「surface method」に関連した英語例文の一覧と使い方(992ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for producing the optically anisotropic body whose optical axis is in a direction perpendicular to a substrate surface includes: applying a polymerizable liquid crystal composition to the substrate; subjecting liquid crystal molecules in the polymerizable liquid crystal composition to homeotropic alignment to the substrate surface by regulation to a temperature at which the polymerizable liquid crystal composition takes on a smectic A phase; and fixing the aligned state by irradiation with active energy rays in the state.例文帳に追加

重合性液晶組成物を基板に塗布した後、重合性液晶組成物がスメクチックA相を呈する温度に調節することによって、基板面に対して重合性液晶組成物中の液晶分子をホメオトロピック配向させ、その状態で活性エネルギー線を照射し配向状態を固定することを特徴とする光軸が基板面に対して垂直方向にある光学異方体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The antistatic polyester woven fabric has ≥1×10^10Ω and ≤1×10^13Ω surface resistance value at 23°C at 50% RH environment after washing 50 times by JIS L0217 103 method and ≤300V surface potential in the same environment.例文帳に追加

ポリエステル系合成繊維マルチフィラメント糸を用いてなる制電性ポリエステル織物であって、導電性ポリエステルマルチフィラメント糸が経糸及び／又は緯糸として５ｍｍ以上３０ｍｍ以下の間隔で規則的に配置されてなり、ＪＩＳ Ｌ０２１７ １０３法による洗濯処理５０回実施後の２３℃、５０％ＲＨ環境下における表面抵抗値が１×１０^10Ω以上１×１０^13Ω以下、同環境下における表面電位が３００Ｖ以下である制電性ポリエステル織物。 - 特許庁

In the surface modification method for the medical device, the metallic porous thin plate 21 is manufactured by molding slurry containing metal powder and a foaming agent into a sheet shape through a foaming process, and then degreasing and sintering a dried molded article, and the metallic porous thin plate 21 is deformed so as to follow the surface shape of at least a part of the medical device body 31 and joined.例文帳に追加

本発明は、金属粉と発泡剤を含有するスラリーをシート状に成形し、発泡プロセスを経た後、乾燥させた成形体を脱脂、焼結することにより金属製多孔質薄板２１を製造しておき、該金属製多孔質薄板２１を、医療用デバイス本体３１の少なくとも一部の表面形状に沿わせるように変形させて接合することを特徴とする医療用デバイスの表面改質方法である。 - 特許庁

The method for transferring a fine-structure that transfers the fine pattern formed on one surface side of the stamper to a resist layer by pressing the fine pattern against the resist layer applied to one surface side of the transfer target body is characterized by substituting vapor of resist for an in-space atmosphere between the stamper and transfer target body before pressing the stamper against the transfer target body.例文帳に追加

本発明の微細構造転写方法は、スタンパの一方の面側に形成された微細パターンを、被転写体の一方の面側に塗布されたレジスト層に押圧することにより前記微細パターンを前記レジスト層に転写することからなる微細構造転写方法において、前記スタンパを前記被転写体に押圧する前に、前記スタンパと前記被転写体との間の空間内雰囲気を前記レジストの蒸気で置換することを特徴とする。 - 特許庁

A method for inspecting a semiconductor wafer which has a film to form device structures, including device patterns and may have crystal defects, comprises a process of exposing the crystal surface of the semiconductor wafer, by removing the device structure film with a chemical solution, a process of making apparent any crystal defects by selectively removing the surface layer of the semiconductor wafer through selective etching, and a process of quantitatively evaluating the crystal defects.例文帳に追加

デバイスパターンを含むデバイス構造を構成する膜を備え、結晶欠陥を有することがある半導体ウェーハを検査する方法において、上記デバイス構造膜を薬液で除去して半導体ウェーハの結晶表面を露出させる工程と、選択エッチングにより半導体ウェーハの表面層を選択的に除去して上記結晶欠陥を顕在化する工程と、上記結晶欠陥を定量的に評価する工程と、を備える。 - 特許庁

Fluorine-containing fine particles are added to a matrix toner containing at least a bonding resin and a colorant to obtain the objective electrophotographic toner used in an image forming method adopting an interim transfer system in which a toner image formed on a latent image carrier is primarily transferred onto the surface of an interim transfer body and the toner image on the interim transfer body is secondarily transferred onto the surface of a transfer material.例文帳に追加

