Beam Formingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3271件
Because the scan unit 5 changes a position of the mirror housing 55b with respect to the main housing 50a to change an optical path of the laser beam L, it can be commonly mounted for the image forming apparatuses of a plurality of different types in which the positional relationship between the scan unit 5 and the photoreceptor drum 2 is different, thereby reducing the cost of parts.例文帳に追加
スキャンユニット5は、ミラーハウジング50bのメインハウジング50aに対する位置を変更してレーザビームLの光路を変更することにより、スキャンユニット5と感光体ドラム2の位置関係が異なる複数種類の画像形成装置に共通して搭載可能であるので、その部品コストを低減させることができる。 - 特許庁
The blank disk to obtain the stamper 51 by forming the resist projection 11 on a crosslinkable layer 2a on a substrate 1a is specified in the thickness of the crosslinkable layer 2a to the wavelength half the standing wave of a laser beam, by which the exposure intensity at the base of the resist projection 11 is suppressed and the large angle of the sectional inclination is obtained.例文帳に追加
基盤1a上の架橋性層2aの上にレジスト突起11を形成してスタンパー51とするブランク盤50において、上記架橋性層2aの厚さをレーザビームの定在波の1/2波長とし、上記レジスト突起11の底辺での露光強度を抑え、大きな断面傾斜角を得る。 - 特許庁
A mask blank substrate has a conductive light-shielding body 12 that is opaque to exposure light for forming a pattern by a process including charge beam lithography, formed on one main surface of a substrate 11 transparent to exposure light, and the entire surface of the substrate 11 including four corners on the main surface is coated with a conductive material.例文帳に追加
露光光に対して透明な基板11上の一主面に荷電ビームリソグラフィーを含むプロセスによりパターンを形成するための露光光に対して不透明な導電性の遮光体12を形成したマスクブランクス基板であって、基板11の一主面上の4隅を含む全面がく導電性材料で覆われている。 - 特許庁
To provide: an inspection method capable of specifying the portion where junction leak defect is occurred, by irradiating a semiconductor device with an electron beam at a predetermined interval a plurality of times, and optimizing conditions of junction forming process by carrying out the inspection using wafer under a semiconductor manufacturing process; a device; and the method of manufacturing the semiconductor.例文帳に追加
半導体装置に電子線を所定の間隔で複数回照射して、接合リーク不良発生箇所を特定でき、半導体製造工程途中のウエハで本検査を実行することにより接合形成プロセス条件の最適化を行うことができる検査方法及び装置、半導体の製造方法を提供する。 - 特許庁
A condensing beam entering from an incident surface 6a is condensed at a first focus FA, is reflected toward a reflection surface 6b by a glare protection reflection film 7B, and is reflected by a reflection film 7A and is condensed at a second focus Fb on a spot formation surface 6c, thus forming a light spot 9a.例文帳に追加
入射面6aから入射した集光ビーム3b’は、第1の焦点Faに集光された後、遮光反射膜7Bによって反射面6bに向けて反射され、反射膜7Aにより反射されてスポット形成面6c上の第2の焦点Fbに集光され、光スポット9aを形成する。 - 特許庁
The method for manufacturing has the part body forming process in which the molded articles are each irradiated with the laser beam to cut it into a required shape and to form a plurality of the part bodies, and the fitting and arranging process in which a plurality of the part bodies are each fitted and arranged so as to turn them into a specified pattern in a receiving tray.例文帳に追加
本発明の製造方法は、前記成型品それぞれに、レーザー光を照射して所望形状に切断し、複数の部分体を形成する部分体形成工程と、受皿内において、前記複数の部分体を所定の模様となるようにそれぞれ嵌合配置する嵌合配置工程とを有している。 - 特許庁
To obtain a radio communication system capable of continuously using the same frequency even when plural mobile stations accommodated in the same base station and using the same frequency approach each other due to their movement and space division access based on an antenna beam forming function of the base station is disabled.例文帳に追加
同一基地局に収容され、かつ同一周波数を使用している複数の移動局が移動に伴いお互い接近して、当該基地局のアンテナビーム形成機能による空間分割アクセスが不可能になった場合でも引き続き同一周波数を使用することができる無線通信システムを得る。 - 特許庁
