「Beam Forming」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an optical scanner, which is an oblique incident type optical scanner and is a multibeam optical scanner adaptable to be made high in operating speed and high in mounting density, capable of reducing the deviation of a subscanning beam pitch, reducing cost, having an excellent optical performance suitable for a low power consumption and being miniaturized, and to provide an image forming apparatus using the optical scanner.例文帳に追加

斜め入射方式の光走査装置であって、高速高密度化に対応可能なマルチビーム光走査装置において、副走査ビームピッチ偏差の低減、および低コスト化、低消費電力に適した良好な光学性能を有し小型化を実現した光走査装置およびこれを用いた画像形成装置を実現し提供する。 - 特許庁

Hollow portions 26, 44, 57, 67 having a wave dissipating function and also gathering and making fishes inhabitable therein are provided, and also beam structural bodies 22, 47, 52, 68 made by wood for covering the hollow portions on the top of the block are fixed for growing algae thereby inviting microorganisms and fishes and forming fish nests in the hollow portion.例文帳に追加

消波機能を有するブロックに魚が生息するための中空部２６，４４，５７，６７を設けかつ該ブロックの上部に当該中空部を覆うように木材によって構成した梁構造体２２，４７，５２，６８を固定することにより藻類を発生させ、微生物並びに魚類を招集し、該中空部に魚巣を形成することができるようにした。 - 特許庁

A projection for forming the contact terminal 42 is formed by the anisotropic etching of a silicon wafer with a silicon dioxide film as a mask, and the silicon dioxide film around the projection is subjected to the anisotropic etching in a U-shape to form a cantilever beam having the projection, and the contact terminal 42 and a lead wire 40 are formed using a conductive covering.例文帳に追加

接触端子４２を形成するための突起を、二酸化シリコン膜をマスクとして、シリコンウェハの異方性エッチングにより形成して、この突起の周辺の二酸化シリコン膜をコ字形に異方性エッチングすることにより、突起を有した片持ち梁を形成し、導電性被覆を用いて、接触端子４２、および引き出し用配線４０を形成する。 - 特許庁

In the printing plate material having an image forming function layer on a plastic support, in which the image recording device having the exposure drum of 250 mm or more in diameter is used to form an image by being irradiated with a laser beam on the exposure drum, the printing plate material has a winding habit curl of 0 mm to 90 mm.例文帳に追加

直径が２５０ｍｍ以上の露光ドラムを有する画像記録装置を用いて、該露光ドラム上でレーザービームを照射し画像形成する、プラスチック支持体上に画像形成機能層を有する印刷版材料において、該印刷版材料の巻癖カールが０ｍｍ以上９０ｍｍ以下であることを特徴とする印刷版材料。 - 特許庁

This pattern formation method is provided with process for forming a super-high resolution film, for narrowing the beam diameter of irradiated light on the resist film formed on a substrate, the process for irradiating the resist film with the light via the super-high resolution film and performing pattern alignment and the process for developing the resist film, to which the pattern alignment is performed.例文帳に追加

基板上に形成されたレジスト膜上に、照射される光のビーム径を絞る超解像膜を形成する工程と、前記超解像膜を介して前記レジスト膜に対して光を照射し、パターン露光を行なう工程と、前記パターン露光が行なわれた前記レジスト膜を現像する工程とを備えるパターン形成方法である。 - 特許庁

The image forming apparatus has a photoreceptor unit furnished with the photoreceptor drum 43 which is rotationally driven in a predetermined direction and on which an electrostatic latent image is formed, and the laser scanner unit which scans the photoreceptor drum with the laser beam in the direction orthogonal to the rotating direction of the photoreceptor drum corresponding to image data and forms the electrostatic latent image on the rotating photoreceptor drum.例文帳に追加

画像形成装置は、所定の方向に回転駆動されて静電潜像が形成される感光体ドラム４３を備える感光体ユニットと、画像データに応じてレーザ光を、感光体ドラムの回転方向に直交する方向に走査して感光体ドラム上に静電潜像を形成するレーザスキャナユニットとを有している。 - 特許庁

