| 例文 |
surface development methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 225件
The method of forming the mask comprises forming the first layer 102 by a material which is dissolved by a developing solution used in development of the resist and is higher in a removal rate in ashing than the resist on a ground surface 101.例文帳に追加
マスク形成方法では、まず、下地101の上に、レジストの現像時に使用される現像液によって溶解され、且つレジストよりもアッシングにおける除去速度が大きい材料によって第1の層102を形成する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the color filter, after a development process, a process for irradiating the whole surface of an image recording material with ultraviolet ray is provided before a peeling process, and the peeling of a positive type photoresist in the peeling process is performed by using an alkali aqueous solution.例文帳に追加
現像工程後であって剥離工程前に、画像記録材料の全面に紫外線を照射する工程を有すると共に、剥離工程におけるポジ型フォトレジストの剥離をアルカリ水溶液を用いて行なう。 - 特許庁
To provide a slag removing method and device therefor in a molten metal vessel with which the development of slags spottedly floating on the molten metal surface and being difficult to remove, is prevented by the simple device so that this slag can efficiently and effectively be removed.例文帳に追加
本発明は溶融金属表面に浮遊し、除滓が困難であった点在滓の発生を、簡単な装置によって防止し、能率良く、効果的に除滓できる溶融金属容器内の除滓方法及び装置を提供する。 - 特許庁
The method for soil surface protection is provided, with which the development and growth of weeds are suppressing and a natural ground is maintained in a state of bare ground by omitting a process for sowing or planting the plant.例文帳に追加
また、上述の発明においてなされている、目的植物の播種あるいは植栽工程を除いたことにより、雑草の発生と生育を抑制し、自然地盤を裸地状態に維持する地表面保護方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing the subject spun fiber good in color development by dye and capable of providing an artificial leather excellent in surface uniformity by melt blending a polyamide with a polyolefin while making the polyamide react with a multifunctional N-acyllactam and then spinning the blend.例文帳に追加
他方成分を溶出することにより染料発色性に良好で、かつ、表面均質性に優れた人工皮革となるポリアミド極細繊維が得られるポリアミド系混合紡糸繊維の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
The plate making method for the flexographic printing plate is characterized in performing (5) surface processing for carrying out irradiation with ultraviolet rays of 200 to 300 nm in wavelength by 3.6 J/cm^2 after (1) back exposure, (2) main exposure, (3) development, and (4) drying.例文帳に追加
1)裏露光、2)主露光、3)現像、4)乾燥の後に、5)波長200〜300nmの紫外線を3.6J/cm^2以上照射する表面処理を行うことを特徴とするフレキソ印刷版の製版方法。 - 特許庁
As a result, the reference light source device for high temperature high-speed radiation thermometers can be provided, which performs radiation temperature measurement of the surface temperature of the silicon wafer processed by a flash lamp anneal method (FLA) under development as a next-generation wafer heat treatment process, and a laser anneal method (LA).例文帳に追加
次世代ウエハ熱処理工程として開発中のフラッシュランプアニール法(FLA)やレーザーアニール法(LA)において処理されるシリコンウエハの表面温度を放射温度計測するための高温高速放射温度計用参照光源装置を提供することが可能である。 - 特許庁
The method for manufacturing the toner for the electrostatic latent image development aggregates, adheres and fuses at least the resin particles and the coloring agent particles with the hydrophilic group introduced on the surface of the pigment by the mechano-chemical treatment by forming the resin particles using the wet method.例文帳に追加
湿式法により樹脂微粒子を形成し、少なくとも該樹脂微粒子と、メカノケミカル処理によって顔料表面に親水性基が導入された着色剤微粒子とを凝集、融着および融合させることを特徴とする静電潜像現像用トナーの製造方法。 - 特許庁
To provide a method capable of preventing the occurrence of resist pattern collapse caused in accordance with miniaturization of the size of a pattern upon development processing of a resist film after exposure, which is formed on the surface of a substrate and having no risk of bringing bad affection to an after process, while eliminating the deterioration of liquid heaping property of a developer on the resist film in a development process.例文帳に追加