A protection film 13 and a reflection prevention film 12 are formed on a semiconductor thin film 3, and each thickness is separately set, thus forming a Poly-Si film with superior uniformity and a Poly-Si film with large surface area on the semiconductor thin film under the protection film and under the reflection protection film, respectively, when a laser beam is applied.例文帳に追加
半導体薄膜上に保護膜と反射防止膜を形成しそれぞれの膜厚を個別に設定することで、レーザ光照射時に保護膜下の半導体薄膜に均一性の良いPoly−Si膜を、また反射防止膜下には表面積の大きなPoly−Si膜を形成する。 - 特許庁
In this construction method of the tunnel floor panel for constructing the floor panel in a tunnel 1, a beam member 10 forming an end face 10e according to the shape of an opposed segment 13 is installed across wall surfaces in the tunnel 1 in a chord shape, positioned, and fixed to the segment 13 by a fixing means.例文帳に追加
トンネル1内部に床版を構築するトンネル床版の構築方法において、対峙するセグメント13の形状に合わせて端面10eを成形した梁部材10をトンネル1内壁面間に弦状に架け渡し、梁部材10を位置決めした後にセグメント13に固定手段によって固定する。 - 特許庁
In the manufacturing method of the golf club head, a step of preliminarily manufacturing a face plate 1 and a step of forming the projecting part 11, which has at least one expected configuration on the back of the face plate 1 by laminating on the back of the face plate 1 by melting the powder-like lagging utilizing the beam of high energy, are included.例文帳に追加
ゴルフクラブヘッドの製造方法において、フェース板1を予備製造する段階と、高エネルギーのビームを利用して粉末状の被覆材を熔融し、フェース板1の背面に積層することにより、フェース板1の背面において少なくとも一個の予定の形状を有する突出部11を形成する段階を含む。 - 特許庁
The method for forming the organic silica-based film comprises a step wherein a coating film composed of a silicon compound having a Si-O-Si structure and a Si-CH_2-Si structure is formed on a base, a step for heating the coating film and a step for carrying out curing treatment by irradiating the coating film with an electron beam.例文帳に追加
本発明の有機シリカ系膜の形成方法は、−Si−O−Si−構造および−Si−CH_2−Si−構造を有するケイ素化合物からなる塗膜を基材上に形成する工程と、前記塗膜を加熱する工程と、前記塗膜に紫外線を照射して硬化処理を行なう工程と、を含む。 - 特許庁
In a molecular beam epitaxy apparatus 1, a sub-chamber 13 is provided for communication of an internal space 13a with the internal space 12a of a thin-film growth chamber 12 to which a wafer 11 is accommodated, and a hydrogen transmitting plate 14 for selectively transmitting hydrogen is provided to shield communication between the thin-film forming chamber 12 and the sub-chamber 13.例文帳に追加
分子線エピタキシー装置1において、内部空間13aがウエハ11の収納される薄膜成長室12の内部空間12aに連通するように副室13を設け、薄膜成長室12と副室13との連通を遮断するように、水素を選択的に透過する水素透過板14を設ける。 - 特許庁
An object W to be machined is irradiated with a high powered laser beam which is made by synthesizing plural low powered laser beams by so forming the device that the optical axes of the plural laser beams B1 and B2 pass through near the center O of a single condenser lens L and the contours of the respective laser beams nearly overlap on the surface of the condenser lens L.例文帳に追加
複数のレーザビームB1,B2の光軸が1個の集光レンズLのほぼ中心Oを通りそれぞれのレーザビームの輪郭が集光レンズLの表面上でほぼ重なるように構成することにより、複数の低出力レーザビームを集合させて高出力レーザとして加工対象Wに照射する。 - 特許庁
To provide an aseismatic structure having excellent aseismatic performance and capable of keeping a column axial force function even after yield by forming a column yield type hinge on an aseismatic intermediate column at the time of final proof stress of a skeleton while utilizing the features of a short span rigid frame structure in which the aseismatic intermediate column is erected on a beam.例文帳に追加
耐震中間柱を梁に立設した短スパンラーメン構造体の特徴を活かしつつ、骨組の終局耐力時に、耐震中間柱に柱降伏型ヒンジが形成され、降伏後も柱軸力機能を保持しうる優れた耐震性能を有する耐震建築構造体を提供する。 - 特許庁
