「surface layer structure」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

A 2-layer structure antireflection coating is formed between a resist layer and a silicon oxide film formed on the surface of a silicon semiconductor substrate, and is used for exposing the resist layer by an exposure system whose numerical aperture is 0.93-1.2, with a wavelength of 190-195 nm.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が０．９３乃至１．２である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン酸化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.0-1.1, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．０を越え１．１以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.2-1.3, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．２を越え１．３以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.3-1.4, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．３を越え１．４以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.1-1.2, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate.例文帳に追加

２層構造反射防止膜は、１９０〜１９５nmの波長を有し、開口数が１．１を越え１．２以下である露光系にてレジスト層を露光する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。 - 特許庁

The method for manufacturing the nano-hole structure includes a step of smoothing the surface of a metallic layer after forming it on a base material, a step of forming origins for forming the nano-holes on the smoothed metallic layer, and a step of forming a porous layer having a plurality of nano-holes formed in the direction nearly perpendicular to the base material.例文帳に追加

本発明のナノホール構造体の製造方法は、基材上に、金属層を形成した後、該金属層の表面を平滑化する平滑化処理工程と、平滑化された前記金属層に、ナノホール形成用起点を形成する起点形成工程と、ナノホール形成処理を行うことにより、前記基材に対し略直交する方向にナノホールが複数形成された多孔質層を形成する多孔質層形成工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a high accuracy twist drill which can produce a beautiful finish of an inner surface without causing burrs, laminated layer separation, or residual fiber in a hole, even when a workpiece is made of high strength fiber composite material, by improving cutting performance by improving the structure of cutting edges, and which can improve its durability.例文帳に追加

切り刃構造を改善して切断性能を高めることにより、高強度繊維複合材であってもバリや積層間剥離、あるいは孔内の髭残りのない美麗な内面仕上りが得られる加工精度の高いツイストドリルを提供し、併せて、ドリルの耐久性を向上させること。 - 特許庁

To provide a method for removing nitrate nitrogen from soil seeping water, capable of being adapted to a wastewater soil seeping treatment plant necessary for aerobically keeping the surface layer of a plowed field or soil over a depth range of several ten cm and capable of efficiently and simply performing denitrification without providing a structure.例文帳に追加

畑や土壌表層数十センチを好気性に保つ必要のある排水土壌浸透処理場に適用することができ、構造物を設けることなく、効率よく簡便に脱窒を行なうことが可能な、土壌浸透水からの硝酸態窒素の除去方法を提供する。 - 特許庁

To provide a rooftop waterproofing construction method for providing waterproofness, water retentivity, thermal insulation performance, fire resistance and durability, and capable of preventing the occurrence of a harmful crack in a waterproof layer such as leading to water leakage, in a waterproofing construction method of a rooftop surface, particularly, a concrete rooftop of a structure such as a building.例文帳に追加

例えばビル等の建築物の屋上面、特にコンクリート製の屋上の防水工法に係り、防水性・保水性・断熱性・耐火性・耐久性を有すると共に、漏水につながるような防水層への有害な亀裂発生を防止することのできる屋上防水工法を提供する。 - 特許庁

In order to enhance transmissivity, catalyst metal films conventionally formed on the whole surface of the sensor are shaped into a three-dimensional structure comprising the metal oxide films which are detection films and having surfaces vertical to base materials such as orientational films, to form a catalyst metal layer only on the surfaces vertical to the base materials.例文帳に追加

透過率向上のため、従来全面に形成していた触媒金属膜を、検知膜である金属酸化膜を配向性膜等基材と垂直な面を有する３次元構造の形態とし、基材と垂直な面のみに触媒金属層を形成する。 - 特許庁

The structure eliminates the ease of damaging of the surface, and the formation of the high-density plastic-worked area HPA in the region from the face to the inside of both sides of the plastic-worked IPW1 for the inner layer improves the dimensional stability without the occurrence of distortion on changing of surrounding conditions owing to balanced characteristics of the front and back surfaces.例文帳に追加