基板の表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理するときに、パターン寸法の微細化に伴って起こるレジストパターン倒壊の発生を防止することができ、後工程に悪影響を及ぼす心配が無く、現像プロセスにおいてレジスト膜上への現像液の液盛り性が悪くなることもない方法を提供する。 - 特許庁
To provide a processing method after a development processing of a base material for manufacturing wiring plate which can remove sticky foreign matters adhered to a surface of the base material after the exposure processing and the development processing of a photosensitive resin coat formed on the base material, and which can prevent occurrence of circuit forming defect such as short circuit when a circuit is formed by an etching processing.例文帳に追加
基材に形成した感光性樹脂皮膜の露光・現像処理後に基材表面に付着した粘着性の異物を除去することができ、エッチング処理による回路形成時にショートサーキット等の回路形成不良の発生を防止することができる配線板製造用の基材の現像処理後の処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming method in which the surface of a photoreceptor or the like in the steps of charging, development, transfer and cleaning is prevented from being abraded and oxidized by metal oxide particles, typically external additives present in the inside and/or the surface of a toner, thus decreasing a reduction in the photoreceptor performances, such as a change in potential or sensitivity.例文帳に追加
トナー内部及び/または表面に存在する外添剤を代表とする金属酸化物粒子等による帯電、現像、転写、クリーニングの各工程における感光体等の表面の摩耗、酸化を防止し、電位、感度の変化等、感光体性能の低下の少ない画像形成方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a structure and a method for repairing a fatigue crack which can easily and inexpensively repair the fatigue crack extending from the front surface to the rear surface of a steel plate and can extend the fatigue life of a steel structure by stopping or delaying the development of the fatigue crack.例文帳に追加
鋼板の表面から裏面まで貫通した疲労き裂を簡便かつ安価に補修することが可能であり、疲労き裂の進展を止める、あるいは疲労き裂の進展を遅延させて鋼構造物の疲労寿命の延命化を図ることができる疲労き裂補修構造及び補修方法を提供する。 - 特許庁
In an electrophotographic apparatus which is cleaner-less and adopts the contact one-component development method, and uses toner having a weight average particle diameter of 7μm or less, the surface layer of the electrophotographic photoreceptor has ten-point average surface roughness Rz that is 0.1≤Rz≤1μm and the maximum height that is 0.2≤Ry≤2μm.例文帳に追加
クリーナーレス、接触一成分現像方式、さらに重量平均粒径が7μm以下のトナーを用いた電子写真装置において、感光体表面層の10点平均表面粗さRzが0.1≦Rz≦1μm、最大高さが0.2≦Ry≦2μmであることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁
To provide a melting method of an austenitic stainless steel, by which, even in the case of omitting the cleaning of a steel slab and a steel hoop from the view point of the productivity and the economy, the development of uneven luster on a steel plate surface is profitably avoided and the austenitic stainless steel plate product having good surface luster can be manufactured.例文帳に追加
生産性や経済性の観点から鋳片および鋼帯の手入れ等を省略した場合にも、鋼板の表面光沢むらの発生を有利に回避し、良好な表面光沢を有するオーステナイト系ステンレス鋼板製品の製造を可能にする、オーステナイト系ステンレス鋼の溶製方法について提案する。 - 特許庁
To provide a developing unit or a developing method less liable to cause stain as well as to provide a heat developable material which reduces fog as a photographic performance, makes the surface of a processed film free from a surface working mark of the hot drum of a developing machine even in mass processing and suppresses printout under light for observation after development.例文帳に追加
写真性能のカブリを低減し、大量の処理においても、処理膜面上に現像機の熱ドラムの表面加工跡がでず、現像後の観察光でプリントアウトしにくい熱現像材料を提供すると共に、汚れの発生の少ない現像装置または現像方法を提供することにある。 - 特許庁
The method for manufacturing the development roller comprising a shaft core and a resin layer on the circumference of the shaft core and comprising a surface layer on the circumference of the resin layer comprises a step of forming the surface layer by hardening a mixture of carbon black, a specific diol, and a specific isocyanate compound.例文帳に追加
本発明に係る現像ローラの製造方法は、軸芯体と、該軸芯体の外周に樹脂層とを有し、該樹脂層の外周に表面層を有する現像ローラの製造方法において、カーボンブラック、特定のジオール、及び特定のイソシアネート化合物を含む混合物を硬化させて、該表面層を形成する工程を有する。 - 特許庁
