality of quantum dot structures 120 including an organic electroluminescent layer on the first electrode layer 110; and a second electrode layer 130 on the quantum dot structure 120.例文帳に追加
本発明の量子ドット有機電界発光素子は、基板100と、基板100上の第1電極層110と、第1電極層110上の有機発光層を含む複数の量子ドット構造120と、量子ドット構造120上の第2電極層130と、を含む。 - 特許庁
In Fig.(a) and Fig.(b) being an equivalent circuit thereof, p-diffusion is carried out in an n-well (n-type well) 220 of a p-type substrate 210 to form p-n-p structures 230 and 240 (refer to right and left rectangles in the well) by utilizing the p-type substrate under the n-well 220.例文帳に追加
(a)とその等価回路である(b)において、p型基板210のn−well(n型ウエル)220内にp拡散を行い、n−well220の下のp型基板を利用してp−n−p構造230,240(ウエル内の左と右の長方形参照)を作る。 - 特許庁
In a microarray, including a substrate and a cover that is attachable firmly to a part of the substrate, the microarray is characterized by making the inner surface of the cover to be hydrophilic property, making the cover to have at least one through hole, making the substrate to contain a plurality of relief structures, and making selective binding matter to be fixed on the upper surface of convex parts.例文帳に追加
基板と該基板の一部に密着可能なカバーとを含むマイクロアレイであって、該カバーの内側表面が親水性でありかつ該カバーがそれを貫通する少なくとも1つの穴を有し、該基板が複数の凹凸構造を含み、その凸部の上面に選択結合性物質が固定化されていることを特徴とするマイクロアレイ。 - 特許庁
This method has a process to prepare for a primary substrate 1000 that has recessed sections 1010, a process to form a primary layer 1020 on the recessed sections, a process to move the primary layer to a secondary substrate 2000, and a process to form structures 2020 on the secondary substrate using the primary layer.例文帳に追加
凸部1010を有する第1の基板1000を用意する工程(図1(a))、前記凸部上に第1の層1020を形成する工程(図1(b))、前記第1の層を第2の基板2000に移す工程(図1(c))、及び該第1の層を用いて該第2の基板に凹凸構造2020を形成する工程(図1(d))を有する構造体の製造方法。 - 特許庁
To provide a tool for manufacturing a semiconductor device capable of positioning a base plate (heat sink), an insulative substrate and a terminal block while avoiding complication of their structures, and to provide a method of manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加
この発明は、ベース板(放熱板)、絶縁基板および端子台を、それらの構造の複雑化を回避しつつ位置決めすることができる半導体装置製造用治具及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming structures regularly arranged on a substrate in a two-dimensional manner without using a high-precision/high-performance/expensive processing device and without requiring a fine and complicated processing step.例文帳に追加
高精度・高性能・高額な処理装置を使用する必要がなく、かつ精細で複雑な処理工程を必要としないで、基板上に規則的に二次元配置した構造体を形成する方法を提供する。 - 特許庁
A non-magnetic amorphous layer 3 is formed on a non-magnetic substrate 1, and medium distance ordered structures to become grain growth nuclei are formed by adjusting the heating temperature and time or the material compositions in the layer 3.例文帳に追加
非磁性基板1上に非磁性アモルファス層3を設け、この非磁性アモルファス層3中に、加熱温度、加熱時間もしくは材料組成により、結晶粒成長核とする中距離秩序構造が形成されている。 - 特許庁
Circuit structures such as a positive electrode driver circuit 11 and a negative electrode driver circuit 12 are mounted on a part of the transparent substrate 1 and, for example, ground lines of these are connected in common through the conductors 21a, 21b.例文帳に追加
透明基板1の一部には、陽極ドライバ回路11および陰極ドライバ回路12等の回路構成体が搭載されており、これらの例えばアースラインは、導電体21a,21bを介して共通接続される。 - 特許庁
In the manufacturing method of the optical film, ink droplets are stuck on a transparent base material film, thereby, fine convex structures are formed on at least one side surface of substrate surfaces and, resultantly, anti-blocking processing is performed.例文帳に追加
