「surface method」に関連した英語例文の一覧と使い方(993ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a curable composition containing an organic compound having a carbon-carbon double bond reactive with an SiH group, a silicon compound containing at least two SiH groups in one molecule, and a hydrosilylation catalyst, the composition suppressing corrosion on a metal surface, and to provide a treatment method for preventing corrosion on a metal surface by using the curable composition.例文帳に追加

ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する有機化合物と、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有するケイ素化合物と、ヒドロシリル化触媒とを含有する硬化性組成物において、金属表面の腐食を抑制することが可能な硬化性組成物を提供すること、および、その硬化性組成物を使用して金属表面の腐食を防止する処理方法を提供することである。 - 特許庁

In the method of manufacturing the wiring board, the oxidized film on the outermost surface of the tantalum nitride layer provided on the substrate is etched and, at the same time, the imidazole-alcohol compound is stuck to the surface of the tantalum nitride layer by treating the oxidized film with a mixed solution of an alkaline etchant and a specific imidazole-alcohol compound.例文帳に追加

イミダゾールアルコール化合物とアルカリ性溶液とを混合したエッチング剤兼防錆剤、基体上に窒化タンタル層、不可避的窒化タンタル酸化物層及びイミダゾールアルコール化合物からなる防錆層を順次有する配線用基板、及び基体上の窒化タンタル最表面の酸化膜をアルカリ性エッチング液と特定イミダゾールアルコール化合物の混合溶液で処理して、酸化膜をエッチングと同時にイミダゾールアルコール化合物を表面に付着させる配線用基板の製造方法。 - 特許庁

In this method for lining the inside of a tube with plural cured resin layers formed by separately laminating uncured resin layers 2A and 2B different in materials on the inside surface, an adhesion reducing treatment for reducing the adhesion of the surface of a proceeding laminated uncured resin layer to a succeeding laminated uncured resin layer is carried out, then the uncured resin layers different in materials are succeedingly laminated.例文帳に追加

材質が互いに異なる未硬化樹脂層２Ａ，２Ｂを管Ｐ内面に各別に積層して、それらの未硬化樹脂層が硬化した複数の硬化樹脂層で管内面をライニングする管内ライニング工法であって、先行して積層した未硬化樹脂層の表面の、後続して積層する材質が異なる未硬化樹脂層に対する粘着力を低下させる粘着力低下処理を行った後、材質が異なる未硬化樹脂層を後続して積層する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a PEFC electrode in which a platinum metal exists mainly in the interface of the surface of carbon particles and ion cluster portion of a cation exchange resin and in which the platinum metal in the PEFC electrode is increased and the utilization factor of the platinum metal is improved by solving a problem that binding force between the surface of the carbon particles and the cation exchange resin is not sufficient.例文帳に追加

白金族金属が主にカーボン粒子の表面と陽イオン交換樹脂のイオンクラスター部分との接面に存在するＰＥＦＣ用電極の製造方法における、カーボン粒子の表面と陽イオン交換樹脂との結着力が充分でないという問題を解決し、ＰＥＦＣ用電極中の白金族金属を増加させ、白金族金属の利用率を向上させたＰＥＦＣ用電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of diffusing impurities into crystal silicon particles has process of forming silica glass containing impurities for a second conductive semiconductor on the surface of crystal silicon particles by introducing an impurity gas containing oxygen while inputting a great amount of first conductive crystal silicon particles into a diffusion pipe to make stir and process of forming a second conductive silicon layer by making impurities diffuse on the surface of the crystal silicon.例文帳に追加

結晶シリコン粒子への不純物の拡散方法は、拡散管内に多数の第１導電型の結晶シリコン粒子を入れて攪拌させながら酸素を含んだ不純物ガスを導入することによって、結晶シリコン粒子の表面に第２の導電型用の不純物を含有した珪酸ガラスを形成する工程と、結晶シリコン粒子の表面に不純物を拡散させて第２の導電型のシリコン層を形成する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a polishing method of a silicon wafer, which polishes the surface of the silicon wafer by applying a predetermined polishing liquid to the surface of a polishing pad and relatively sliding the polishing pad on the silicon wafer fixed by a carrier, and which maintains excellent polishing uniformity and flatness especially for a wafer of a large diameter and effectively suppresses noise generated from the carrier during the polishing.例文帳に追加