A laser beam is irradiated from either of both sides of a semiconductor wafer to a prescribed depth position of the semiconductor wafer by aligning a focal position with the prescribed depth position of the semiconductor wafer so as to generate a multiphoton absorption process only in a specific part, located at the prescribed depth position, of the semiconductor wafer, thereby forming a gettering sink by making the specific part as a modified part.例文帳に追加
半導体ウェーハの両面のいずれか一方の面から、該半導体ウェーハの所定深さ位置に、焦点位置を合わせてレーザビームを照射し、前記所定深さ位置にある半導体ウェーハの特定部分のみに多光子吸収過程を生じさせて改質部分としゲッタリングシンクを形成する。 - 特許庁
The present invention relates to the array antenna 1 in which, phase shifters 3 are provided and bundled for each of sub array antennas 2 obtained by collecting a plurality of element antennas 4 and beam forming is performed, wherein the sub array antennas 2 are arrayed non-periodically on a plane by constituting a plane shape of a right triangle of which the ratio of lengths of three sides becomes 1:2:√5.例文帳に追加
複数の素子アンテナ4をまとめたサブアレーアンテナ2毎に移相器3を設けて束ね、ビーム形成を行うアレーアンテナ1であって、サブアレーアンテナ2は、三辺の長さの比が1:2:√5となる直角三角形で平面形状が構成され、平面上に非周期的に配列されている。 - 特許庁
The stud member 9a is formed as a stud member substantially L-shaped by forming two straight parts 41a, 42a, the straight part 41a is fixed to the top end 8 of a steel beam 5 by welding, and the straight part 42a is inserted together with the exposed end 7a of the reinforcing bar 6a in a cylindrical body 31.例文帳に追加
スタッド部材9aは、2つの真直部41a,42aが形成された概ねL字状をなすスタッド部材として形成してあるとともに、真直部41aを鉄骨梁5の天端8に溶接で固定し、真直部42aを鉄筋6aの露出端部7aとともに筒体31に挿通できるように構成してある。 - 特許庁
A compound semiconductor wafer 1, having at least two or more semiconductor layers 3 on the surface of a substrate 2, is divided by forming grooves 10 on the backside of the substrate 2, using a laser beam 9 of a wavelength that generates absorption in the substrate 2 and dividing the wafer 1 along with the grooves 10.例文帳に追加
基板2の表面側に少なくとも2層以上の半導体層3を有する化合物半導体ウエハ1を分割するにあって、前記基板2に吸収が生じる波長のレーザー光9を用いて前記基板2の裏面側に溝10を形成し、この溝10に沿って前記ウエハ1を分割すること特徴とする。 - 特許庁
In this method of forming the positron beams for observing the reflected fast positron diffraction on the crystal surface, electrostatically accelerated primary positron beams are deflected by a beam deflector, and paraxial positron beams with high parallelism are brought out using a collimator of a long axis to obtain parallel positron beams small in diameter.例文帳に追加
反射高速陽電子回折を観測するための陽電子ビームを形成する方法であって、静電気的に加速した一次陽電子ビームをビーム偏向器で偏向させ、平行性の高い近軸陽電子ビームを長軸のコリメータを用いて切り出すことにより、小径の平行陽電子ビームを得ることを特徴とする方法。 - 特許庁
The silicon oxide thin film is formed in the presence of oxygen at ≤300°C by spraying a material gas obtained by vaporizing hexamethyldisilane onto a substrate placed inside a film-forming chamber while simultaneously applying an ion beam such as argon generated by an ion source onto the substrate at ≤300 eV .例文帳に追加
材料ガスとしてヘキサメチルジシランを気化せしめて得たガスを用い、該ガスを成膜チャンバー内の基板上に吹き付け、一方、イオン源によりアルゴン等のイオンビームを発生させ、該イオンビームを該材料ガスの吹き付けと同時に基板上に300eV以下で照射し、酸素の存在下、300℃以下で、酸化ケイ素薄膜を形成する。 - 特許庁
This active energy beam-curable resin composition is characterized by including (A) a monomer polymerizable by irradiation of active energy and an acidic group in the molecule and (B) a polymer having a basic group capable of forming a salt together with the acidic group and a hydrophilic group in the molecule.例文帳に追加
(A)分子内に活性エネルギーの照射により重合可能な重合性基および酸性基を有するモノマーと、(B)分子内に前記酸性基と塩を形成可能な塩基性基および親水性基を有する重合体とを含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性樹脂組成物である。 - 特許庁
The heat-conductive sheet is obtained by forming a heat-conductive resin composition comprising an ethylene-α-olefin-nonconjugated diene terpolymer and a thermally conductive filler into a sheet shape and irradiating the obtained formed sheet with an electron beam to crosslink the ethylene-α-olefin-nonconjugated diene terpolymer.例文帳に追加