１．潜像担持体上に形成されるトナー画像を中間転写体上に一次転写し、さらに中間転写体上のトナー画像を転写材上に二次転写する中間転写方式の画像形成方法に使用される電子写真用トナーにおいて、該電子写真用トナーが少なくとも結着樹脂及び着色剤を含有する母体トナーにフッ素含有微粒子を添加してなることを特徴とする電子写真用トナー。 - 特許庁

The method of manufacturing the nitride semiconductor device forming an electrode on a nitride semiconductor layer, includes the steps of: carrying out plasma etching on a front surface of the nitride semiconductor layer by using a reactive etching gas containing at least silicon; cleaning the etched region by an acid or an alkali process liquid, while putting the etched region to an inert gas plasma; and forming the electrode on a cleaned etched region front surface.例文帳に追加

窒化物半導体層上に電極を形成する窒化物半導体装置の製造方法において、少なくともシリコンを含む反応性エッチングガスを用いて、窒化物半導体層の表面をプラズマエッチングする工程と、そのエッチング領域を、不活性ガスのプラズマに曝すと共に、酸系あるいはアルカリ系の処理液で清浄化する工程と、清浄化されたエッチング領域表面に電極を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The method for removing the engine deposits comprises a step for providing a turbine component 10 having a surface 14 with engine deposits 58 thereon, wherein the turbine component 10 comprises a nickel and/or cobalt-containing base metal 50, and a step for treating the surface 14 of the turbine component 10 with the cleaning composition to convert the engine deposits 58 thereon to a removable smut without substantially etching the base metal 50 of the turbine component 10.例文帳に追加

デポジット除去方法は、その上にエンジンデポジット５８が付着した表面１４を有し、ニッケル及び／又はコバルト含有ベース金属５０を含むタービン構成部品１０を準備する段階と、タービン構成部品１０の表面１４を洗浄組成物で処理して、実質的に該タービン構成部品１０のベース金属５０をエッチングせずに該表面上のエンジンデポジット５８を除去可能なスマットに転換する段階とを含む。 - 特許庁

In this shape evaluation method for the semiconductor wafer for evaluating the shape of the semiconductor wafer, a shape data of the semiconductor wafer is measured by scanning a surface and/or a reverse face of the wafer, the measured shape data is differentiation-processed to calculate a differential profile, and the shape of the semiconductor wafer is evaluated by analyzing the resulting differential profile to find a surface characteristic of the wafer.例文帳に追加

半導体ウエーハの形状を評価する半導体ウエーハの形状評価方法であって、半導体ウエーハの表面及び／または裏面を走査して半導体ウエーハの形状データを測定し、測定した形状データを微分処理して微分プロファイルを算出し、得られた微分プロファイルの解析を行ってウエーハの表面特性を求めることにより半導体ウエーハの形状を評価することを特徴とする半導体ウエーハの形状評価方法。 - 特許庁

The sterilization method includes sliding or rolling the seeds 14 as a sterilization object to fall along an inclined inner circumferential surface of a cylindrical base material 10 to which a photocatalyst is supported while irradiating the inclined inner circumferential surface with an activation wavelength light of the photocatalyst from a lamp 18 provided on the inside of the cylindrical base material 10, so that bacteria that adhere to surfaces of seeds 14 are sterilized by photooxidation reaction by the photocatalyst.例文帳に追加

光触媒が担持された円筒状基材１０の傾斜した内周面に、前記光触媒の活性化波長光を円筒状基材１０の内側に設けたランプ１８から照射しつつ、傾斜した前記内周面上に沿って殺菌対象の種子１４を滑り或いは転がり落とし、前記光触媒による光酸化反応によって種子１４の表面に付着している菌を殺菌することを特徴とする。 - 特許庁

The image recording method displays an image by producing drops of an image display recording liquid comprising water, a coloring agent and a surfactant and satisfying following conditions depending on a print pulse and then moving the liquid drops onto the surface of a recording medium wherein the image display recording liquid is ejected from the free surface thereof to produce liquid drops having size of 0.1-5 pl.例文帳に追加

水、着色剤、及び、界面活性剤を含み、下記条件を満たす画像表示記録液を、印字パルスに応じて液滴化した後、記録媒体表面に移動させることにより画像を表示する画像記録方法であって、前記液滴化が、画像表示記録液の液滴を、該画像表示記録液の自由表面から噴射することにより、０．１〜５ｐｌの液滴サイズとなるように行われることを特徴とする画像記録方法である。 - 特許庁