透明基材フィルム上にインク液滴を付着させて、該基材表面の少なくとも一方の面に微細凸構造を形成しブロッキング防止加工をすることを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁
The dot structures in the GaN single crystal substrate 10 can be formed by a simple heat-treatment alone, which does not necessarily need a particular surface heat-treatment process or many steps.例文帳に追加
すなわち、このGaN単結晶基板14は、簡便な熱処理のみでドット構造が形成され、特別な表面処理や多くの工程を必ずしも必要とはしないため、ドット構造を容易に形成することができる。 - 特許庁
The lens parts 20 and 22 have same structures each other, and the lens part 20 includes toroidal lens surfaces S1 and S2 facing each other respectively formed on one principal surface and another principal surface of the substrate 16.例文帳に追加
レンズ部20,22は、互いに同じ構成であり、レンズ部20について説明すると、基板16の一方及び他方の主面にはそれぞれトロイダル面状のレンズ面S1,S2を互いに対向するように形成する。 - 特許庁
The flexible substrate 2 is watertightly sealed between an inside piece 7A coinciding with the shape of the row 3 of teeth of the user and the outside piece 7B covering the outside of the inside piece 7A by inner and outer double insulating structures.例文帳に追加
このフレキシブル基板2は、使用者の歯列3の形状に合致した内側ピース7Aと、この内側ピース7Aの外側に被せる外側ピース7Bとの間に内外二重絶縁構造で水密に封止されている。 - 特許庁
An area without recessed structure is formed mutually between the recessed structures, and its occupied area rate (a ratio of the area occupied by the area without recessed structure in the surface area of the semiconductor substrate) is 1-40%.例文帳に追加
この凹型構造相互間には凹型構造のない領域を形成し、その占有面積率(半導体基板の表面積に対する凹型構造のない領域の占有する面積比)を1〜40%とする。 - 特許庁
This arrangement, wherein the layer structure of the suspension substrate 3 is substantially the same with the layer structure of the first wiring circuit board 14, enables the characteristic impedances of the two layer structures to match with each other at the contact therebetween.例文帳に追加
これによって、回路付サスペンション基板3の層構造と、第1配線回路基板14の層構造とを実質的に同じにして、これらの接続点において、両者の特性インピーダンスを整合させることができる。 - 特許庁
In this method for manufacturing a nitride semiconductor epitaxial wafer, an intermediate layer 2 obtained by implanting ions including hydrogen, nitrogen, oxygen, or etc., into the vicinity of the surface of a sapphire substrate 1 is formed as amorphous structures, thereby absorbing and relieving deformation to reduce cracks and warpage.例文帳に追加
サファイア基板1の表面近傍に水素や窒素、酸素等のイオンを打ち込むことにより得られる中間層2は、アモルファス的な構造となるため、歪みを吸収、緩和し、クラックや反り等が低減する。 - 特許庁
An active matrix substrate 1 consists of TFTs (Thin-Film Transistors) which respectively have low-concentration source and drain region (LDD (Lightly Doped Drain)) structures and optimize their areas in order to reduce the electric field intensity at a drain end.例文帳に追加
アクティブマトリクス基板1では、ドレイン端における電界強度を緩和するために、各TFTが低濃度ソース・ドレイン領域(LDD)構造を有しているとともに、その面積を最適化することを特徴とする。 - 特許庁
The n-cladding layer 3 is formed on a semiconductor substrate 2, the active layer 4 is formed on the n-cladding layer 3, the p-cladding layer 5 is formed on the active layer 4, and the mesa structures 7 to 9 are formed on a portion of the p-cladding layer 5.例文帳に追加
n−クラッド層3は半導体基板2上に、活性層4はn−クラッド層3上に、p−クラッド層5は活性層4上に、メサ構造7−9はp−クラッド層5の一部上に形成される。 - 特許庁
Mutually connecting structures 42 and 43 formed on a substrate 20 include conductive vias 52 and 54, which are connected to pixel electrodes 44 of an N-type material formed along the surface of the top side.例文帳に追加
基板20上に形成される相互接続構造42、43は、その頂側の面に沿ってN型の材料によって形成される画素電極44の各々に対して接続される導電性ビア52、54を含む。 - 特許庁