また、内層用塑性加工材ＩＰＷ１の両面の表面から内側には共に高密度な塑性加工領域ＨＰＡが形成されていることで、表裏面のバランスがよく周囲環境条件が変化したときの歪みの発生がなく寸法安定性が向上される。 - 特許庁

As an optical compensation film, a biaxial optical compensation film is used which includes at least a kind of a compound having a particular structure and at least a kind of inorganic fine particles and keeps the concentration in the surface layer of the film of the inorganic fine particles higher than the average concentration of the inorganic fine particles in the film.例文帳に追加

光学補償フィルムとして、特定構造を有する化合物を少なくとも１種と、無機微粒子を少なくとも１種含み、該無機微粒子のフィルム表層中の濃度が、該無機微粒子のフィルム中の平均濃度より大きい２軸性の光学補償フィルムを使用する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of preventing generation of ruggedness on the surface including the skirt of an organic film pattern having mountain structure, in a liquid crystal display device, to provide a method for producing a thin layer transistor substrate using the composition, and to provide a method for producing a common electrode substrate.例文帳に追加

液晶表示装置において、山構造を有する有機膜パターンの裾部を含む表面における凹凸の発生を防止できるような、感光性樹脂組成物と、これを用いた薄膜トランジスタ基板の製造方法、及び共通電極基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The inner wear is structured as follows: a heat-retaining organization 22 is formed by setting a plurality of air cells 25, surrounded with ridge parts 24, projecting to the back surface side of a single-layer ground knitted organization 23 each in a hexagon state, into a honeycomb structure; and the abient gas is reserved inside each of the air cells 25.例文帳に追加

保温性組織２２は、一重の地編組織２３の裏面側に突出させた畝部２４,２４，…にて六角形状に囲んでなる複数のエアセル２５,２５，…をハニカム構造状に設けて構成しており、各エアセル２５,２５，…内には周囲の気体が蓄えられるようになっている。 - 特許庁

Since whole the surface of the base material 14 is covered with a skin layer 16 having a porous structure composed of a remoistening paste 20 not having water retainability, when the excrement-treating material 10 is brought into contact with the liquid such as urine, the remoistening paste 20 is softened by water and adhesive property of the excrement-treating material is developed.例文帳に追加

また、基材14の表面全体が保水性を持たない再湿糊20からなるポーラス構造のスキン層16で被覆されているので、排泄物処理材10が尿などの液体に接触すると、再湿糊20が水分によって軟化され、粘着性を発現させる。 - 特許庁

To enhance an appearance performance and also reduce a manufacturing cost in an automotive interior trim and its manufacturing process of wholly or partially employing a laminated structure including a foamed resin substrate, and a top layer and a resin rib integrated on its front and rear surface side respectively.例文帳に追加

発泡樹脂基材とその表裏面側にそれぞれ一体化されるトップ層及び樹脂リブとからなる積層構造体を全体、あるいは一部に採用した自動車用内装部品並びにその製造方法において、外観性能を高め、かつ製作コストを低減化する。 - 特許庁

This protective knit is a knitted fabric consisting of a highly functional fiber having crimps and another fiber, and also is characterized by arranging the highly functional fiber at least 1 kind of a placement structure selected from a reverse surface side and a middle layer.例文帳に追加

本発明の防護ニットは、ケン縮を有する高機能性繊維と他の繊維とからなる編成布帛であって、かつ、前記高機能性繊維を、該編成布帛の裏面側および中層から選ばれた少なくとも１種の配置構造に配置したことを特徴とするものである。 - 特許庁

The surfaces of the conductor pushing sections 5, 6, 8 at least at the front end are rough-surface machined and carbon ions are physically evaporated on the surfaces of at least the conductor pushing sections by an arc discharge method under a vacuum, and a thin-film layer 9 with a diamond crystal structure is formed.例文帳に追加