This method comprises a step for performing a surface reforming process to expose the underlayer film surface including the basic substance to the plasma of gas including carbon gas, a step for coating the chemically amplified resist film of the underlayer film, and a step for patterning the chemically amplified resist through the exposing and development processes thereof.例文帳に追加
塩基性物質を含む下地膜表面をカーボンガスを含むガスによるプラズマを晒す表面改質処理を行う工程と下地膜上に化学増幅型レジスト膜を塗布する工程と化学増幅型レジストに露光および現像処理を行って化学増幅型レジストをパターニングする工程とを備えるようにしたものである。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition which has small surface tackiness, good suitability to lamination and handling and excellent storage stability, exhibits excellent chemical and heat resistances after development, and reconciles surface hardness with brittleness; a photosensitive film using the composition; a high-definition permanent pattern; and a method for efficiently forming the pattern.例文帳に追加
表面のタック性が小さく、ラミネート性、取扱い性が良好で、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐薬品性、耐熱性などを発現し、表面硬度と脆性とを両立する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a pattern film in which the pattern film having an unevenness pattern formed on a surface can be obtained without performing development after forming a photosensitive resin composition layer and partially exposing the photosensitive resin composition layer.例文帳に追加
感光性樹脂組成物層を形成し、該感光性樹脂組成物層を部分的に露光した後に、現像を行うことなく、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜を得ることを可能とするパターン膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of preventing collapse of a resist pattern owing to microfabrication of a pattern dimension, and preventing adverse effects on subsequent processes, in executing development processing for an exposed resist film formed on the surface of a substrate.例文帳に追加
基板の表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理するときに、パターン寸法の微細化に伴って起こるレジストパターン倒壊の発生を防止することができ、後工程に悪影響を及ぼす心配も無い方法を提供する。 - 特許庁
In the toner for electrostatic image development containing at least a binder resin and a coloring agent, the coloring agent comprises color particles having 10 to 100 nm average particle size prepared by physically coupling a pigment to the surface of alumina particles by a mechanochemical method.例文帳に追加
少なくとも結着樹脂、着色剤を含有する静電荷像現像用トナーにおいて、着色剤がアルミナ粒子表面にメカノケミカル法により顔料を物理的に結合させた平均粒径10〜100nmの着色粒子である。 - 特許庁
In the toner for electrostatic image development containing at least a binder resin and a coloring agent, the coloring agent comprises color particles having 10 to 100 nm average particle size prepared by physically coupling a pigment to the surface of titanium oxide particles by a mechanochemical method.例文帳に追加
少なくとも結着樹脂、着色剤を含有する静電荷像現像用トナーにおいて、着色剤が酸化チタン粒子表面にメカノケミカル法により顔料を物理的に結合させた平均粒径10〜100nmの着色粒子である。 - 特許庁
In the developing method of electrophotography for which the toner carrier is employed to develop static electric latent image, the toner carrier is given a surface of polyvinyl acetal, and this is employed for development.例文帳に追加
トナー担持体を用いてトナーを静電潜像の現像に供する電子写真法による現像方法において、このトナー担持体として、少なくともその表面がポリビニルアセタールからなるトナー担持体およびこのトナー担持体を用いる現像方法である。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a thermoplastic film which has large retardation development and an inclined structure, has an inclined azimuth in one direction of the slow phase axis direction and the fast phase axis direction on a film surface, and has an excellent plane shape.例文帳に追加
レターデーションの発現性および傾斜構造が大きく、フィルム面内の遅相軸方向または進相軸方向のいずれか一方向に傾斜方位を有し、且つ、面状が良好な熱可塑性フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a foaming mold for use in the foam molding of a polyolefinic crosslinked foam capable of dispensing with surplus work in the manufacture of the polyolefinic crosslinked foam and capable of suppressing the development of a flaw or a crack caused by the rubbing with the inner surface of the mold, and a method for manufacturing the polyolefinic crosslinked foam.例文帳に追加