本発明の目的は、研磨パッドの表面に、所定の研磨液を塗布し、キャリアによって固定されたシリコンウェーハに対し前記研磨パッドを相対的に摺動させることで、シリコンウェーハ表面を研磨するシリコンウェーハの研磨方法であって、特に大口径のウェーハに対して、優れた研磨均一性及び平坦度を維持するとともに、研磨中にキャリアから発生する騒音を有効に抑制できる研磨方法を提供することにある。 - 特許庁

The manufacturing method of the exposure head includes a first step of forming a plurality of recessed portions, which define lens curved surfaces in lens formation regions of the second surface, by engraving the substrate from the second surface side and a second step of filling the plurality of recessed portions with a transparent resin and then forming the plurality of micro-lenses by curing the filled transparent resin.例文帳に追加

ドライエッチング法を用いて複数の凹部を形成した場合には、各凹部の内側表面の形状、即ち内側表面の曲率半径等のマイクロレンズの光学特性を決める要素を凹部毎に個別に設定できなかったが、非特許文献１及び２に開示された機械加工技術を凹部の形成に応用することによって、マイクロレンズのレンズ曲面を規定する各凹部４５の内側表面の形状をマイクロレンズ毎に個別に設定できる。 - 特許庁

The method is used to form a protective film on the back surface of a semiconductor chip and comprises a double protective-film-forming layer for chips with the color of the outermost layer being different from that of the other layer to the back surface of a semiconductor and shaving the outermost layer partially through laser irradiation to form exposed parts of the other layer of the different color for marking.例文帳に追加

半導体チップ裏面に保護膜を形成する方法において、少なくとも２層の保護膜形成層からなり、最外層と最外層以外の層の色が異なるチップ用保護膜形成用シートが半導体裏面に貼り合わされ、レーザー照射で最外層が部分的に削り取られ、色の異なる最外層以外の層の露出部が形成され、この露出部によりマーキングすることを特徴とするチップ用保護膜形成用シートによる保護膜形成方法。 - 特許庁

The method for producing a metal oxide film includes obtaining a metal oxide film by bringing a metal oxide film forming solution in which a metal salt or a metal complex has been dissolved as a metal source into contact with a substrate surface, wherein when the metal oxide film forming solution is brought into contact with the substrate surface, light is illuminated.例文帳に追加

本発明は、基材表面に、金属源として金属塩または金属錯体が溶解した金属酸化物膜形成用溶液を接触させることにより金属酸化物膜を得る金属酸化物膜の製造方法であって、上記基材表面と上記金属酸化物膜形成用溶液とを接触させる際に、光を照射することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device comprises the steps of: forming patterns MK having a step with respect to a primary surface of a semiconductor substrate SUB, on the primary surface; forming a first semiconductor layer PS1 containing a semiconductor material above the patterns MK; forming a second semiconductor layer PS2 containing a semiconductor material above the first semiconductor layer PS1; and forming resist patterns RS above the second semiconductor layer PS2.例文帳に追加

半導体基板ＳＵＢの主表面上に、主表面に対して段差を有するパターンＭＫが形成される工程と、パターンＭＫ上に、半導体材料を含む第１の半導体層ＰＳ１が形成される工程と、第１の半導体層ＰＳ１上に、半導体材料を含む第２の半導体層ＰＳ２が形成される工程と、第２の半導体層ＰＳ２上にレジストパターンＲＳが形成される工程とを備えている。 - 特許庁

The method for producing the recycled polyester pellets of a polyester film having a coated layer at least on one surface includes adding a phosphorus-based oxidation inhibitor at a raw material-charging port of an extruder to a pulverized product obtained by inserting and pulverizing the polyester film having the coating layer at least on one surface to a pulverizer directly linked to the extruder so that the concentration may be 100-1,000 ppm.例文帳に追加

塗布層を少なくとも片面に有するポリエステルフィルムの再生ポリエステルペレットの製造方法であって、塗布層を少なくとも片面に有するポリエステルフィルムを押出機に直接連結された粉砕機に投入して粉砕して得られる粉砕物に対し、濃度が１００〜１０００ｐｐｍとなるように、押出機の原料投入口においてリン系酸化防止剤を添加することを特徴とする再生ポリエステルペレットの製造方法。 - 特許庁