エチレン−α-オレフィン−非共役ジエン三元共重合体と熱伝導性フィラーとを含有してなる熱伝導性樹脂組成物をシート状に成形し、得られたシート成形体に電子線を照射することにより、該エチレン−α-オレフィン−非共役ジエン三元共重合体を架橋することを特徴とする熱伝導性シート。 - 特許庁
This negative ion source 10 is installed on the route of drawn out negative ions and comprises a plurality of negative ion acceleration electrodes 29, 30 respectively having a plurality of slits 36, and an acceleration power source accelerating the negative ions and generating the negative ion beam Y by forming electric field between the negative ion acceleration electrodes 29, 30.例文帳に追加
負イオン源10は、引き出された負イオンの経路中に設けられ、複数のスリット36をそれぞれ有する複数の負イオン加速電極29、30と、この負イオン加速電極29、30間に電界を形成させることにより負イオンを加速させて負イオンビームYを生成する加速電源とを具備する。 - 特許庁
The method of manufacturing the master disk of the optical disk has the steps for: forming a photoresist layer 102 containing a photoresist on a glass substrate 101; irradiating the photoresist layer 102 with a laser beam; and developing the photoresist layer after the irradiation step.例文帳に追加
ガラス基板101上にフォトレジストを含有するフォトレジスト層102を形成する層形成工程と、フォトレジスト層102に対してレーザ光を照射する照射工程と、照射工程を経たフォトレジスト層を現像する現像工程とを有する光ディスクの原盤の製造方法において、プラズマ処理を施す。 - 特許庁
In the method for producing a press formed article where a work W as a planar metallic material is worked into a cylindrical shape with an inverse shape by hot working or warm working, the inverse shape is worked by blow forming using a laser beam L as a heating means.例文帳に追加
板状の金属材料である被加工部材Wを、熱間加工または温間加工によりインバース形状を有する筒状形状に加工するプレス成形品の製造方法であって、前記インバース形状を、レーザビームLを加熱手段とて使用してブロー成形により加工することを特徴とする。 - 特許庁
A method of manufacturing a semiconductor device comprises the steps of: forming an amorphous semiconductor layer 43 having a thickness of 4 nm to 1 μm above an insulating layer 41; and crystallizing the semiconductor layer 43 by irradiating the semiconductor layer 43 with an energy beam having a wavelength within a range from 350 to 500 nm.例文帳に追加
絶縁層41上に厚さ4nm〜1μmの非晶質の半導体層43を形成する工程と、この半導体層43に対して、波長が350nm〜500nmの範囲内のエネルギービームを照射することにより、半導体層43を結晶化させる工程とを含んで、半導体装置を製造する。 - 特許庁
To provide an exposure device for an optical master plate capable of easily and safely adjusting the optical axis of an exposure optical system and detection focus deviation accurately with high precision even when an exposure light and an ultraviolet laser beam are used for forming a microgroove.例文帳に追加
本発明は、微細溝を形成するために露光光として紫外レーザ光を用いる場合であっても、露光光学系の光軸調整を容易かつ安全に行うことが可能であると共に、正確かつ高精度にフォーカスずれを検出することが可能な光ディスク原盤の露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a sample substrate for laser desorption ionizing mass analysis and soft LDI-MS measurement which enables the accurate measurement without forming an obstruction peak at the time of irradiation with a laser beam, and the uniform coating of a sample at the time of production of the sample, and a measuring instrument using it.例文帳に追加
レーザー脱離イオン化質量分析用試料基板において、レーザー光を照射されたときに、妨害ピークを発生させることなく、高感度かつ正確な測定ができ、試料作成にあたっては、試料を均一に塗布することができるソフトLDI-MS測定のための試料基板およびそれを用いる測定装置の提供。 - 特許庁
An optical resonator 10 constituted by forming an incidence-end reflecting film 14A and a projection-end reflecting film 14B on two opposite end surfaces of an electrooptic crystal substrate 12 where an optical waveguide 11 passing beam light L1 causing optical resonance is formed is built in a cavity microwave resonator 20 surrounded with metal.例文帳に追加
光共振を起こさせるビーム光L1を通過させる光導波路11が形成された電気光学結晶基板12の相対向する2つの端面に入射端反射膜14Aと出射端反射膜14Bが形成されてなる光共振器10を金属で囲まれた空洞マイクロ波共振器20に内蔵させる。 - 特許庁