ポリオレフィン系架橋発泡体の製造において余分な作業が不要で、しかも型内面との擦れによる疵や割れの発生を抑えることのできるポリオレフィン系架橋発泡体の発泡型及び製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing toner for electrostatic charge image development, for preventing aggregation of a wax emulsion and preventing exposure of the wax to the surface of toner particles by using a water-based wax emulsion, a binder resin, a colorant and an organic solvent as a source material.例文帳に追加
水系のワックスエマルジョン、結着樹脂、着色剤及び有機溶剤を原料として使用し、ワックスエマルジョンの凝集を防止して、トナー粒子表面へのワックスの露出がない静電荷像現像用トナーの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a continuous hot dip metal coating method, by which the development of metallic splash itself is prevented, and as a result, the stickiness of the metallic splash on a steel strip surface and on a gas wiping nozzle is prevented and the scraping work of oxidized metal can be reduced.例文帳に追加
金属スプラッシュの発生そのものを防止し、結果として鋼帯面やガスワイピングノズルへの金属スプラッシュの付着を防止し、また酸化金属の掻きだし作業を低減できるできる連続溶融金属めっき方法を提供する。 - 特許庁
This method for manufacturing an unprocessed printing plate comprises the steps to make an exposure of an imagelike pattern in the original plate for lithography and clean the surface of the original plate with an aqueous acidic solution containing a polymer with an active hydrogen content and thus make it possible to print the pattern without development.例文帳に追加
平版印刷用原板に画像様の露光を行った後、活性水素含有ポリマーを含む酸性水溶液で原板表面を洗浄することにより、現像を行うことなく印刷可能にする無処理刷版の製版方法。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a pattern film capable of obtaining the pattern film whose surface is formed with a concavo-convex pattern without carrying out development after a photosensitive resin composition layer is formed and the photosensitive resin composition layer is partially exposed.例文帳に追加
感光性樹脂組成物層を形成し、該感光性樹脂組成物層を部分的に露光した後に、現像を行うことなく、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜を得ることを可能とするパターン膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing cold offset printing paper, particularly acid-free newsprint paper, excellent in ink impressionability under cold offset printing, slight in piling with suppressed paper dust emission, and having excellent printability and printing workability, through accomplishing high performance development of a surface coating agent such as uniform coating surface and resistance to water absorption in applying the surface coating agent by a spray coating system.例文帳に追加
スプレー塗工方式による表面塗工剤の塗工において、均一な塗工面、吸水抵抗性など表面塗工剤の高い性能発現を得ることで、コールドオフセット印刷時のインキ着肉性に優れ、また紙粉が抑えられてパイリングの少ない、優れた印刷適性、印刷作業性を持つコールドオフセット印刷用紙、特に中性新聞用紙の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the method for treating the planographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method with at least a silver halide emulsion layer provided on an anodized aluminum support, phosphoric acid and an alkaline earth metal are simultaneously applied or the phosphoric acid is applied in advance to a printing plate surface development-treated with an application method.例文帳に追加
陽極酸化されたアルミニウム支持体上に少なくともハロゲン化銀乳剤層を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版の処理方法において、塗布方式により現像処理された版面にリン酸とアルカリ土類金属を同時またはリン酸を先に施すことを特徴とする平版印刷版の処理方法。 - 特許庁
In the image forming method in which a photoreceptor is subjected to at least charging, imagewise exposure, development, transfer, fixation and cleaning, the photoreceptor has a protective layer containing inorganic fine particles comprising alumina or titanium oxide, and a toner for development is obtained by sticking two or more kinds of inorganic fine particles different from each other in average particle diameter to a surface.例文帳に追加
少なくとも感光体に、帯電、画像露光、現像、転写、定着及びクリーニング処理を施して行なう画像形成方法であって、該感光体がアルミナまたは酸化チタンからなる無機微粒子を含有する保護層を有し、且つ現像されるトナーが平均粒径の異なる2種以上の無機微粒子を表面に付着させてなることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁
In the image forming apparatus using an ultrasonic misting method for a mist development method for misting water-based ink by using an ultrasonic vibrator and developing a latent image, the viscosity of the water-based ink is set to 2.5 mPa s, or more preferably to 2.0 mPa s, and the surface tension of the water-based ink is set to ≥40 mN/m.例文帳に追加