The ratio of a surface resistance value (after washing 50 times/before washing) at 23°C at 50% RH environment after washing 50 times by JIS L0217 103 method to a surface resistance value before washing is ≥1 and ≤ 300.例文帳に追加

ポリエステル系合成繊維マルチフィラメント糸を用いてなる制電性ポリエステル織物であって、導電性ポリエステルマルチフィラメント糸が経糸及び／又は緯糸として５ｍｍ以上３０ｍｍ以下の間隔で規則的に配置されてなり、洗濯未実施とＪＩＳ Ｌ０２１７ １０３法による洗濯５０回実施後の２３℃、５０％ＲＨ環境下における表面抵抗値の比（洗濯５０回後／洗濯未実施）が１以上３００以下である制電性ポリエステル織物。 - 特許庁

In the method for producing a polyimide film composition, a polyimide precursor solution is applied to the surface of a substrate and dried or half-cured to form a polyimide precursor resin layer, a metallic layer is formed on the surface of the polyimide precursor resin layer and the polyimide precursor resin layer is heat-cured after or during the formation of the metallic layer to form a polyimide resin layer.例文帳に追加

基体表面にポリイミド前駆体溶液を塗布して乾燥もしくは半硬化してポリイミド前駆体樹脂層を形成し、ポリイミド前駆体樹脂層表面に金属層を形成した後或いは形成途中に、ポリイミド前駆体樹脂層を加熱硬化してポリイミド樹脂層を形成するポリイミド被膜組成物の製造方法、並びに、それにより得られるポリイミド被膜組成物、無端ベルト、定着ベルト、及び、電子写真感光体である。 - 特許庁

The production method of a carbon steel material by surface treatment of a carbon steel includes: a nitriding treatment process of forming a nitride or nitrogen-diffusion layer on the surface of the carbon steel; and a molten salt treatment process of immersing the carbon steel after the nitriding treatment in a molten salt bath containing vanadium so as to convert the nitride or nitride-diffusion layer into a coating layer containing vanadium nitride and vanadium carbide.例文帳に追加

炭素鋼材を表面処理した炭素鋼材料の製造方法であって、前記炭素鋼材表面に窒化物ないし窒素拡散層を形成する窒化処理工程と、前記窒化処理後の炭素鋼材をバナジウムを含む溶融塩浴に浸漬し、前記窒化物ないし窒素拡散層をバナジウム窒化物およびバナジウム炭化物を含む被覆層とする溶融塩処理工程とを含むことを特徴とする炭素鋼材料の製造方法。 - 特許庁

The method for measuring the element distribution in a depth direction has a process for adding an alkali metal to the surface of the sample, a process for irradiating the measuring region of the surface of the sample with primary ions comprising alkali metal ions and a process for performing the mass separation of secondary ions discharged from the measuring region by irradiation with primary ions and measuring the discharged quantity of specific secondary ions to analyze the element distribution.例文帳に追加

試料の表面にアルカリ金属を含有させる工程と、前記アルカリ金属のイオンよりなる一次イオンを前記試料の表面の測定領域に照射する工程と、前記一次イオンの照射により前記測定領域から放出された二次イオンを質量分離し、特定の二次イオンの放出量を測定して元素分布を分析する工程とを有する深さ方向元素分布測定方法によって解決する。 - 特許庁

In this manufacturing method of a semiconductor laser, a semiconductor thin film comprising an active layer is laminated on a semiconductor substrate, the semiconductor substrate is cleaved together with the semiconductor thin film, a cleavage surface obtained by cleavage of the semiconductor substrate and the semiconductor thin film is exposed to plasma atmosphere by halogen gas or gas including halogen an thereafter a protection layer is formed in the cleavage surface without exposing it to the air.例文帳に追加

半導体基板上に活性層を含む半導体薄膜を積層し、次に該半導体薄膜とともに該半導体基板をヘキ開し、ヘキ開により得られた半導体基板と半導体薄膜のヘキ開面をハロゲンガスもしくはハロゲンを含むガスによるプラズマ雰囲気に曝露した後、続けて大気にさらすことなくこれらのヘキ開面に保護層を形成することを特徴とする半導体レーザの製造方法である。 - 特許庁