Among N multi-beams by a main antenna 1 used in a no-jamming environment, a high side lobe angular area of the main antenna 1 is a jamming environment is covered by using M beam signals forming an antenna pattern of the main antenna 1, while a low side lobe wide angular area is covered by using subsidiary beams by L low-gain subsidiary antennas 2.例文帳に追加

妨害が無い環境で使用している主アンテナ１によるＮ本のマルチビームのうち、妨害環境下では、主アンテナ１のアンテナパターンを成形したＭ本のビーム信号を用いて、主アンテナ１のサイドローブの高い角度領域を覆い、サイドローブの低い広い角度領域は、利得の低いＬ個の補助アンテナ２による補助ビームで覆うようにする。 - 特許庁

In this range-finding device and this automatic focusing camera equipped therewith, a light projecting lens forming a light projecting means for radiating beam light to the subject is provided with a reflection preventing film consisting of a transparent thin film having a smaller refractive index than that of material constituting the light projecting lens at least on its one surface.例文帳に追加

本発明による測距装置およびこの測距装置を備えた自動焦点カメラは、被写体にビーム状の光を照射する投光手段を形成する投光レンズの少なくとも一面に、投光レンズを構成する材料の屈折率よりも小さい屈折率の透明薄膜からなる反射防止膜を設けて構成される。 - 特許庁

The microarray chip is parallel to the surface of a substrate, and is manufactured by generating ionized plasma 22 by irradiating a space having a specific distance from the surface of the substrate 10 with a laser beam 21, forming an arranged electric field generating part 11 having a positive or negative polarity using the ionized plasma, and arranging fine spots of a sample solution.例文帳に追加

本発明のマイクロアレイチップは、基板面に対して平行で、かつ、基板１０の表面から一定距離の空間にレーザ光２１を照射して電離プラズマ２２を発生させ、この電離プラズマを用いて正負いずれかの極性を有する配列状の電界発生部１１を形成し、試料溶液の微小スポットを配列させることにより製造する。 - 特許庁

To secure required brightness while forming a light distribution pattern for low beam having a clear cutoff line at its top end part, on the basis of the installation number of luminaire units suppressed, for a headlight for a vehicle structured so as to form a given light distribution pattern by light irradiation from the luminaire units with semiconductor light-emitting elements as light sources.例文帳に追加

半導体発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具ユニットの設置個数を少なく抑えた上で、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するとともに所要の明るさを確保する。 - 特許庁

The ultrasonic diagnostic apparatus is provided with: a transmission beam former 42 for having the ultrasonic waves whose focus positions in the depth direction inside an object are different be transmitted from an ultrasonic probe by at least two kinds of transmission sound pressures by control by a control part 8; and a composition part 48 for forming one sheet of image data from respective echo signals to the ultrasonic waves of different focus positions.例文帳に追加

制御部８による制御により、被検体内部の深さ方向のフォーカス位置が異なる超音波を２種類以上の送波音圧で超音波プローブから送波させる送波ビームフォーマー４２と、フォーカス位置が異なる超音波に対する各エコー信号から一枚の画像データを合成する合成部４８と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The fluorescent microscope has the objective lens 21 and is provided with imaging means 21 and 23 for forming the fluorescent image of a specimen 20 marked by a fluorescent substance, vertical illumination means 13 to 18 for illuminating the specimen 20 and beam attenuating means 14 for attenuating the light intensity near an optical axis 20a of the objective lens 21 out of the incident light for illumination on the objective lens 21.例文帳に追加

対物レンズ２１を有し、蛍光物質で標識された標本２０の蛍光像を形成する結像手段２１，２３と、標本２０を照明する落射照明手段１３〜１８と、対物レンズ２１に入射する照明光のうち、対物レンズ２１の光軸２０ａ付近の光強度を低減させる減光手段１４とを備える。 - 特許庁

A transparent substrate 5 with metallic films formed thereon 4 and the wafer 3 for forming the ICs 2 each provided with the electrode pad 1 are placed at a gap 6 so that the metallic films 4 and the electrode pads 1 are opposed to each other, and emitting a laser beam 7 onto the metallic films 4 melts the metallic films 4 and transfers them to the electrode pads of the ICs to form the bump.例文帳に追加