少なくとも先端の導線押圧部５、６、８の表面に粗面加工を施し、さらに少なくとも前記導線押圧部の表面に真空下においてアーク放電法によりカーボンイオンを物理蒸着せしめてダイヤモンド結晶構造を有する薄膜層９を形成した。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser element which has a multiple quantum well layer formed of an AlGaAs-based material and is improved in COD level using an end surface window structure to improve an output of emitted infrared light, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

多重量子井戸層がＡｌＧａＡｓ系材料によって構成され、赤外光を出射する半導体レーザ素子において、端面窓構造を用いてＣＯＤレベルを向上させることができ、出力の向上された半導体レーザ素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a p-type semiconductor element with which the surface of a polysilicon layer can be oxidized selectively and, in addition, can suppress the threshold voltage fluctuation of a semiconductor element caused by post-oxidation as much as possible, when the post- oxidation is performed on a gate electrode having a polymetal structure.例文帳に追加

ポリメタル構造を有するゲート電極に対する後酸化を行うとき、ポリシリコン層の表面を選択的に酸化することができ、しかも、後酸化に起因した半導体素子の閾値電圧の変動を出来る限り抑制し得るｐ形半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the floppy disk having a magnetic layer consisting of at least a ferromagnetic metal thin film formed on one surface of a flexible supporting body, the disk has a structure prepared by laminating the flexible supporting body such as an aromatic polyimide film, aromatic polyamide film or the like with a thermosetting adhesive sheet.例文帳に追加

可撓性性支持体の一方の面に少なくとも強磁性金属薄膜からなる磁性層を形成したフロッピーディスクにおいて、芳香族ポリイミドフィルム、芳香族ポリアミドフィルム等の可撓性支持体を熱硬化性接着シートで貼り合わせた構造であるフロッピーディスク。 - 特許庁

Silver ions or copper ions are supported on a porous oxide 2 having a three-dimensional structure having pores of 0.4-1 nm in diameter in a molecule, the oxide carrying the ions is added into a water base coating agent or a radiation curable resin, and the mixture is applied as the surface layer 1 of the sheet.例文帳に追加

分子内に直径０．４ｎｍ〜１ｎｍの孔をもつ立体構造を有する多孔性酸化物２に銀イオンあるいは銅イオンを胆持させ、これを水性コーティング剤または電離放射線硬化型樹脂に添加し、これをシートの表面層１として塗布して設けたことを特徴とする。 - 特許庁

Since an insulation film containing hydrogenation polysiloxane is employed as the interlayer insulation film 103 and etching is carried out using etching gas containing at least fluorocarbon gas and oxidation based gas, such a structure as the deterioration layer 105 of hydrogenation polysiloxane on the processing surface is thick at the upper part and thin at the lower part is obtained.例文帳に追加

水素化ポリシロキサンを含む絶縁膜を層間絶縁膜１０３として用い、エッチングガスとしてフロロカーボンガスと酸化系ガスを少なくとも含むエッチングにより加工するため、水素化ポリシロキサンの加工面での変質層１０５が上部で厚く、下部で薄い構造が得られる。 - 特許庁

In this non-pneumatic tire having the spoke structure 3 constituted by coupling an annular peripheral member 4 with an annular inner peripheral member 5 through spokes 6 formed of rubber or resin, a metal layer 8 is attached to at least the radial directional surface 7 of the spoke 6.例文帳に追加

環状の外周部材４と内周部材５との間をスポーク６で連結し、少なくともスポーク６がゴム又は樹脂からなるスポーク構造体３を有する非空気式タイヤにおいて、少なくともスポーク６の径方向表面７に金属層８を貼り付けたことを特徴とする。 - 特許庁

A release film is composed of one or more layers and is 25 to 300 μm thick, wherein at least one surface layer contains a styrene-based polymer having a syndiotactic structure as a major component and its glossiness is less than 100%.例文帳に追加