A repair method of a finishing layer containing a colored aggregate in a synthetic resin with a film thickness of 2 mm or more comprises a first step of applying a coat peeling agent on the surface of the deteriorated finishing layer containing an aggregate and a second step of cleaning the surface of the finishing layer containing an aggregate with high water pressure of 3 to 10 MPa, in this order.例文帳に追加

本発明は、合成樹脂中に有色の骨材が分散されてなり、膜厚２ｍｍ以上の骨材含有仕上げ層の改修方法であって、劣化した骨材含有仕上げ層の表面に塗膜剥離剤を塗布する第１工程と、水圧３〜１０ＭＰａの高水圧で骨材含有仕上げ層の表面を洗浄する第２工程とを順次行うことを特徴とする骨材含有仕上げ層の改修方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the positive electrode for nonaqueous electrolyte battery by using the solid electrolyte includes a precursor sol solution filling process to fill a precursor sol solution of a positive electrode material with a positive electrode active material powder as a main substance in the concave part on the surface of a molding having unevenness on its surface; and a heat treatment process to heat-treat the molding filled with the precursor sol solution.例文帳に追加

固体電解質を用いた非水電解質電池用の正極の製造方法であって、正極活物質粉末を主体とし、表面に凹凸を有する成形体の表面の凹部に、正極材料の前駆体ゾル溶液を充填する前駆体ゾル溶液充填工程と、前駆体ゾル溶液が充填された成形体を熱処理する熱処理工程とを有することを特徴とする非水電解質電池用の正極の製造方法。 - 特許庁

A method for manufacturing the MEMS includes the steps of: forming an insulating layer on the surface of a semiconductor layer; forming a plurality of contact holes in the insulating layer; forming a protective film having holes on the surface of the insulating layer with the contact hole formed; and forming the piezoresistive part between the plurality of contact holes by implanting impurities to the semiconductor layer through the insulating layer exposed from the holes.例文帳に追加

半導体層の表面に絶縁層を形成し、前記絶縁層に複数のコンタクトホールを形成し、前記コンタクトホールが形成された前記絶縁層の表面に通孔を有する保護膜を形成し、前記通孔から露出している前記絶縁層を貫通させて前記半導体層に不純物を注入することにより複数の前記コンタクトホールの間にピエゾ抵抗部を形成する、ことを含むＭＥＭＳ製造方法。 - 特許庁

The provided method for marking an optical glass member includes: preparation of the optical glass member; formation of a film containing glass particles and a combustible substance on the surface of the optical glass member; and fusing the glass particles on the surface of the optical glass member as well as burning the combustible substance to dissipate it from the film by irradiating a prescribed region of the film with a laser beam.例文帳に追加

光学ガラス部材のマーク形成方法であって、光学ガラス部材を用意することと、ガラス粒子及び可燃物質を含む被膜を光学ガラス部材の表面に形成することと、被膜の所定の領域にレーザ光を照射することで、ガラス粒子を光学ガラス部材の表面に融着させるとともに、可燃物質を燃焼させて被膜から消失させることを含む光学ガラス部材のマーク形成方法が提供される。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes steps of: forming a plug conductive film on an entire surface of the substrate; etching the plug conductive film so as to form a landing plug; etching the substrate between landing plugs so as to form a trench; forming a gate insulating film on a surface of the trench; and forming the buried gate for burying part of the trench on the gate insulating film.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、基板の全面にプラグ導電膜を形成するステップと、前記プラグ導電膜をエッチングしてランディングプラグを形成するステップと、前記ランディングプラグ間の基板をエッチングしてトレンチを形成するステップと、前記トレンチの表面上にゲート絶縁膜を形成するステップと、前記ゲート絶縁膜上に前記トレンチの一部を埋め込む埋め込みゲートを形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The environmentally-friendly method of processing a substrate which prevents sludge includes steps of: generating a first laser beam; dividing the first laser beam into a plurality of second laser beams by using a diffraction optical element; converging the plurality of divided second laser beams onto a plane in the substrate which is parallel to a circumferential surface of the substrate; and separating the surface of the substrate along the plane in the substrate.例文帳に追加

スラッジの発生を防止できる親環境的な基板加工方法に係り、該基板加工方法は、第１レーザビームを生成する段階、回折光学素子を利用して第１レーザビームを複数個の第２レーザビームに分割する段階、分割された複数個の第２レーザビームを、基板の周面と平行な基板内部の平面に集束させる段階、及び基板内部の平面に沿って基板を面分離させる段階を含むことができる。 - 特許庁