金属膜４が形成された透明基材５と、電極パット１が設けられたＩＣ２を形成するウェハ３とを、金属膜４と電極パット１が対峙するように間隔６を保って配置し、金属膜４にレーザ光７を照射することにより金属膜４を溶解させ、ＩＣの電極パット上に転写してバンプを形成する。 - 特許庁

The step of forming the colored pixel patterns of prescribed colors on the plastic base material by a pigment dispersion method, then irradiating only the colored pixel patterns of the prescribed colors with a proper quantity of the electron beams through an electron beam irradiation mask is repeated at the prescribed number of colors, by which the color filter having the colored pixel patterns of the prescribed number of colors is obtained on the plastic base material.例文帳に追加

顔料分散法でプラスチック基材上に所定色の着色画素パターンを形成した後、電子線照射マスクを介して所定色の着色画素パターンにのみ適正量の電子線照射行う工程を所定の色数繰り返すことにより、プラスチック基材上に所定色数の着色画素パターンを有するカラーフィルターを得る。 - 特許庁

A laser irradiation microworking method comprises the steps of placing a metal material in the chemical solution, forming a passivity film on this metal front surface in the chemical solution, removing the passivity film by means of a laser ablation by selectively irradiating a laser beam, and removing a material by performing an etching action by the chemical solution with respect to only a part where the passivity film is removed.例文帳に追加

本発明は、金属材料を化学溶液中に置き、この金属表面に化学溶液中で不動態膜を形成し、そこにレーザー光を選択的に照射することにより、不動態膜をレーザーアブレーションにより除去し、不動態膜が除去された部分のみ化学溶液によるエッチング作用で材料除去を行う。 - 特許庁

In the case of forming a p electrode 11 consisting of a group of metal films containing a Ti film 12, a prescribed amount of oxygen is introduced to a vacuum tank, depositing is carried out by an electronic beam vacuum evaporation method, and oxygen concentration contained in the Ti film 12 contacting with a group of semiconductor layers 9 is set to be 10 to 40 at% after thermal treatment.例文帳に追加

Ｔｉ膜１２を含む金属膜群で構成されるｐ電極１１を形成する際、真空槽に所定の酸素量を導入して電子ビーム蒸着法により成膜し、半導体層群９に接するＴｉ膜１２に含有された酸素濃度を、熱処理後で１０ａｔ％〜４０ａｔ％となるように設定する。 - 特許庁

This laser marking method comprises a first step of forming a membrane 2 or adhesion on the surface of a marked material 1 composed of a transparent body or a laser light transmitting body, and a second step of radiating a laser beam LB to the membrane or the adhesion and to form projection and depression on the surface of the marked material in a process for removing the membrane or the adhesion from the marked material.例文帳に追加

本発明のレーザマーキング方法は、透明体又はレーザ光線透過体からなる被マーキング材(1) の表面に膜(2) 又は付着物を形成する第一工程と、膜又は付着物にレーザ光線LBを照射し、膜又は付着物が被マーキング材から除去される過程で被マーキング材の表面に凹凸を形成する第二工程とからなる。 - 特許庁

In the film forming device in which plasma for vapor deposition 10 is generated by giving an electric impulse on a cathode target 2, target ions in the plasma for vapor deposition 10 are led onto a specimen substrate 4 on which bias voltage is applied and a thin film is formed, the plasma for vapor deposition 10 is generated by irradiating the cathode target 2 with an ion beam 9 generated in an ion source 3.例文帳に追加

陰極ターゲット２に電気的衝撃を与えて蒸着用プラズマ１０を生成し、蒸着用プラズマ１０中のターゲットイオンをバイアス電圧が印加された試料基板４に導いて薄膜を成膜する成膜装置において、イオン源３で生成されたイオンビーム９を陰極ターゲット２に照射して蒸着用プラズマ１０を生成する。 - 特許庁

When a registration request is given from an unregistered terminal, the weighting controller obtains a weighting vector for forming the beam whose maximal directivity faces within the range of an area, except for the area where the terminal positions among a plurality of areas obtained, by dividing a cover area in which the null of directivity faces the direction of the terminal and which is covered by the antenna element by a direction.例文帳に追加