A plurality of semiconductor structures 22 having a rewiring pattern 30 formed on a silicon substrate (semiconductor chip) 24 are bonded on an adhesive layer 21 on a base plate 20 corresponding to a plurality of semiconductor devices.例文帳に追加
複数の半導体装置に対応するサイズのベース板20上の接着層21上に、シリコン基板(半導体チップ)24上に再配線30を設けてなる複数の半導体構成体22を接着する。 - 特許庁
To simplify formation of an electrical contact to a laser diode array, avoid the use of special structures, and mount a heat sink to the laser diode array by eliminating a sapphire substrate after laser diode array structure is grown.例文帳に追加
レーザダイオードアレイ構造の成長後にサファイア基板を除去して、レーザダイオードアレイへの電気的コンタクトの形成の簡略化と特別な構造の使用の回避、更に優れたヒートシンクのレーザダイオードアレイへの取り付けを、可能にする。 - 特許庁
The optical component comprises: the substrate 46 on which V-shaped grooves 49 are formed and to which semiconductor lasers 48 are provided; and the waveguide circuit element 41 on which notch structures 44 fitted to the V-shaped grooves 49 and which includes waveguide cores 43.例文帳に追加
V溝49が形成され、半導体レーザ48が設けられた基板46と、V溝49と嵌合するノッチ構造44が形成された、導波路コア43を含む導波路回路素子41とを備える。 - 特許庁
The mutually adjacent second section pieces 5, 5 of a pair of at least door structures 1 by superposing the first section pieces 4 in the width direction are inserted among the pinching pieces 10, 10 arranged on the insides of the second section pieces 5, 5 through the notches 8 and the substrate 9, and the door structures 1, 1 are coupled through the assembling frame 2.例文帳に追加
前記第一部片4を見付け方向に重合させて少くも一対の前記扉構成体1,1の互いに隣接する第二部片5,5を、前記切欠8を通じて前記第二部片5,5の内側に配した前記挾持片10,10と前記基板9との間に挾入して、前記組付け枠2を介して前記扉構成体1,1を連結する。 - 特許庁
The fabrication method for the packaging substrate includes: mutually stacking two metal layers; encapsulating the two metal layers with dielectric layers; forming built-up structures on both sides of the dielectric layers, respectively; and lastly separating the built-up structures along the interface between the two metal layers so as to form two packaging substrates.例文帳に追加
本発明に係るパッケージ基板の製造方法は、先ず、二つの金属層を相互にラミネートし、誘電体層で二つの金属層を覆い、次に、誘電体層の両側にビルドアップ構造をそれぞれ形成し、最後に二つの金属層の界面に沿って両側のビルドアップ構造を分離させることにより、二つのパッケージ基板を形成する。 - 特許庁
In this method, a detection element having a plurality of metal-including structures onto which molecules for verification having affinity to detection object molecules are immobilized and a substrate onto which the metal-including structures are immobilized is prepared, and the detection element is brought into contact with a specimen to generate a reaction in the plurality of temperature zones, and then light is irradiated and detection is performed.例文帳に追加
検出目的分子と親和性を有する検定用分子が固定された複数の金属含有構造体と、この金属含有構造体が固定された基体とを有する検出素子を用意し、複数の温度域において、この検出素子と検体を接触させて反応せしめたのち、光を照射して検出する方法。 - 特許庁
This sample holder for differential thermal analysis is provided with additional thermal conversion measures and connecting structures (11,11', 20,20', 21,21', 22, 23, 24,24', 25,25') on at least one position out of the two positions (5, 6) on a substrate (1).例文帳に追加
本発明による示差熱分析用サンプルホルダーには、追加熱変換手段及び接続構造(11,11’,20,20’,21,21’,22,23,24,24’,25,25’)が、基板(1)上の2つの位置(5,6)の内の少なくとも1つの位置に設けられる。 - 特許庁
The recordable optical recording medium includes a substrate, and one or more film stacked structures each comprising a reflective film, an upper dielectric film, one or more recording films, a lower dielectric film and a barrier film.例文帳に追加
該書込み可能な光学記録媒体は基板と少なくとも一層の膜層堆積構造を包含し、各膜層堆積構造は、反射層、上誘電層、1層或いは複数層の記録層、下誘電層及びバリア層で構成される。 - 特許庁