A method of manufacturing the ceramic package formed by dividing a ceramic substrate which is obtained by stacking an uncalcinated ceramics and firing the stacked ceramics, according to a groove formed in a prescribed pattern, includes a step of dividing the ceramic substrate while applying bending moment with a principal surface of the ceramic substrate as a point of action, and also applying drawing moment in a direction parallel to the principal surface.例文帳に追加

本発明にかかるセラミックパッケージの製造方法は、未焼成セラミックを積層し焼成して得たセラミック基板を所定のパターンに形成された溝に従って分割することによりパッケージとするセラミックパッケージの製造方法であって、セラミック基板の主面を作用点とし、曲げモーメントを加えるとともに、主面に平行な方向に引っ張りモーメントを加えながらセラミック基板を分割する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the thin film manufacturing method, when hydrophobic substance is deposited on the surface of a substrate in water by performing reduction of surfactant after dissolving the hydrophobic substance in water or dispersing the substance as particles in water by using the surfactant, hydrophobicity of the surfactant is increased by the reduction, and the hydrophobic substance is de-dissolved or de-dispersed in a vicinity of the surface of the substrate thereby.例文帳に追加

本発明による薄膜の製造方法は、界面活性剤を用いて疎水性物質を水中へ溶解または微粒子として分散させた後、該界面活性剤を還元することにより該疎水性物質を該水中の基板表面に付着させるに際し、該還元により該界面活性剤の疎水性を増大させ、よって該基板表面の近傍において該疎水性物質を脱溶解または脱分散させることを特徴とする。 - 特許庁

A method for producing the hydrophilic member includes applying a hydrophilic composition containing at least one hydrophilic polymer onto the base including metal or resin, performing heat treatment to the base with the hydrophilic composition in a coil shape or roll shape, and setting the surface roughness Ra of the hydrophilic coating after the heat treatment to 80-150% to the surface roughness Ra of the hydrophilic coating before the heat treatment.例文帳に追加

金属又は樹脂を含む基材上に、少なくとも一種の親水性ポリマーを含有する親水性組成物を塗布し、該親水性組成物を塗布した基材をコイル状又はロール状にして、加熱処理を行い、該加熱処理後の親水性塗膜の表面粗さＲａを、該加熱処理前の親水性塗膜の表面粗さＲａに対して８０％〜１５０％とすることを特徴とする親水性部材の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method is for the graphitized powder consisting of mesocarbon microspheres and comprises the steps of: peeling off a surface part of the sintered powder of mesocarbon microspheres and obtaining the mixture of peeled surface portions and remaining portions; removing the peeled portions from the above mixture to obtain the remaining portions; and graphitizing the remaining portions to obtain the graphitized powder of mesocarbon microspheres.例文帳に追加

メソカーボン小球体黒鉛化粉の製造方法であって、メソカーボン小球体焼成粉の表面部分を剥離手段により剥離し、剥離された前記表面部分である剥離部と残部との混合物を得る剥離工程と、前記混合物から、前記剥離部を除去し、前記残部を得る除去工程と、前記残部を黒鉛化処理し、メソカーボン小球体黒鉛化粉を得る黒鉛化工程と、を具備するメソカーボン小球体黒鉛化粉の製造方法。 - 特許庁

The production method of a carbon steel material by surface treatment of a carbon steel includes: a carburizing treatment process of precipitating carbon as a solid solution or a carbide from the surface to the inner part of the carbon steel; and a molten salt treatment process of immersing the carburized carbon steel after the carburization treatment in a molten salt bath containing vanadium to convert the carbide layer into a coating layer containing vanadium carbide.例文帳に追加

炭素鋼材を表面処理した炭素鋼材料の製造方法であって、前記炭素鋼材表面から内部にわたって炭素を固溶ないし炭化物として析出させる浸炭処理工程と、前記浸炭処理後の炭素鋼材をバナジウムを含む溶融塩浴に浸漬し、前記炭化物層をバナジウム炭化物を含む被覆層とする溶融塩処理工程とを含むことを特徴とする炭素鋼材料の製造方法。 - 特許庁

Besides, the image forming method comprises a latent image forming process, a developing process, a transfer process and a cleaning process, and the surface of the latent image carrier is ground while maintaining the relation between the surface roughness Rz and the wear velocity W of the latent image carrier shown by the aforesaid inequality.例文帳に追加