ウェイト制御装置は、未登録の端末から登録要求があった場合に、該端末の方向に指向性のヌルが向き且つアンテナ素子でカバーするカバーエリアを方向によって複数に分割したエリアのうちの該端末の位置するエリア以外のエリアの範囲内に最大指向性が向くビームを形成させるためのウェイト・ベクトルを求める。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that satisfies, at a high level, all of high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness in an ultrafine region, particularly in electron beam, X-ray or EUV photolithography, and satisfactorily reduces a problem of outgassing during exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガスの問題が充分に低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The ion injection device further has: an ion source 7 ionizing an impure gas; a mass analyzer 8 extracting the impure ions to be injected into the wafer 2 among ionized impure ions; an acceleration tube 9 accelerating the extracted impure ions; and a lens 10 forming the accelerated impure ions in a desired beam shape.例文帳に追加

前記イオン注入装置は、不純物ガスをイオン化するイオン源７と、イオン化された不純物のうちウェーハ２に打ち込む不純物イオンを抽出する質量分析器８と、抽出された不純物イオンを加速させる加速管９と、加速された不純物イオンを所望のビーム形状に成形するレンズ１０とを更に具備する。 - 特許庁

In the method for recording information on an optical recording medium by forming a plurality of recording marks selected from the group of a plurality of kinds of recording marks different from one another in length in the optical recording medium, the information recording is carried out by setting a ground power of a laser beam during a cooling period higher than that during the other period.例文帳に追加

互いに長さの異なる複数種類の記録マークからなる群より選ばれた複数の記録マークを光記録媒体に形成することによって情報を記録する光記録媒体への情報記録方法であって、冷却期間におけるレーザビームの基底パワーを他の期間における基底パワーよりも高く設定して前記情報の記録を行う。 - 特許庁

A method for manufacturing the coil for a charged particle beam apparatus is characterized by forming a metal layer on a substrate for an electrode, then applying resist of 0.1 mm or thicker, removing the resist of the region on which the coil should be formed, by lithography, and growing metal on the region in which the resist has been removed, by electrocasting.例文帳に追加

荷電粒子線装置用のコイルの製造方法であり、基板上に電極用の金属層を形成し、その後、厚さが0.1mm以上のレジストを塗布し、コイルを形成すべき領域のレジストをリソグラフィーにより除去し、レジストが除去された領域に電鋳によって金属を成長させることを特徴とするコイルの製造方法である。 - 特許庁

By forming a cavity part CA which has a stripping suppressing layer CE between an anode AD and an organic light emitting layer OLE formed on the main substrate SUB1, and which is made by evaporation by absorption of a laser beam LE, a defective part is separated electrically, and a dark-point defective pixel is restored into a light emitting pixel.例文帳に追加

メイン基板ＳＵＢ１上に形成された陽極ＡＤと有機発光層ＯＬＥとの間に剥離抑制層ＥＣを有し、メイン基板ＳＵＢ１と剥離抑制層ＥＣとの間にレーザ光ＬＥの吸収によって蒸発させた空洞部ＣＡを形成することにより、欠陥個所を電気的に切り離し、黒点欠陥画素を発光画素に修復する。 - 特許庁

This method includes: forming a modified emission layer by irradiating with a laser beam 2 of a wavelength of ≥190 and <266 nm solid organic polysiloxane 1; and making a thin film of the modified emission layer on the desired substrate 7 by laser ablation to form the light emitting device, which emits the desired color, in the optional position or shape on the desired substrate 7.例文帳に追加

固体有機ポリシロキサン１に、波長１９０ｎｍ以上２６６ｎｍ未満のレーザー光２を照射することにより発光改質層を形成し、レーザーアブレーションにより発光改質層を所望の基体７上に薄膜化することにより、所望の基体７上の任意の位置及び形状に、所望の色彩を放つ発光素子を形成する。 - 特許庁

In the irradiation conditions in which a droplet 11 containing an infrared absorbent is applied to the surface of a resin 10 using an ink jet head 200 in a manner forming a prescribed pattern and in which the infrared absorbent so applied is fixed to the surface of the resin 10; a laser beam with an infrared wavelength is emitted from a laser head 300 to the surface of the resin 10.例文帳に追加

赤外線吸収剤を含む液滴１１を、インクジェットヘッド２００を用いて樹脂１０の表面に所定のパターンを形成するように塗布し、塗布した赤外線吸収剤が樹脂１０の表面に定着するような照射条件で、レーザヘッド３００から樹脂１０の表面に赤外領域の波長のレーザ光線を照射する。 - 特許庁