1層又は２層以上の層からなる厚みが２５〜３００μｍの離型フィルムであって、少なくとも１つの表面層が、シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を主成分とし含有し、しかも該表面層の光沢度が１００％未満である離型フィルムである。 - 特許庁

To provide a sheet-like probe with high durability, capable of reliably achieving a stable electrical connecting conditions even for a circuit device, in which electrodes are formed in small pitches, equipped with electrode structure having surface electrode sections of small diameter and large thickness of an insulated layer.例文帳に追加

絶縁層の厚みが大きく、径が小さい表面電極部を有する電極構造体を備えた、小さいピッチで電極が形成された回路装置に対しても安定な電気的接続状態を確実に達成することができ、高い耐久性を有するシート状プローブを提供すること。 - 特許庁

In an image forming apparatus to transfer a developed toner image to the intermediate transfer medium 4 by developing an electrostatic latent image on the photoreceptor 1 with toner, the intermediate transfer medium 4 has a structure where the ion conductive agent is incorporated and an abrasive material is dispersed in a surface layer.例文帳に追加

感光体１上の静電潜像をトナーによって現像し、現像されたトナー像を中間転写媒体４に転写する画像形成装置において、前記中間転写媒体４は、イオン導電剤を含むと共に表層に研磨材を分散した構造を有する。 - 特許庁

Namely, this slide type variable resistor has excellent durability by using the mixture of the first polymer having high adhesiveness to the resistor and the second polymer having a thermally stable structure as the protective layer of the contact surface between the resistor and the slider.例文帳に追加

つまり、本発明の摺動式可変抵抗器は、抵抗体と密着性の高い第１高分子と、熱的に安定な構造を有する第２高分子との混合物を抵抗体と摺動子との接触面の保護層として用いることによって、耐久性がよいものとなっている。 - 特許庁

To obtain a bump electrode structure which is connected stably with an electrode pad by forming a nickel (Ni) layer reliably at a desired section of the surface of the pad electrode and securing sufficient adhesiveness of a bump electrode even in the case of using the electrode pad composed of an aluminum (Al) alloy containing silicon (Si).例文帳に追加

シリコン（Ｓｉ）を含むアルミニウム（Ａｌ）合金からなる電極パッドを用いる場合においても、ニッケル（Ｎｉ）層をパッド電極表面の所望部位に確実に形成するとともに、バンプ電極の十分な密着性を確保し、電極パッドに安定に接続されたバンプ電極構造を得る。 - 特許庁

(3) In the Al-Cu joined structure manufacturing method, when brazing the Al member and the Cu member by using Al-Si brazing filler metal, Ag is used for the insert of the joining surface thereof, the brazing temperature is > 813°K, and the Ag layer is remained thereon.例文帳に追加

（３）Ａｌ−Ｓｉ系のろう材を用いてＡｌ部材とＣｕ部材とをろう付け接合するに際し、これらの接合面のインサート材としてＡｇを用い、ろう付け温度を８１３Ｋ超えとして、当該Ａｇ層を残存させることを特徴とするＡｌ−Ｃｕ接合構造物の製造方法である。 - 特許庁

In the projector provided with a sample base for placing the metal sample, a lens for projecting the light from a light source to the surface of the sample to enlarge the reflected light, and the screen for focusing the reflected light, the screen is formed in a three-layer structure of a ground glass, a transparent glass and a Fresnel lens.例文帳に追加

金属試料を載置する試料台と、光源からの光を該金属試料の表面に投射し、その反射光を拡大するレンズと、反射光を結像するスクリーンとを備えた投影器において、前記スクリーンを、擦りガラス、透明ガラス及びフレンネルレンズの３層構造とした。 - 特許庁

The obtained anti-glare film has an uneven structure on the surface of the anti-glare layer, isotropically transmits and scatters an incident light to show the maximum value of the scattered light intensity at a scattering angle of 0.1-10°, and has the total light transmittance of 70-100%.例文帳に追加