At least one of the first and second support structures is comprised of a planar base, a movable stage for supporting the patterning means or the substrate that can be moved over said planar base, and an actuator for providing said movement of the stage.例文帳に追加
第1及び第2支持構造の少なくとも一方が、平面ベースと、パターン化手段又は基板を支持し、平面ベースの上を移動することができる移動可能なステージと、ステージの動きを与えるアクチュエータとを備える。 - 特許庁
After this, structures 22-24 are floated to the support substrate 11 by introducing an etching medium from an opening 15 of the semiconductor layer 13, and etching the sacrifice layer 12 in which the micro crack 12a is formed to be removed.例文帳に追加
この後、半導体層13の開口部15からエッチング媒体を導入し、マイクロクラック12aが形成された犠牲層12をエッチングして除去することにより、支持基板11に対して構造体22〜24を浮遊させる。 - 特許庁
To clean bodies to be cleaned which have fine structures, such as a semiconductor wafer for LSI and a substrate for MEMS, at a high level by effectively cleaning them using gas dissolved water without any damage resulting from the cleaning.例文帳に追加
LSI用半導体ウエハやMEMS用基板のような微細構造を有する被洗浄物を、洗浄によるダメージを与えることなく、ガス溶解水により効果的に洗浄してこれらの被洗浄物を高度に清浄化する。 - 特許庁
On the inner surface of a front substrate 2, a plurality of first ribs 21 extending to an X direction and a plurality of second ribs 22 extending to a Y direction are partially piled on each other and formed into a rib structures, and a metal back 14 is evaporated through the rib structure.例文帳に追加
前面基板2の内面にX方向に延びた複数本の第1リブ21およびY方向に延びた複数本の第2リブ22を部分的に重ねて形成し、これらリブ構造を介してメタルバック14を蒸着する。 - 特許庁
To provide a method for forming a free-standing (Al, Ga, In)N article which is of superior morphological character, and suitable for use as a substrate, e.g. for fabrication of microelectronic and/or optoelectronic devices and device precursor structures.例文帳に追加
非常に優れた形態的特徴を有し、例えばマイクロエレクトロニクスおよび/またはオプトエレクトロニクスデバイスおよびデバイス前駆体構造体を製作するための基板として使用される(Al、Ga、In)N物品の製造方法を提供する。 - 特許庁
A plurality of stacked gate structures are formed on a semiconductor substrate, which are arranged in a first space in a first region, and arranged in a second space, wider than the first one, in a second region that is adjacent to the first region.例文帳に追加
半導体基板上に第1領域では第1間隔に配置されて前記第1領域に接した第2領域では前記第1間隔より広い第2間隔に配置される複数個の積層型ゲート構造物が形成される。 - 特許庁
A semiconductor light emitting element 10 includes: a lower electrode layer 11; a semiconductor substrate 12; a lower clad layer 13; an active layer 16; a cap layer 17; a level difference confinement layer 19; current constriction structures 21A and 21B; and an upper electrode layer 23.例文帳に追加
半導体発光素子10は、下部電極層11、半導体基板12、下部クラッド層13、活性層16、キャップ層17、段差閉じ込め層19、電流狭窄構造21A,21B、および上部電極層23を含む。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a minute structure capable of easily manufacturing minute structures each formed of a metal or metal oxide by being regularly arranged on a conductive substrate, and to provide a complex obtained by using the method.例文帳に追加
金属または金属酸化物からなる微細構造体を容易に、導電性基板上に規則的に配列させて作製できる微細構造体の製造方法および該製造方法を用いて得られる複合体の提供。 - 特許庁
In a waveguide connection structure for connecting a first dielectric substrate 100 having a waveguide structure and a second dielectric substrate 200 having a waveguide structure via a plurality of bumps 30, formed at least around the waveguide structures between the first dielectric substrate 100 and the second dielectric substrate 200, a dummy waveguide constituted of the plurality of bumps 30 is formed in a ridge waveguide structure.例文帳に追加
導波管構造を有する第1誘電体基板100と、導波管構造を有する第2誘電体基板200とを、第1誘電体基板100および第2誘電体基板200との間であって導波管構造の少なくとも周囲に形成された複数のバンプ30によって接続する導波管の接続構造において、複数のバンプ30によって構成される擬似導波管をリッジ導波管構造とする。 - 特許庁