Ｒｚ（ｎｍ）＜３．６×Ｗ＋３０Ｒｚ：原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による８０μｍ長さでの１０点平均粗さＷ ：磨耗速度（ｎｍ／１０００回転）、ただし１＜Ｗ＜２０又は、潜像形成工程と、現像工程と、転写工程と、クリーニング工程とを具備し、前記潜像担持体の表面粗さＲｚ及び磨耗速度Ｗを前記式の関係を保たせながら、前記潜像担持体の表面を研磨することを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁

The method and apparatus for continuously treating the surface of carbon nanotubes comprises treating a carbon nanotube mixture including an oxidizer for forming nitric acid and a carbon nanotube solution including a nitro compound presented by chemical formula 1 below with subcritical or supercritical water at 50-400 atm to produce a product the surface of which is functionalized without using strong acids or strong bases.例文帳に追加

下記の化学式１のニトロ化合物が含有されたカーボンナノチューブ溶液及び硝酸形成酸化剤が含まれたカーボンナノチューブ混合液を５０〜４００ａｔｍの亜臨界水または超臨界水条件で処理し、表面が官能基化された生成物が製造されて、強酸または強塩基の使用を排除し、ニトロ化合物を使用して、亜臨界水または超臨界水条件でカーボンナノチューブを連続的に表面処理する方法及び装置。 - 特許庁

The method for manufacturing the epitaxial wafer includes at least the processes of: forming an organic film on the surface of a silicon single-crystal substrate; forming an ion-implanted layer in the silicon single-crystal substrate by ion implantation through the organic film; removing the organic film; and forming the epitaxial layer on the surface with the organic film removed.例文帳に追加

エピタキシャルウェーハの製造方法であって、少なくとも、シリコン単結晶基板の表面に有機膜を形成する工程と、該有機膜を通してイオン注入することによって前記シリコン単結晶基板にイオン注入層を形成する工程と、前記有機膜を除去する工程と、前記有機膜を除去された表面上にエピタキシャル層を形成する工程とを有することを特徴とするエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mirror polishing method for grinding silicon wafer without causing machining damage such as scratching and forming a deteriorated layer by machining on a grinding silicon wafer surface, causing little surface roughness, generating little rolled edge, obtaining a high flatness easily, needing little amount of polishing, improving a throughput, having no problem in treating etching waste liquid and causing no damage to a polishing device and jigs.例文帳に追加

研削シリコンウエハ表面にスクラッチや加工変質層の形成などの加工ダメージを与えることがなく、表面粗さが小さく、エッジ部ダレの発生も少なく、高平坦度が容易に得られ、必要研摩量も少なくて済み、スループットが向上し、しかも、エッチング廃液の処理問題もなく、さらにアルカリ廃液の処理問題ならびに研摩装置および治具の損傷等もない研削シリコンウエハの鏡面研摩方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The wiring forming method includes: patterning a silver halide emulsion onto at least one surface side of a substrate in accordance with a wiring pattern to form a patterned emulsion layer made of the silver halide emulsion on at least the one surface side of the substrate; exposing the patterned emulsion layer; and performing development processing for the exposed patterned emulsion layer to form a patterned conductive silver layer as the wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンに応じて、ハロゲン化銀乳剤を基板の少なくとも片側表面上にパターニングして、前記基板の少なくとも片側表面上に前記ハロゲン化銀乳剤からなるパターン化された乳剤層を形成し、前記パターン化された乳剤層を露光した後、前記露光されたパターン化された乳剤層を現像処理して、パターン化された導電性銀層を前記配線パターンとして形成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

The oxide superconductor S has an oxide superconducting layer b obtained through a method to form a film by a chemical reaction of oxide superconductor raw material gas on at least one surface side of a tape- form base material 38 containing Ag in it, on a surface layer part of the base material 38 formed a diffused layer c with Cu diffused, and the oxide superconducting layer formed on the diffused layer c.例文帳に追加

Ａｇを含むテープ状の基材３８の少なくとも一面側において酸化物超電導体の原料ガスを化学反応させて前記基材上に成膜する方法により得られた酸化物超電導層ｂを有し、前記基材３８の表層部に、Ｃｕが拡散された拡散層ｃが形成され、該拡散層ｃ上に前記酸化物超電導層が形成されたことを特徴とする酸化物超電導導体Ｓ及びその製造方法。 - 特許庁