In the method of manufacturing the hot dip metal coated steel strip by which the thickness of the deposited metal is controlled by blowing the gas from a gas wiping nozzle 1 oppositely arranged on both surface across the steel strip on the surface of the steel strip continuously pulled up from a hot melt metal plating bath, the curtain gas is jetted from the outside of each steel strip end part toward the steel strip end part in the jetting height position of the wiping gas.例文帳に追加

溶融金属めっき浴から連続的に引き上げられる鋼帯の表面に、鋼帯を挟んでその両面に対向配置したガスワイピングノズル１からガスを吹き付けて付着金属の厚さを制御する溶融金属めっき鋼帯の製造方法において、ワイピングガス噴射高さ位置で、各鋼帯端部外側から鋼帯端部に向けてカーテンガスを噴射することを特徴とする溶融金属めっき鋼帯の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing a silicon epitaxial wafer where a silicon homoepitaxial layer is grown on a surface of a silicon single crystal wafer includes, at least, a step for preparing a silicon single crystal wafer having a plane direction determined by inclining the (110) plane in the <112> direction in a range of 0.1-8°, and a step for growing a silicon homoepitaxial layer on the surface of the silicon single crystal wafer thus prepared.例文帳に追加

シリコン単結晶ウェーハの表面にシリコンホモエピタキシャル層を成長させたシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法であって、少なくとも、（１１０）面を＜１１２＞方向に０．１°以上、８°以下の範囲で傾斜させた面方位を持つシリコン単結晶ウェーハを準備する工程と、該準備したシリコン単結晶ウェーハの表面にシリコンホモエピタキシャル層を成長させる工程とを有することを特徴とするシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法。 - 特許庁

The micropattern transfer method has a process for applying a photocuring resin 8 to a surface of the substrate 1 discretely like islands assuming the surface as the sea so that a center 8a of each island-like photocuring resin 8 forms a planar thin film, and a periphery 8b of the resin island rises higher than the center 8a.例文帳に追加

本発明の微細構造転写方法は、基板１の表面を海として光硬化性樹脂８を島状に離散的に複数塗布する樹脂塗布工程であって、島状の各光硬化性樹脂８の中央部８ａが薄膜状に平坦であり、かつその周辺部８ｂが中央部８ａよりも盛り上がった形状となるように基板１上に光硬化性樹脂８を塗布する樹脂塗布工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method and a device for cleaning a photocatalyst-coated exterior surface capable of efficient cleaning by cleaning the photocatalyst-coated exterior surface by use of a self cleaning operation even when there is a cause of not exerting the self-cleaning operation such as no-irradiation with the sun shine (UV) or the shortage of rain water, thereby preventing the damage and separation of the photocatalyst coat caused by conventional cleaning means.例文帳に追加

日光（紫外線）が当らなかったり、雨水が少ないなどのセルフクリーニング作用が発揮されない要因があっても光触媒コートが施された外装面をそのセルフクリーニング作用を利用して清掃することで、従来の清掃手段で発生する光触媒コートの損傷や剥離を防止でき、効率的に清掃することができる光触媒コートが施された外装面の清掃方法およびその装置を提供すること。 - 特許庁

The method includes: an amorphous layer forming step of forming an amorphous layer 111 on a surface of a semiconductor substrate 100 by modifying a surface of the semiconductor substrate 100 into the amorphous layer; and a diffusion layer forming step of forming a diffusion layer 112 in the semiconductor substrate 100 by irradiating the semiconductor substrate 100 with a microwave in a dopant-containing gas atmosphere to diffuse the dopant in the amorphous layer 111 and also activating the dopant.例文帳に追加

半導体基板１００表面をアモルファス化することにより半導体基板１００表面にアモルファス層１１１を形成するアモルファス層形成工程と、ドーパントを含むガス雰囲気中で半導体基板１００にマイクロ波を照射することにより、アモルファス層１１１にドーパントを拡散させるとともにドーパントの活性化を行い、半導体基板１００に拡散層１１２を形成する拡散層形成工程と、を具備する。 - 特許庁

To provide a photocrosslinkable resin composition hardly receiving influence of polymerization impediment due to oxygen even while a resin layer surface is uncovered after film-thinning an photocrosslinkable resin layer in a method of manufacturing a circuit board for forming the photocrosslinkable resin layer on a substrate putting a conductive layer on the surface, and performing exposure of a circuit pattern and development treatment after performing film-thinning treatment of the photocrosslinkable resin layer with aqueous alkali solution.例文帳に追加