超音波振動子を用いて水性インクをミスト化し、潜像を現像するミスト現像方式に超音波霧化方式を使用する画像形成装置において、水性インクの粘度を2.5mPa・s以下、より好ましくは、2.0 mPa・s以下とし、さらにす水性インクの表面張力を40mN/m以上とする。 - 特許庁
To provide a photosensitive element which suppresses surface roughening of side faces of a resist pattern and occurrence of stringlike development residue in a place where the resist pattern has a narrow interval, and can achieve high-level resolution, and to provide a resist pattern forming method using the same and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加
レジストパターンの側面の粗面化及びレジストパターンの間隔の狭い箇所での糸状現像残りの発生を充分に抑制し、高水準の解像度を達成することが可能な感光性エレメント、並びにそれを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition capable of finishing a substrate to be processed for forming a minute pattern with a good yield as a sandblasting mask material with the superior resolution after development, adhesion and sandblasting resistant adhesion, a photosensitive resin laminate, a surface finishing method for a substrate to be processed, and a method for manufacturing a back plate of a plasma display.例文帳に追加
現像後の解像性及び密着性並びに耐サンドブラスト密着性に優れ、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、被加工基材の表面加工方法及びプラズマディスプレイの背面板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for recovering a mold cooling circuit by employing a scale remover using an organic phosphonic acid or its salts, where rust-removing effect is enhanced, the degree of corrosion is minimized, surface finishing of a metal to be cleansed after rust removal is improved, and further development of odor at the point of using the scale remover is suppressed.例文帳に追加
有機ホスホン酸又はその塩を用いたスケール除去剤において、除錆効果を高め、腐蝕の度合いを小さくし、除錆後の被洗浄金属の表面仕上げを向上させ、更には、スケール除去剤使用時の臭気の発生を抑制する。 - 特許庁
A resist pattern forming method includes: a resist film forming step of forming a resist film on a surface to be processed, with the resist composition; an exposure step of selectively irradiating the resist film with exposure light; and a development step of developing a pattern.例文帳に追加
本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工表面上に本発明のレジスト組成物用いてレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、該レジスト膜に対し露光光を選択的に照射する露光工程と、パターンを現像する現像工程とを含む。 - 特許庁
To improve the stability of a processing solution for imparting physical developing nuclei and a method for surface-treating an aluminum support, to enhance the adhesiveness of image silver and to provide a silver salt offset printing plate precursor ensuring few image defects and excellent in printing resistance of thin lines and in development latitude.例文帳に追加
物理現像核を付与する処理液の安定性とアルミニウム支持体の表面処理方法を改良して、画像銀の接着性を向上させ、画像故障の少ない、細線の耐刷性と現像ラチチュードに優れた銀塩オフセット印刷原版を提供する。 - 特許庁
In the method for producing a photomask, a photosensitive resin is disposed on the resulting photomask blank comprising the glass substrate and the electrically conductive light shielding film formed on the whole surface of one side of the substrate and exposure with an electron beam exposure system, development and etching are carried out.例文帳に追加
また、ガラス基板とその片面の表面全面に導電性遮光膜が設けられているフォトマスクブランクの上に感光性樹脂を載せ、電子ビーム露光装置により露光、現像、エッチングする事を特徴とするフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a development processing method to improve CD value uniformity on a substrate surface and to shorten processing time, even when exposing and developing a substrate with large kinds of films including an immersion protecting film or a water-repellent resist.例文帳に追加
液浸保護膜、又は撥水性レジストを含め、広範な種類の膜が成膜された基板を露光し、現像する場合にも、基板表面内でのCD値の均一性を向上させることができ、処理時間を短縮することができる現像処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a thermoplastic resin molding having woody feeling remarkably improved as a result of effectively forming a ruggedness by effectively suppressing a gloss development due to rubbing on a surface of the product and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加
成形体表面における擦れによる光沢発現が有効に抑制される一方で、凹凸の形成が有効に行われ、その結果として顕著に向上した木質感を有する熱可塑性樹脂成形体及びその製造方法を提供するにある。 - 特許庁