This method/system for inputting a mark to a user interface provides a surface arranged in connection with at least one selectable button, receives stroke information in response to strokes 302 to 320 generated on the surface of the user interface by a pointer device and in connection with at least one selectable button on the user interface, identifies a mark based on stroke information and provides this mark for furthermore processing.例文帳に追加

ユーザインタフェースに記号を入力する方法及びシステムであり、少なくとも１つの選択可能なボタンに関連して配置された表面を提供し、ポインタ装置がユーザインタフェースの表面に生成するストローク３０２〜３２０に応答して、かつユーザインタフェース上の少なくとも１つの選択可能なボタンに関連してストローク情報を受信し、前記ストローク情報に基づき記号を識別し、この記号をさらなる処理のために提供する。 - 特許庁

The processed glass substrate wherein a through-hole is formed is manufactured in the good productivity without further providing a process for smoothing the surface of the glass substrate after a dipping process since the method for manufacturing the processed glass substrate includes the dipping process for dipping the glass substrate wherein the through-hole is formed after forming a photosensitive resin layer on the surface into acid in the state wherein the photosensitive resin layer is remained.例文帳に追加

本発明の加工ガラス基板の製造方法は、その表面に感光性樹脂層が形成された後に貫通孔が形成されたガラス基板を、当該感光性樹脂層を残存させた状態で酸に浸漬する浸漬工程を含んでいるので、浸漬工程の後に当該ガラス基板の表面を滑らかにする工程をさらに設ける必要が無く、貫通孔が形成された加工ガラス基板を生産性良く製造することができる。 - 特許庁

Namely, the method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of: directly attaching the photosensitive adhesive layer 10 with the above performance onto the semiconductor mounted surface 6a of the support member 6; patterning the photosensitive adhesive layer 10 on the semiconductor mounted surface 6a through exposure and development; and directly adhering the semiconductor element 8a to the patterned photosensitive adhesive layer (insulating layer) 10a.例文帳に追加

すなわち、本発明に係る半導体装置の製造方法は、支持部材６の半導体搭載面６ａ上に上記性能を有する感光性接着剤層１０を直接付設する工程と、半導体搭載面６ａ上の感光性接着剤層１０を露光及び現像によってパターニングする工程と、パターニングされた感光性接着剤層（絶縁層）１０ａに半導体素子８ａを直接接着する工程とを備える。 - 特許庁

This method for modifying and coloring a surface of a resin is provide by putting a resin formed material and an organic compound having an affinity to the resin and also a sublimating property in a hermetically closed container, and adjusting inside pressure and temperature to make a saturated sublimation pressure state for uniformly attaching the organic compound on the surface of the resin formed material and further penetrating/dispersing to its inside.例文帳に追加

樹脂成形物、および、前記樹脂と親和性があり、かつ昇華性の有機化合物とを密閉式容器に入れ、内部の圧力および温度を調節して前記有機化合物の飽和昇華圧状態に置くことによって、前記有機化合物蒸気が前記樹脂成形物表面に均一に付着し、更に、内部に浸透・分散していくようにし、樹脂表面層の改質および／または着色を行うことができる。 - 特許庁

The method for manufacturing a decorative sheet includes a process for forming a design layer on a base material, a process for smoothing a surface of the design layer, a process for laminating an ionizing-radiation-curable resin composition on the smooth surface of the design layer, and a process for forming a surface protecting layer by curing the ionizing-radiation-curable resin composition.例文帳に追加

基材上に意匠層を形成する工程と、該意匠層表面を平滑面にする工程と、該意匠層の平滑面上に電離放射線硬化性樹脂組成物を積層する工程と、該電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化して表面保護層を形成する工程とを含む加飾シートの製造方法であって、さらに該加飾シートの裏面の十点平均粗さＲｚＪＩＳと基材の厚さＴとが下記式（Ｉ）を満たし、かつ、算術平均粗さＲａと基材の厚さＴとが下記式（ＩＩ）を満たすようにする粗面化処理工程を含むことを特徴とする加飾シートの製造方法である。 - 特許庁

The method for producing electroconductive resin moldings is characterized by soaking the moldings comprising a thermoplastic resin in an organic solvent containing carbon materials, adsorbing the carbon materials on the surface of the moldings in the presence of subcritical or supercritical state carbon dioxide, and removing carbon dioxide and the organic solvent, and the electroconductive resin moldings are obtained by the method.例文帳に追加