表面に導電層が設けられている基板上に光架橋性樹脂層を形成し、アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像処理を行う回路基板の製造方法において、光架橋性樹脂層を薄膜化した後、樹脂層表面が剥き出しの状態でも酸素による重合阻害の影響をほとんど受けない光架橋性樹脂組成物を提供することである。 - 特許庁

The method of surface treatment by anodizing comprises: a pretreatment step of removing impurities and an oxide layer present on the surface of magnesium or a magnesium alloy using a strongly alkaline aqueous solution; and a micro-arc plasma anodization step of immersing the pre-treated magnesium or magnesium alloy in an alkaline electrolyte and applying a direct current having a current density of 3 A/dm^2 or less to the electrolyte to form a magnesium oxide coating.例文帳に追加

開示した陽極酸化表面処理方法は、強アルカリの水溶液を利用してマグネシウム又はマグネシウム合金表面の異物質と酸化層を除去する前処理工程と；該前処理工程を経たマグネシウム又はマグネシウム合金をアルカリ電解液中に浸した後、電流密度が３Ａ／ｄｍ^２以下の直流電流を加えてマグネシウム酸化物の皮膜コーティング層を形成する微細アークプラズマ陽極酸化工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the draw die includes a step of coating a treatment solution containing a metal salt which reacts with a titanium compound on the surface of a cermet base material to generate a compound oxide on the surface of the cermet base material constituted of a sintered body in which a hard phase thereof is mainly composed of at least one kind of titanium compound, and a step of forming an oxidation-resistant film after the coating.例文帳に追加

本発明に係る引抜ダイスの製造方法は、炭化チタン、窒化チタンおよび炭窒化チタンのうち、少なくとも１種以上のチタン化合物を硬質相の主成分とする焼結体によって構成されたサーメット基材の表面に、前記サーメット基材表面のチタン化合物と反応して複合酸化物を生成する金属塩を含む処理液を塗布する工程と、前記塗布の後に耐酸化膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device is provided that comprises a step for evaporating a solvent by heating an adhesive and reducing vapor pressure of the solvent in an atmosphere to contact with the adhesive, and a step for forming the junction layer by heating the adhesive, when the adhesive having a resin and the solvent is adhered to a second surface opposed to a first surface on which a circuit pattern of a wafer is formed.例文帳に追加

ウェーハの回路パターンが形成された第１の面と対向する第２の面に、樹脂と溶媒とを含む接合剤を付着させる際に、接合剤を加熱して前記溶媒を蒸散させるとともに、前記接合剤が面する雰囲気における前記溶媒の蒸気圧を低下させる工程と、前記付着させた接合剤を加熱して接合層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent conductive film by which a transparent conductive film having a low resistivity and satisfactory optical characteristics by suppressing generation of streamer during film-deposition and reducing mixing of particles in the film caused by generation of streamer to suitably prevent deterioration of resistivity and having favorable texture (ruggedness) formed on the surface even when proper ruggedness does not exist on the deposition surface can be film-deposited with high productivity.例文帳に追加

成膜中のストリーマの発生を抑制して、ストリーマ発生に起因する膜中へのパーティクルの混入を減少させ、抵抗率の劣化を好適に防止した低い抵抗率および良好な光学特性を有し、しかも、成膜面に適正な凹凸が無い場合でも、表面に好適なテクスチャ（凹凸）が形成された透明導電膜を、高い生産性で成膜することができる透明導電膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor having the photosensitive layer and the surface layer at the least on an electroconductive support in this order includes a step of irradiating the surface layer, which includes a curable substance to be cured by irradiation of an active energy ray, with the active energy ray having the width X of 2 mm≤X≤20 mm as that of irradiation light to cure the curable substance.例文帳に追加

導電性支持体上に少なくとも感光層及び表面層をこの順に有する電子写真感光体の製造方法において、前記表面層は活性エネルギー線を照射することより硬化する硬化性物質を含み、照射光の幅Ｘが２ｍｍ≦Ｘ≦２０ｍｍである前記活性エネルギー線を前記表面層に照射し、前記硬化性物質を硬化させることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method for the semiconductor chip with the adhesive layer includes an applying process of applying an adhesive composition 40 containing a solvent to another surface of a semiconductor wafer 10 having a circuit on its one surface, an adhesive layer forming process of eliminating the solvent on the semiconductor wafer 10 to form the adhesive layer, and a cutting process of cutting the semiconductor wafer 10 having the adhesive layer 40 formed thereon to obtain semiconductor chips with the adhesive layers.例文帳に追加