The wavelength selection device is provided with a spectral element separating wavelength multiplexed light, a beam expanding optical system element reducing the diameters of separated optical beams and expanding a dispersion angle and a lens converting the optical beams whose angles are dispersed into parallel beams and forming a spot array spatially separated for every wavelength.例文帳に追加
波長多重された光を分光する分光素子と、分光レされた光ビームの径を縮小し且つ分散角を拡大するビームエキスパンダする光学系素子と、該角度分散された光ビームを平行光に変換し、波長毎に空間分離したスポットアレイを形成するレンズとを備えたことを特徴とする波長選択デバイス。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition for forming spacers which is of high resolution and of high sensitivity even when radiation for exposure practically contains no beam with wavelength <350 nm, and which easily forms the spacers excellent in various performances such as a pattern shape, compression strength, rubbing resistance, and adhesion to a transparent substrate.例文帳に追加
350nm未満の波長を実質的に含まない放射線による露光でも、高解像度、高感度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性等の諸性能に優れたスペーサーを容易に形成することができるスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a felt material suitable mainly for a photographic image forming process in an electronic copier, a laser beam printer and a facsimile or various working apparatuses, and to prevent the leakage of toner and scrape residual toner more effectively by bringing the felt material in tight contact with the circumferential surfaces of a photoreceptor drum, a developing roller and a fixing roller, etc.例文帳に追加
フェルト材として主に電子複写機、レーザビームプリンタ、ファクシミリのような写真画像形成プロセスまたは各種の作業機器に適用し、感光ドラム、現像ローラや定着ローラなどの周面に密接することにより、トナーの漏出防止および残トナーの掻き取りなどをいっそう効果的に達成する。 - 特許庁
On an outside wall of a vessel body part 10 of the sodium heating steam generator, five or more accelerometers 24 are aligned in a single line to form an acoustic data receiving array 20, acoustic signals detected by the respective accelerometers are taken in a computer 32 through a multichannel analog/digital converter 30, and delay summing beam forming processing is carried out in the computer.例文帳に追加
ナトリウム加熱蒸気発生器の容器胴部10の外壁に、5個以上の加速度計24を一列に配置して音響データ受信アレイ20を形成し、各加速度計で検出した音響信号を多チャンネルアナログ/デジタル変換器30を通してコンピュータ32に取り込み、該コンピュータで遅延和法ビームフォーミング処理を施す。 - 特許庁
To provide an optical scanning line calibrator and a position adjusting method that can adjust the forming position of optical scanning lines with high accuracy by eliminating a blur of an image to be a reference line, in the case where optical scanning lines formed by scanning a laser beam from an optical part are observed with a camera for the purpose of adjusting their position.例文帳に追加
本発明の課題は、光学部からのレーザ光を走査することにより形成される光走査線をカメラで観測して、その位置を調整する場合、基準線となる画像のぼけを無くし、高精度で光走査線の形成位置を調整できる光走査線校正器及び位置調整方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a manufacturing method and manufacturing device of an optical recording medium capable of forming a light transmission layer as thin as 0.1 mm and the intermediate layer of a thinner film, etc., on the base material of a high density and large capacity optical recording medium using a blue laser as a laser beam in an excellent yield and efficiently by a short production tact.例文帳に追加
レーザー光として青色レーザーを用いる高密度、大容量光記録媒体の基材に0,1mmという薄い光透過層や、さらに薄膜の中間層等を歩留まりよく、かつ効率よく短い生産タクト形成することができる光記録媒体の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image display which is higher in reliability reducing discharge caused by existence of foreign material particles in a display panel, in the image display which displays an image by irradiating an electron beam emitted from an electron emission element to an image forming member in the display panel of which the inside is kept vacuum.例文帳に追加