熱可塑性樹脂からなる成形体を、カーボン材料を含有する有機溶媒中に浸漬し、亜臨界状態又は超臨界状態の二酸化炭素の存在下で、カーボン材料を成形体表面に収着させた後、二酸化炭素及び有機溶媒を除去することを特徴とする導電性樹脂成形体の製造方法、及びその方法により得られた導電性樹脂成形体である。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a substrate surface that can be cleaned regardless of electrical characteristics in which the substrate to be cleaned is conductive or insulated and regardless of whether a target to be cleaned is an organic matter or an inorganic matter while reducing costs, such as facility costs, and a burden exerted on the environment, and to provide a cleaning apparatus using the cleaning method.例文帳に追加

設備費用などのコストの削減および環境への負荷の低減を実現でき、さらに、被洗浄物である基板が導電性であるか絶縁性であるかという電気的特性に関係なく、洗浄対象物も有機物であるか無機物であるかに関係なく、洗浄することができる基板表面の洗浄方法およびこの方法を用いた洗浄装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A manufacturing method of a battery electrode includes a step of acquiring an active material in which a metallic conductive material is supported by dispersing and supporting a metallic compound which is a conductive material precursor on a surface of the active material in an electroless plating method and a step of forming an active material layer including the active material and a binder on a collector without adding conductive materials other than the metallic conductive material.例文帳に追加

導電材前駆体である金属化合物を無電解メッキ法によって活物質表面に分散担持して、金属製導電材が担持されてなる活物質を得る工程と、前記金属製導電材以外の導電材を添加することなく、前記活物質とバインダとを含む活物質層を集電体上に形成する工程と、を含む、電池用電極の製造方法によって達成される。 - 特許庁

In the method for preventing corrosion of an object metal body in the lithium bromide aqueous solution, the method sets the magnetite concentration in the aqueous solution to a predetermined concentration or less of becoming a specific corrosion quantity of less in corrosion of an object metal body surface generated by the relationship between magnetite in the aqueous solution and the object metal body.例文帳に追加

臭化リチウム水溶液中における対象金属体の腐食防止方法であって、 前記対象金属体が前記水溶液に接触する状態で、前記水溶液中におけるマグネタイト濃度を、前記水溶液中のマグネタイトと前記対象金属体との関係で発生する前記対象金属体表面の腐食が一定腐食量以下となる所定濃度以下とする腐食防止方法。 - 特許庁

The desalting method includes producing micro bubbles in raw water containing salts and separating the raw water containing the micro bubbles with a membrane to obtain water, wherein a substantially sufficient effective pressure is worked on the membrane surface at a lower operating pressure than that of a conventional method by electrifying the micro bubbles so as to allow zeta potential in the vicinity of the surfaces of the micro bubbles to be -10 to -150 mV.例文帳に追加

塩類を含む原水中に微細気泡を生成させ、該微細気泡を含んだ原水を濾過膜分離して水を得ることを特徴とする脱塩処理方法において、該微細気泡の表面近傍におけるゼータ電位が−１０ｍＶ〜−１５０ｍＶとなるように、該微細気泡を帯電させることにより、従来よりも低い操作圧で実質的に十分な有効圧を膜面に作用させる。 - 特許庁

In this radiographic image conversion panel with a stimulable phosphor layer having CsBr:Eu stimulable phosphor formed on a support by a vapor deposition method (vapor phase method), layers of low luminous intensity and layers of high luminous intensity are layered alternately when a cross section of the stimulable phosphor layer is excited from a support side toward a phosphor layer surface side by an excitation light source.例文帳に追加

支持体上にＣｓＢｒ：Ｅｕ輝尽性蛍光体を有する輝尽性蛍光体層が気相堆積法（気相法）により形成される放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層の断面を励起光源にて支持体側から蛍光体層表面側に向かって励起した際に、発光強度の低い層と発光強度の高い層が交互に積層されていることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

To provide a polishing pad intended to improve properties of sticking to especially a polishing machine, and polishing device and method using the same, and to provide a polishing pad capable of reducing adhesive property of dust to a surface of an object to be polished, reducing scratch flaw, and simultaneously having plananizating property, and polishing device and method using the same.例文帳に追加