一方面上に回路を有する半導体ウェハ１０の他方面上に溶媒を含む接着剤組成物４０を塗布する塗布工程と、接着剤組成物１０の前記溶媒を除去して接着剤層を形成する接着剤層形成工程と、接着剤層４０を形成した半導体ウェハ１０を切断して接着剤層付半導体チップを得る切断工程と、を備える、接着剤層付半導体チップの製造方法。 - 特許庁

The method includes: a process of granting binder-capturing liquid 20 which can capture the binder 44 on the surface of the collector 10; a process of granting mixture paste 30 containing the active material 42 and the binder 44 on the surface of the collector 10 with the binder-capturing liquid 20 granted; and a process of obtaining an electrode having the mixture layer formed on the collector 10 by drying the mixture paste 30 granted.例文帳に追加

この方法は、集電体１０の表面にバインダ４４を捕捉可能なバインダ捕捉用液体２０を付与する工程と、バインダ捕捉用液体２０が付与された集電体１０の表面に活物質４２及びバインダ４４を含む合材ペースト３０を付与する工程と、付与された合材ペースト３０を乾燥させることにより集電体１０上に合材層が形成された電極を得る工程とを包含する。 - 特許庁

By the method of forming the gate recess 20, UV light having energy, where a bandgap energy is equivalent to that of a prescribed semiconductor layer within the semiconductor layer, is applied from the surface of the semiconductor layer changing in a layer direction from a gate opening 19 by photoelectrochemical etching, and at the same time the semiconductor layer of prescribed bandgap energy within the semiconductor layer is etched from the gate opening of an SiN surface protection layer 17.例文帳に追加

光電気化学エッチングにより、バンドギャップエネルギーが、ゲート開口部１９から層方向に変化する半導体層の表面から前記半導体層内の所定の半導体層のバンドギャップエネルギーに相当するエネルギーを有するＵＶ光を照射しながら、ＳｉＮ表面保護層１７の前記ゲート開口部から前記半導体層内の所定のバンドギャップエネルギーの半導体層をエッチングすることを特徴とするゲートリセス２０の形成方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the printing original plate includes arranging a thermosetting resin composition (20) on the surface of a conductive support body (10), and carrying out high frequency induction heating of the conductive support body (10) to harden the resin composition (20) from the surface side abutting on the conductive support body (10) to thereby form a resin layer formed by hardening the thermosetting resin composition on the conductive support body (10).例文帳に追加

熱硬化性樹脂組成物(２０)を導電性支持体（１０）の表面上に配置する工程と、前記導電性支持体（１０）を高周波誘導加熱することにより、前記樹脂組成物(２０)を前記導電性支持体（１０）と接する面側から加熱し硬化させて、前記導電性支持体（１０）上に前記熱硬化性樹脂組成物が硬化されてなる樹脂層を形成する工程と、を含む印刷原版の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method includes a plasma treatment process for applying plasma treatment to at least the uppermost surface of a base material film with a plurality of plastic films peelably laminated in advance in an environment of the atmospheric pressure of 0.1 Pa or more and 10 Pa or less under the introduction of inert gas, and a gas barrier layer laminating process for laminating a gas barrier layer having the gas barrier characteristics on the surface after applying the plasma treatment process.例文帳に追加

少なくとも、複数枚のプラスチックフィルムが剥離可能に積層された状態である基材フィルムの最表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧０．１Ｐａ以上１０Ｐａ以下という環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にガスバリア性を有するガスバリア層を積層してなるガスバリア層積層工程と、を備えてなる製造方法とした。 - 特許庁

The patterning method of a wafer W includes a step for forming an L&S pattern 54A including multiple line patterns 40A on the surface of the wafer W, and a step for forming an L&S 56A including multiple linear resist patterns 42NA arranged between the multiple line patterns 40A on the surface of the wafer W so that the line widths of the line patterns 40A and the resist patterns 42NA have a negative correlation.例文帳に追加