得られた防眩性フィルムは、前記防眩層の表面に凹凸構造を有しており、入射光を等方的に透過して散乱し、かつ散乱光強度の極大値を示す散乱角が０．１〜１０°であるとともに、全光線透過率が７０〜１００％である。 - 特許庁

To provide a composite particle which comprises core particles of a plate form being covered with a regularly arranged single layer-or laminate-structure composed of particles having diameters being smaller and more uniform than those of core particles, wherein the core particle is free from the deformation of its surface into an uneven face and from the crush thereof.例文帳に追加

核粒子の表面が凹凸状に変形したり、板状の核粒子が粉砕されたりすることなく、核粒子の表面が、核粒子よりも小さく粒径の揃った粒子からなる、規則的に配列した単層もしくは積層構造で被覆された複合化粒子を提供すること。 - 特許庁

This bump structure includes: a first bump formed on an electrode pad of a semiconductor element, and having a stud shape; a second bump formed by being stacked thereon and having a stud shape; and an organic resin layer formed to cover a side peripheral surface of the first bump.例文帳に追加

本発明のバンプ構造は、半導体素子の電極パッド上に形成されたスタッド形状を有する第１のバンプと、その上に積重ねて形成されたスタッド形状を有する第２のバンプと、第１のバンプの側周面を覆うように形成された有機樹脂層を備える。 - 特許庁

Complex particles for immunochromatography include a structure in which the outside of fine particles made from metal is covered with at least one layer of silica containing at least one fluorescence substance, and fine particles whose surface is modified with indicator substances enabling specific identification of target substances.例文帳に追加

金属からなる微粒子の外側が、少なくとも一種の蛍光物質を含有するシリカの少なくとも１層で覆われた構造を持ち、標的物質を特異的に認識する標識物質で表面修飾された微粒子からなる、イムノクロマトグラフィー用複合粒子。 - 特許庁

The sound absorbing sheet constituted by use of a foam resin sheet 2 formed of a foam resin material Ru has a two-layer structure by fixing and laminating a rubber sheet 3 formed of a rubber material Rb with a predetermined thickness onto one surface 2r of the foam resin sheet 2.例文帳に追加

発泡樹脂素材Ｒｕにより形成した発泡樹脂シート２を用いた吸音シートを構成するに際し、発泡樹脂シート２の一方の面２ｒに、ゴム素材Ｒｂにより所定の厚さに形成したゴムシート３を固着することにより二層構造に積層してなる。 - 特許庁

In the electrophotographic apparatus with a photoreceptor, an electrifying means, an exposure means, a developing means and a transfer means, the photoreceptor contains a graft copolymer having a core/shell structure including a polyorganosiloxane component in the top surface layer and the electrifying means comes in contact with the photoreceptor and electrifies this.例文帳に追加

感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を備えた電子写真装置において、感光体は、最表面層にポリオルガノシロキサン成分を含むコア／シェル構造を有するグラフト共重合体が含有され、帯電手段は、感光体に接触して帯電する。 - 特許庁

The carbon fiber material formed by a procedure like this is made to be granular matter formed by agglomerating the gas phase-grown staple carbon fibers, and also has the structure in which the density of the carbon fibers is low in the inner part of the graular matter and high in the surface layer part of the granular matter.例文帳に追加

このような手順で形成された炭素繊維材料は、短繊維状の気相成長炭素繊維を凝集させてなる粒子状物となり、しかも、炭素繊維の密度が粒子状物の内部で低く粒子状物の表層部で高い構造になっている。 - 特許庁

This flaking preventive concrete structure is so formed that the surface of a concrete base material is coated with a synthetic polymer resin primer, a continuous fiber sheet is stuck onto the primer layer by synthetic polymer-based ultra rapid hardening resin, and spraying the synthetic polymer- based high speed hardening resin to the continuous fiber sheet.例文帳に追加