内部を真空に保持した表示パネル内において、電子放出素子より放出された電子ビームを画像形成部材に照射して画像を表示する画像表示装置において、表示パネル内の異物粒子の存在による放電を低減し、信頼性の高い画像表示装置を提供する。 - 特許庁
This printed matter 10 has an irregular uneven surface created by forming a primary printing layer 13 on the surface of a paper base 11, using an ink with liquid repellency, and further, an overcoat layer 14 on the primary printing layer 13, using an electron beam-curable type or ultraviolet-curable type coating agent.例文帳に追加
紙基材11の表面に撥液性のインキによる下刷り層13を設け、下刷り層13上に電子線硬化型又は紫外線硬化型のコーティング剤によるオーバーコート層14を設けたことにより、表面に不規則な凹凸を有する印刷物10及びこのような製造方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁
In an optical shaping method for forming a structure by irradiating a photo-setting resin 15 with light to cure the same, the rotary driving on the side of a shaped article base stand and the unidirectional scanning of a laser beam are combined.例文帳に追加
本発明の方法は、光硬化性樹脂15に光を照射することにより光硬化性樹脂15を硬化させて構造物を形成させる光造形法において、曲線形状をもつ造形物を滑らかに作製するために、造形物基台側の回転駆動と光ビームの一方向走査とを組み合わせるようにした。 - 特許庁
To provide an image forming device in which ineffective currents flowing through pertinent electron emitting elements are reduced by holding electron emitting elements which are not selected in high resistance states at the time of driving a display panel while successively selecting multiple electron beam sources which are constituted of a plurality of electron emitting elements and to provide a driving method therefor.例文帳に追加
複数の電子放出素子により構成されるマルチ電子ビーム源を順次選択しながら駆動するに際して、選択していない電子放出素子を高抵抗化状態に保持することにより、当該電子放出素子に流れる無効電流を低減する画像形成装置及びその駆動方法の提供。 - 特許庁
Or, the silicon material is produced by forming amorphous silicon by ion beam sputtering at ≤450°C on a compd. clathrate crystal expressed by BaxRySi46-y (wherein x is 1 to 8, y is 1 to 6, and R is Ag or Au) and heating the amorphous silicon in vacuum or inert atmosphere at a temp. over 450°C and ≤1300°C to epitaxially grow.例文帳に追加
(3)Ba_xR_ySi_46-y(ここで、x=1〜8、y=1〜6、RはAgまたはAu)の化合物クラスレート結晶の上に、450℃以下の温度にてイオンビームスパッタリング法でアモルファスシリコンを成膜した後、真空または不活性雰囲気中にて、450℃超1300℃以下の温度に加熱してエピタキシャル成長させる上記(2)のシリコン材料の製造方法。 - 特許庁
The surface processing method of a glass material includes, upon forming a silica glass formed article 2 by grinding, a surface processing step of fusing the surface of the silica glass formed article 2 by irradiating the article with a laser beam 21 having a linear width and a predetermined acute inclination angle θ with respect to the surface of the glass formed article 2.例文帳に追加
ガラス材の表面加工方法は、研削加工によりシリカガラス成形体2を成形する際に、ガラス成形体2の表面に対して予め定められた鋭角な傾斜角度θ及びライン状の幅を有するレーザ21の照射によりシリカガラス成形体2の表面を溶融する表面加工工程を含んでいる。 - 特許庁
The optical disk image forming device 10 reads out laser power intensity information corresponding to the information on types of pigments and information on maximum linear speed (the number of double speed) at the time of image formation from a table and forms an image in the drawing area 214 of the optical disk 200 by irradiating a laser beam having the read laser power intensity.例文帳に追加
そして、光ディスク画像形成装置10は、この色素の種類の情報と、画像形成時の最大線速度(倍速数)の情報と、に対応するレーザパワー強度情報をテーブルから読み出して、このレーザパワー強度のレーザ光を照射して光ディスク200の描画エリア214に画像を形成する。 - 特許庁
To provide a resist material having high sensitivity and high resolution to high energy-beam exposure, small line-edge roughness because of controlled swelling at the time of development, small residual dross after development, excellent dry etching resistance, and suitably usable also for liquid immersion lithography, and provide a method for forming patterns by using the resist material.例文帳に追加