ウエハＷにパターンを形成するパターン形成方法において、ウエハＷの表面に複数のラインパターン４０Ａを含むＬ＆Ｓパターン５４Ａを形成することと、ウエハＷの表面の複数のラインパターン４０Ａの間に配置される複数のライン状のレジストパターン４２ＮＡを含むＬ＆Ｓパターン５６Ａを、ラインパターン４０Ａの線幅とレジストパターン４２ＮＡの線幅とが負の相関を持つように形成することと、を含む。 - 特許庁

In a method of manufacturing an electrode by coating a conductive substrate with the composition containing the electrode active material, at least in the initial stage of a drying process, the coating layer formed on the conductive substrate by the coating means and to be dried is dried by a heating and drying means from a surface of the substrate opposite to a surface formed with the coating layer.例文帳に追加

電極活物質を含有した組成物を導電性基体上に塗布する電極の製電極活物質を含有した組成物を導電性基体上に塗布する電極の製造方法において、少なくとも乾燥工程の初期の段階は、導電性基体上に塗布手段によって形成された乾燥すべき塗布層が形成された面とは反対側の面から加熱乾燥手段によって乾燥を行う電極の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for efficiently and surely producing a laminate, which is provided with a thermoplastic resin film and a curable resin layer laminated on at least one surface of the thermoplastic resin, exhibits sufficiently good adhesiveness between the thermoplastic resin film and the curable resin layer, and has sufficient surface hardness, weather resistance, chemical resistance, durability and heat resistance.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルムと、前記熱可塑性樹脂フィルムの少なくとも一方の表面に積層された硬化性樹脂層とを備える積層体の製造方法において、熱可塑性樹脂フィルムと硬化性樹脂層との接着性が十分に優れており、且つ十分な表面硬度、耐候性、耐薬品性、耐久性及び耐熱性を有する積層体を効率よく且つ確実に製造することが可能な積層体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the polishing method of polishing a wafer W by pressing the wafer W on a polishing pad stuck on the upper surface of a rotated polishing surface plate with a prescribed pressure, while rotating it, polishing friction acting between the wafer W and the polishing pad is measured continuously, and the polishing end point is decided by detecting that the polishing friction changes by a preset change amount within preset unit time.例文帳に追加

回転する研磨定盤の上面に貼付された研磨パッドにウェーハＷを回転させながら所定の押圧力で押し付けることにより、ウェーハＷを研磨する研磨方法において、ウェーハＷと研磨パッドとの間に働く研磨摩擦力を連続的に計測し、その研磨摩擦力が予め設定された単位時間内に予め設定された変化量で変化したことを検出することにより研磨終点と判定する。 - 特許庁

To provide a deodorant capable of retaining the deodorizing function for an extended period, preventing sticking of odor components, especially the tar content of tobacco smoke, and suited for application to automobile interior surface materials and a method for providing a deodorizing function to automobile interior materials, capable of avoiding adverse effects on automobile interior surface materials by making the deodorant penetrate easily and minimizing thermal hysteresis.例文帳に追加

消臭機能を長期間保持することができると共に、臭気成分、特にたばこの煙に含まれるタール油分の固着を防止することができ、自動車用内装表皮材に塗布するのに好適な消臭剤と、当該消臭剤が浸透しやすく、熱履歴を最小限のものとすることによって内装表皮材への悪影響を回避することにできる自動車用内装材への消臭機能付与方法を提供する。 - 特許庁

The inkjet recording method comprises at least a process for forming the substantially white image by mixing a reaction liquid containing polyvalent metal ions and a liquid composition containing a metal colloid, both given to a medium to be recorded, on the medium to be recorded, wherein the metal colloid is a surface-treated titanium oxide, onto which a surface treatment for suppressing a photocatalytic action is applied.例文帳に追加

多価金属イオンを含んでなる反応液と、金属コロイドを含んでなる液体組成物とを被記録媒体に付与し、これらを被記録媒体上で混合させて実質的に白色の画像を形成する過程を少なくとも有するインクジェット記録方法であって、上記金属コロイドが、光触媒作用を抑制させるための表面処理が施された表面処理酸化チタンであることを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁

A solar cell manufacturing method includes the steps of coating a front surface of a semiconductor substrate with a dispersing agent containing either a p-type dopant or an n-type dopant, performing heat treatment on the dispersing agent to solidify the dispersing agent, partially removing and patterning the solidified dispersing agent, and dispersing the dopant from the patterned dispersing agent to form a dispersion layer on the front surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の表面上にｐ型ドーパントまたはｎ型ドーパントのいずれか一方を含む拡散剤を塗布する工程と、拡散剤を熱処理することによって固化させる工程と、固化した拡散剤の一部を除去して拡散剤をパターンニングする工程と、パターンニングされた拡散剤からドーパントを拡散させることにより半導体基板の表面に拡散層を形成する工程と、を含む、太陽電池の製造方法である。 - 特許庁