In the hard coat film making the hard coat layer overlie at least one surface of a substrate of a polyester film, the laminated film has protrusion structures formed between the substrate polyester film and the hard coat layer, and the size of the length direction of 80% or more protrusions of the total protrusions is in the range of the average size of the length direction±≤30%.例文帳に追加
基材ポリエステルフィルムの少なくとも片面にハードコート層が積層されたハードコートフィルムにおいて、基材ポリエステルフィルムとハードコート層との間に突起構造が形成され、該突起の総数の80%以上の突起の長さ方向のサイズが長さ方向の平均サイズ±30%以下の範囲にある積層フィルム。 - 特許庁
A mold for nanoimprint 10 includes: a crystalline substrate 11; and protruding structures 20, each of which is disposed on one main surface 11a of the crystalline substrate 11 and has multiple crystal surfaces 22 including a bottom surface 21 arranged in parallel with the one main surface 11a and surfaces arranged so as not to be in parallel with the one main surface 11a.例文帳に追加
結晶性基板11と、結晶性基板11の一主面11a上に配置された、一主面11aに平行な底面21および一主面11aに非平行な面を含む複数の結晶面22を有する突起構造20とを備えるナノインプリント用モールド10である。 - 特許庁
The method forms structures arranged on a substrate in a two-dimensional manner by forming a single layer by arranging spherical particles on the surface of the substrate so as to fill the surface with the spherical particles most densely using self-organization of the spherical bodies, and performing etching processing using the single layer formed of the spherical particles as an etching mask.例文帳に追加
球体の自己組織化を利用して、基板表面に球状粒子を最密に充填するように配置して単層を形成し、前記球状粒子からなる単層をエッチングマスクとしてエッチング処理を行うことにより、基板上に規則的に二次元配置した構造体を形成する方法。 - 特許庁
An ND filter 10 which forms a nonreflective cycle layer 23 made of a large number of minute rugged cyclic structures 21 at an imaging element side on a substrate 11 and forms an ND film 15 at the other side of the substrate 11, is placed in a photographic optical system of the camera to improve the antireflection function.例文帳に追加
カメラの撮影光学系内にNDフィルタ10を配置し、このNDフィルタ10は基板11上の撮像素子側に多数の微細凹凸周期構造体21による無反射周期層23を形成し、基板11の他面にND膜15を成膜することにより、反射防止機能を向上させる。 - 特許庁
The multi-domain liquid crystal display device with a concave structure comprises a substrate with a pixel electrode layer, another substrate with a common electrode layer, an isolation layer formed on the electrode layer of the one of those substrates, a liquid crystal layer formed between two pieces of the substrates and multiple concave structures formed in the electrode layer, at least, one of the substrates.例文帳に追加
画素電極層を具えた基板、共電極層を具えたもう一つの基板、そのうち一方の基板の電極層の上方に形成された隔離層、2片の基板の間に形成された液晶層、及び少なくとも一方の基板の電極層に形成された複数の凹構造を具えている。 - 特許庁
The structured surface structures the substrate which stimulates the smooth crystallization of the microcrystals or boosts the hydrophobic properties of the substrate.例文帳に追加
基材の擬制表面に高められた多数の高化構造の整然配列を含む造成表面を備え、上記高化構造の少なくとも2つの寸法は、1nm〜100μmの範囲にあり、上記造成表面は、微結晶の円滑な結晶化を起こさせるか、又は基材の疎水特性を向上させる、基材が提供される。 - 特許庁
A plurality of cooling structures connecting a plurality of heating components 102-108 having the same shape to a single thermal diffusion plate 112-114 via first thermally conductive members 109-111 are provided on the same substrate 101, and respective thermal diffusion plates of the plurality of cooling structures are connected to a single radiator 118 via second thermally conductive members 115-117.例文帳に追加
同一形状の複数の発熱部品102〜108を第1の熱伝導部材109〜111を介して1つの熱拡散板112〜114に接続した冷却構造体を同一基板101上に複数備え、複数の冷却構造体の各熱拡散板を第2の熱伝導部材115〜117を介して1つの放熱体118に接続する。 - 特許庁
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