レジスト材料であって、高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少なく、優れたドライエッチング耐性を有し、また、液浸リソグラフィーにも好適に用い得るレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
In this laser device 11, a translucent wave front forming device 13 whose at least incident face or outgoing face is formed as a non-flat face for flattening a wave front Ws of a laser beam accompanied by a distortion is interposed in the optical path of laser beams La and Lb.例文帳に追加
この発明のレーザ装置11は、レーザ光La,Lbの光路中に、波面Wsに歪みを伴なうレーザ光の波面Wsを平坦化するための入射面または出射面の少なくとも一方の面が非平坦面になっている透光性の波面成形装置13が介在されているレーザ装置である。 - 特許庁
The capacitor microphone includes a plate having a fixed electrode, a support part which is formed outside the plate and supports the plate, and a diaphragm having a movable electrode, supported by the support part in the shape of a fixed-fixed beam while forming a gap to the plate and deformed into a tub shape by sound waves to vibrate.例文帳に追加
固定電極を有しているプレートと、前記プレートの外側に形成され前記プレートを支持している支持部と、可動電極を有し、前記プレートとの間に空隙を形成しながら前記支持部に両持ち梁状に支持され、音波によって樋状に変形して振動するダイヤフラムと、を備える。 - 特許庁
The conductive roll can be manufactured by a step in which the outermost layer containing the organic polymer having at least the light absorption coloring matter is formed around the periphery of the roll and the subsequent step in which a laser beam including a wavelength absorbed by the light absorption coloring matter is emitted to the surface of the outermost layer, thereby forming a large number of pores.例文帳に追加
上記導電性ロールは、ロール最外周に、少なくとも光吸収色素を含有する有機ポリマーを含む最外層を形成し、その後、最外層の表面に、光吸収色素に吸収される波長を含んだレーザー光を照射し、孔部を多数形成することにより製造することができる。 - 特許庁
The digital beam forming antenna apparatus comprises a plurality of antennas 1, an RF switch 13, one-system RF amplifier 2, one-system downconverter section 6, an A/D converter 8, a memory 14, an interpolation section 16, a clock generator 15, and a digital signal processing section 12.例文帳に追加
ディジタルビームフォーミングアンテナ装置であって、その構成要素が、複数のアンテナ1と、1個のRFスイッチ13と、1系統のRFアンプ2と、1系統のダウンコンバータ部6と、1個のA/D変換器8と、メモリ14と、補間部16と、クロック発生器15と、ディジタル信号処理部12とを備えて構成されている。 - 特許庁
To provide an optical recording medium, permitting the increase of a density by providing a recording layer with the compatibility of recording, reproducing and erasing through the short wave laser beam of 600 nm or less, further, permitting the increase of density and sensitivity by forming the recording layer through the spin coating or web coating of a nano-grain colloid.例文帳に追加
本発明は、記録層に600nm以下の短波レーザー光での記録、再生、消去適正を付与することで高密度化を可能とし、さらにこの記録層をナノ粒子コロイドをスピンコートまたはウエッブ塗布して形成することにより高密度化と高感度化を可能とする光記録媒体を提供する。 - 特許庁
The image forming apparatus is characterized in that a means for adjusting the phase of a plurality of rotating polygon mirrors 103 is turned off when calculating the quantity of a horizontal synchronizing signal delay for the respective faces from the horizontal synchronizing signal by a laser beam detection means 106 by taking face division error of the rotating polygon mirror 103 into consideration.例文帳に追加
レーザビーム検出手段106による水平同期信号から回転多面鏡103の面分割誤差を見込んだ各面に対する水平同期信号遅延量を算出する際に、前記複数の回転多面鏡103の位相を合わせる手段をOFFすることを特徴とする画像形成装置。 - 特許庁
In such a case, an image forming function and the deflection function of a computer generated hologram(CGH) element for guiding a beam from the light emitting device 14 into the optical substrate 11 are alotted to a first CGH element 16 provided on the chip substrate side and a second CGH element 17 provided on the optical substrate 11 answering to the first CGH element 16.例文帳に追加
発光器14からの光を光学基板11内に案内するためのCHG素子の結像機能および偏向機能を、チップ基板側に設けられる第1のCGH素子16と、該第1のCGH素子に対応して光学基板11に設けられる第2のCGH素子17とに、分担させる。 - 特許庁
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