Also, in the method for manufacturing the optical waveguide device, a positive photoresist is provided in the exit side end surface of the waveguide, the positive photoresist is exposed by exiting light from the core of the waveguide, and the exposed part of the positive photoresist is removed by development.例文帳に追加
また、導波路の射出側端面にポジフォトレジストを設け、その導波路のコアより光を射出させてそのポジフォトレジストを露光し、そのポジフォトレジストの感光した部分を現像により除去する事を特徴とする光導波路デバイスの製造方法を行う。 - 特許庁
To improve a method for surface-treating an aluminum substrate to provide a silver salt offset printing original plate which enhances the reproducibility of a thin line image as well as the adhesiveness of a silver image and is excellent in the printing durability of thin lines and development latitude.例文帳に追加
アルミニウム支持体の表面処理方法を改良して、銀画像の接着性の向上を図るとともに、細線画像の再現性向上を図り、細線の耐刷性と現像ラチチュードに優れた銀塩オフセット印刷原版を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method for producing a conjugated polyester yarn good in color development and color fastness to dyeing, bulky and smooth on the surface, rich in stretchability and rebound and a cloth therewith.例文帳に追加
発色性と染色堅牢度が良好であり、ふくらみがあって表面がスムースで、さらには伸縮性、反発性に富むポリエステル複合糸およびそれを用いた布帛を得ることのできるポリエステル複合糸の製造方法および布帛の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which shows sufficient transmitting property when an exposure light source at ≤160 nm, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used and which is improved in surface roughness, development defect, scum and resolving power, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加
160nm以下、具体的にはF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源使用時に十分な透過性を示し、表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a silver halide photosensitive material which ensures good coated surface quality even in the case of high-speed coating and rapid drying of a coating liquid for a planographic printing plate comprising a gelatin- containing silver halide photosensitive material and is free of occurrence of unevenness even after development and to provide a method for making the same.例文帳に追加
ゼラチンを含有するハロゲン化銀感光材料平版印刷版の塗液を高速にて塗布し急速乾燥しても良好な塗布面質が得られ、現像後もムラの発生が無いハロゲン化銀感光材料及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for profitably producing a continuously cast slab with which the concentration of a solute element on the surface layer part of the cast slab can suitably be adjusted without causing the development of defect in the cast slab and the lowering of productivity caused by the lowering of molten steel temperature in the inner part of a mold.例文帳に追加
鋳型内部の溶鋼温度の低下に起因した鋳片欠陥の発生や生産性の低下を招くことなく、鋳片表層部における溶質元素の濃度を適切に調整することができる連続鋳造鋳片の有利な製造方法を提案する。 - 特許庁
To provide a silver salt offset printing original plate which is excellent in the printing durability of thin lines and development latitude by improving a surface processing method of an aluminum support body to improve the adhesiveness of silver images, reduce coating disorder, and improve the reproducibility of thin lines images.例文帳に追加
アルミニウム支持体の表面処理方法を改良して、銀画像の接着性の向上と塗布故障の軽減を図るとともに、細線画像の再現性向上を図り、細線の耐刷性と現像ラチチュードに優れた銀塩オフセット印刷原版を提供する。 - 特許庁
To provide a heat developable photosensitive material having heat and light resistances of an image after development and suppressing printout (fog change and color tone change) particularly on a viewing box whose surface temperature rises to ≥40°C and to provide an image forming method using the material.例文帳に追加
現像後の画像の耐熱性及び耐光性、特に表面温度が40℃以上に上昇したシャーカステン上でプリントアウト(カブリ変動、色調変動)が抑制された熱現像感光材料及びそれを用いた画像形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin laminate having excellent adhesion and flocculation resistance in development, reducing rib top defects and working a fine pattern on a substrate to be worked in a good yield as a mask material for sandblast, and a sandblast surface working method using the same.例文帳に追加
密着性、現像凝集性に優れ、かつリブ頂部欠損を低減し、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁
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