特に研磨機への貼りつけ性を改善することを目指した研磨用パッドおよびそれを用いた研磨装置ならびに研磨方法を提供することを課題とし、また、被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、さらに平坦化特性をも両立させることが可能な研磨用パッドおよびそれを用いた研磨装置ならびに研磨方法を提供することもその課題とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical filter for display including a structure in which a conductive layer and a grounding electrode electrically conducting to the conductive layer are provided on one surface of a base material film, wherein the conduction of the conductive layer is unfailingly ensured without using a complicated process: and to provide the optical filter for display manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

基材フィルムの１方の表面上に導電層と、その導電層と電気的に導通する接地用電極が設けられた構造を含むディスプレイ用光学フィルタの製造方法であって、煩雑な工程を用いることなく、確実に導電層の導通が確保されたディスプレイ用光学フィルタの製造方法、及びその製造方法により製造されたディスプレイ用光学フィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an organic photoreceptor containing fluorine-containing resin particulates of <0.2 μm in number average primary grain size in the surface layer of the organic photoreceptor by solving the various problems of the prior art, and to provide a method for manufacturing an organic photoreceptor capable of providing an electrophotographic image of high image qualiy and high definition, an organic photoreceptor, and an application liquid.例文帳に追加

本発明の目的は、上述のような従来技術の問題点を解決して、数平均一次粒径が０．２μｍ未満の含フッ素樹脂微粒子を有機感光体の表面層に含有する有機感光体の製造方法を提供することであり、高画質、高精細の電子写真画像を提供することができる有機感光体の製造方法、有機感光体及び塗布液を提供することである。 - 特許庁

To provide a permanent pattern forming method by which permanent patterns such as a protective film, an insulating film and a solder resist pattern can be efficiently formed with high definition, by forming a desired drawn pattern with few jags on a surface of a photosensitive layer to be exposed without reducing exposure speed, in a pattern forming method in which exposure is performed for drawing by inclining a light modulating means.例文帳に追加

前記光変調手段を傾斜させて描画を行う露光を行うパターン形成方法において、露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成することにより、保護膜、絶縁膜、及びソルダーレジストパターン等の永久パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能な永久パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Disclosed are the liquid crystal panel constituted by charging a liquid crystal layer 33 between a couple of substrates S each having an alignment film 32 formed on a surface and its manufacturing method, the liquid crystal panel and its manufacturing method being characterized in that the alignment film 32 is formed of a hydrophobic inorganic material and an adsorption layer 31 made of a hydrophilic inorganic material is provided between at least one substrate S and the alignment film 32.例文帳に追加

表面に配向膜３２が形成された一対の基板Ｓ間に液晶層３３を封止してなる液晶パネルおよびその製造方法であって、配向膜３２は、疎水性の無機材料で形成されており、少なくとも一方の基板Ｓと配向膜３２との間に、親水性の無機材料からなる吸着層３１が設けられていることを特徴とする液晶パネルおよびその製造方法である。 - 特許庁

This cutting method is a method for cutting a disk-shaped workpiece by the cutting blade, which includes an incision step of cutting by the rotating cutting blade from an upper surface side of the workpiece into an outer periphery of the workpiece to a specified precut depth; and a cutting step of moving relatively the cutting blade in a precut state and the workpiece to cut the workpiece by the cutting blade.例文帳に追加

円板状の被加工物を切削ブレードで切削する切削方法であって、被加工物の上面側から該切削ブレードを回転させつつ被加工物の外周部に所定の深さで切り込ませる切込みステップと、被加工物に所定深さで切り込んだ状態の該切削ブレードと被加工物とを相対移動させて、被加工物を該切削ブレードで切削する切削ステップと、を具備したことを特徴とする。 - 特許庁

This method of manufacturing a semiconductor device has a process of forming a trench on a semiconductor substrate, a process of forming a first insulating film on the inner wall of the trench, a process of forming a second insulating film on the bottom surface of the trench by an anisotropic film forming method, and a process of embedding a third insulating film growing faster on the first insulating film than on the second insulating film.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体基板にトレンチを形成する工程と、トレンチの内壁に第１の絶縁膜を形成する工程と、異方性のある成膜方法によりトレンチの底面に第２の絶縁膜を形成する工程と、第１の絶縁膜上よりも第２の絶縁膜上において成長速度が速い第３の絶縁膜をトレンチ内に埋め込む工程とを有する。 - 特許庁