The short carbon nanotube having widened surface area, the method of cutting the carbon nanotube by which the structure change or the surface improvement of the carbon nanotube is facilitated to wholly facilitate the dispersion of the carbon nanotubes and an active component is enabled to insert into the inner wall of the carbon nanotube to increase the insertion efficiency, the carbon nanotube, the field emitter, the catalyst support and the mixed material of the carbon nanotube are provided.例文帳に追加

本発明によれば、表面積の拡大した短いカーボンナノチューブ、カーボンナノチューブの構造変化または表面改質を容易にすることによって、全体的なカーボンナノチューブの分散を容易にし、カーボンナノチューブの内壁への活性成分の挿入を可能にすることによって、挿入効率を増大させうるカーボンナノチューブの切断方法、カーボンナノチューブ、フィールドエミッタ、触媒担体、およびカーボンナノチューブの混成物質が提供される。 - 特許庁

A GUI including a graphics display surface and graphics objects, which can be displayed on the graphics display surface and operated in the uneven method assigns characteristics to the graphics objects, receives inputs, modifies and corrects the graphics objects based on the characteristics in response to the inputs, and modifies and corrects appearances of the graphics objects by displaying the modified and corrected graphics objects.例文帳に追加

グラフィック表示面と、このグラフィック表示面で表示可能であるとともに、非均一な方法で操作されることができるグラフィック・オブジェクトと、を含むグラフィカル・ユーザ・インタフェース（ＧＵＩ）において、グラフィック・オブジェクトに特性を割り当て、入力を受け取り、この入力に応じて、上記特性に基づいてグラフィック・オブジェクトを変更修正し、この変更修正されたグラフィック・オブジェクトを表示することにより、グラフィック・オブジェクトの外観を変更修正する。 - 特許庁

To provide a method for treating the surface of a rubber by which a structure derived from a fluorine-based compound having groups containing fluoroalkyl groups at both terminals of the molecule is precisely and efficiently bonded to a polymer main chain of a cross-linked rubber at the vicinity of the surface of a rubber base material.例文帳に追加

フルオロアルキル基を含有する基を両末端に有し、中間鎖に官能基が結合されてなるフッ素系化合物に由来の構造を、ゴム基材の表面近傍における架橋ゴムのポリマー主鎖に確実かつ効率的に結合させることができ、当該フッ素系化合物による表面処理効果を、種々の溶剤との接触によっても消滅または減殺されることなく安定的に発現させることのできるゴムの表面処理方法を提供すること。 - 特許庁

This method comprises using a humidity control sheet comprising a sealed bag containing a water absorptive and retaining material, having electroconductivity and food humidity control activity, and composed of a semipermeable resin, such as PVA resin, having permeable activity only to water, or a sealed bag having a porous nonwoven fabric or resin film on one surface and a porous or nonporous resin film on the other surface.例文帳に追加

ＰＶＡ樹脂等の水分のみを透過する性能を有する半透過性樹脂からなる密封袋体あるいは、一方の面に多孔質の不織布または樹脂フィルム、他方の面に多孔質または非多孔質の樹脂フィルムを用いてなる密封袋体中に、水分の吸収及び保水機能を有する物質を含み、食材から余分な水分を吸収して保持しつつ食材の湿度を調整する機能及び導電性を有する調湿シートを用いる。 - 特許庁

Further, the method of forming the optical waveguide 10 includes: forming the first waveguide core 20 on the surface of the first cladding layer 15; forming the long period grating 30 that is perpendicular to a surface of the first cladding layer 15 on the first waveguide core 20; and forming the second cladding layer 35 on the first cladding layer 15 so as to cover the first waveguide core 20.例文帳に追加

また、第一のクラッド層１５の表面上に第一の導波路コア２０を形成する工程と、前記第一のクラッド層１５の表面に対して垂直な長周期グレーティング３０を前記第一の導波路コア２０に形成する工程と、前記第一の導波路コア２０を覆うように前記第一のクラッド層１５上に第二のクラッド層３５を形成する工程と、を有する光導波路１０を形成する方法を提供する。 - 特許庁