コンクリート基材の表面に合成高分子系樹脂プライマーを塗布し、該プライマー層上に連続繊維シートを合成高分子系樹脂で接着し、該連続繊維シートに合成高分子系超速硬化樹脂を吹き付けることにより、剥落防止コンクリート構造物を形成する。 - 特許庁

There is provided a cathode active substance material comprising: a strongly basic cathode active substance; and a coat layer which is formed so as to cover a surface of the cathode active substance and is provided with an acidic polyanion structure.例文帳に追加

本発明においては、強塩基性を示す正極活物質と、上記正極活物質の表面を被覆するように形成され、酸性を示すポリアニオン構造部を備えるコート層とを有することを特徴とする正極活物質材料を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

A cavity part 27 is provided in a part of at least a surface layer of the circuit board 21 and a circuit forming material 1 formed under a wiring rule finer than that for the circuit board 21 is laminated in the cavity part 27 to obtain a structure in which an upper part of the circuit forming material 1 does not protrude.例文帳に追加

回路基板２１の少なくとも表層の一部にキャビティ部２７を設け、そのキャビティ部２７内に、回路基板２１より高精細な配線ルールで形成された回路形成材１を積層した構成とすることにより、回路形成材１の上部が飛び出ない構造としている。 - 特許庁

The present invention relates to a semiconductor device without a SAC structure in which, after a bit contact inter-layer film 13 is etched except for a place where the bit line 6 is formed, a direct nitride film 19 is formed on the entire top and side surface of the bit line 6 so as to cover the bit line 6.例文帳に追加

ＳＡＣ構造を採用していない半導体装置に対して、ビット線６が形成されている場所以外のビットコンタクト層間膜１３をエッチング処理により除去した後に、 ダイレクト窒化膜１９をビット線６の上面および側面の全面にビット線６を覆うようにして形成する。 - 特許庁

The core layer 20 comprises an acrylic polymer (A), and the surface layers 30a, 30b comprise an acrylic polymer (D) and a (meth)acrylic polymer (E) that contains as a monomer unit a (meth)acrylic monomer having a tricyclic or higher cyclic alicyclic structure and has a weight-average molecular weight of at least 1,000 and less than 30,000.例文帳に追加

芯層２０は、アクリル系ポリマー（Ａ）を含み、表層３０ａ，３０ｂは、アクリル系ポリマー（Ｄ）と、三環以上の脂環式構造を有する（メタ）アクリル系モノマーをモノマー単位として含み、重量平均分子量が１０００以上３００００未満の（メタ）アクリル系重合体（Ｅ）とを含んでいる。 - 特許庁

The vapor chamber includes a casing having a sealed cavity, a capillary structure layer installed on an inner surface of the casing, a supporting rack formed of at least one support line and stored in the cavity, and a working liquid enclosed in the cavity.例文帳に追加

本発明のベイパー・チェンバは、密封されたキャビティを有するケーシングと、前記ケーシングの内表面に設置される毛細構造層と、少なくとも１つの支持線からなり、且つ前記キャビティ内に収容されている支持架と、前記キャビティ内に封入されている作動液と、を備える。 - 特許庁

The structure (100') for mounting the semiconductor includes: a substrate (104); a silicon substrate (103), on which side part arc-shaped dents (120) are provided; a semiconductor chip (101) that is mounted on the silicon substrate (103); and an insulating layer (105) that covers the semiconductor chip (101) and sealing an upper surface of the silicon substrate.例文帳に追加

半導体実装構造体（１００‘）は、基板（１０４）と、側面に凹凸部（１２０）が設けられたシリコン基板（１０３）と、シリコン基板（１０３）の上に実装された半導体チップ（１０１）と、半導体チップ（１０１）と覆おうと共にシリコン基板の上面を封止する絶縁層（１０５）とを備える。 - 特許庁