In the anamorphic optical system 100 where a third lens 103, a fourth lens 104 and a sixth lens 106 are anamorphic lenses, the plane shape of a first lens 101 that is a meniscus lens disposed nearest to an incident side is formed to be non-circular, for example, nearly oval by notching an area through which a light beam forming an image on an imaging device 130 does not pass.例文帳に追加

第３レンズ１０３、第４レンズ１０４及び第６レンズ１０６がアナモルフィックレンズであるアナモルフィック光学系１００にて、最も入射側に配設されたメニスカスレンズである第１レンズ１０１の平面形状を、撮像素子１３０へ結像する光線が通過しない領域を切り欠いて非円形、例えば略小判形などに形成する。 - 特許庁

The lighting system 1 is provided with a regulation means 5 for changing the light intensity distribution on the image forming face S, on the basis of detection information of the detection means 4, for instance, improves unevenness in the illumination light for intensity lowering of a certain laser beam and falling-off due to a nonlighting lamp, and suppresses of insufficient gradation for image display.例文帳に追加

検出手段４の検出情報に基づいて結像面Ｓ上での光強度分布を変化させるための調整手段５を設け、例えば、あるレーザビームの強度低下や不点灯による欠落に対し、照明光の不均一性を改善し、また、画像表示のための階調数不足を抑制できるように構成した。 - 特許庁

The ink jet head is manufactured through a process for forming a taper in the nozzle hole using the light path of laser beam to be converged optically and dually through a mask having a hole shape pattern at the ink channel side and a mask having a hole shape pattern at the ink ejection side, which are arranged in order from a light source for drilling a nozzle hole into the nozzle plate by means of a laser.例文帳に追加

レーザーを用いてノズルプレートにノズル穴を穿孔するにあたり、光源側から順に配置された、インクチャネル側の穴形状パターンを有するマスク及びインク吐出側の穴形状パターンを有するマスクを経て、光学的に２元に収光されるレーザー光の光路によりノズル穴にテーパーを形成する工程を経て製造されたインクジェットヘッド。 - 特許庁

The method of forming the thin film transistor using the crystalline semiconductor film purposely terminates the surface of a non single crystal semiconductor film by hydrogen, and forms the crystalline semiconductor film by irradiating a laser beam to the non single crystal semiconductor film under atmosphere containing at least oxygen.例文帳に追加

本発明に係る結晶性半導体膜を用いた薄膜トランジスタの作製方法は、意図的に非単結晶半導体膜の表面を水素にて終端させ、少なくとも酸素を含有する雰囲気において、前記非単結晶半導体膜に対してレーザービームを照射することにより、前記結晶性半導体膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for forming a pattern with high sensitivity and wide exposure latitude in an ultrafine region, while suppressing changes in the resist performance due to an acid generated during resist storage, with respect to an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, particularly, a resist composition for electron beam, X-ray or EUV lithography.例文帳に追加

感活性光線または感放射線性樹脂組成物、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィー用のレジスト組成物において、レジスト保存中に発生する酸によるレジスト性能の変化を抑制しつつ、超微細領域で高感度かつ露光ラチチュードの広いパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the RAKE receivers H1 - Hm of the final stage, from the signals of a control channel received without the interference elimination, the path search of a reception channel, channel estimation and the weight estimation of arriving direction beam forming when using an array antenna are performed in the existing processing function parts and the respective estimated values are reported to each interference replica generation unit 1-1.例文帳に追加

最終段のＲＡＫＥ受信機Ｈ１〜Ｈｍでは、干渉除去されずに受信される制御チャネルの信号から、受信チャネルのパスサーチ、チャネル推定、アレーアンテナを用いる際には到来方向ビームフォーミングのウェイト推定を、既存の処理機能部で行い、それらの各推定値を各干渉レプリカ生成ユニット１−１に通知する。 - 特許庁

A silane compound or the like is introduced into the reaction chamber 10 of a plasma CVD device to form an antireflection SiON film on a wafer 5, and the antireflection SiON film formed on the wafer 5 is thermally treated at a required temperature in an inert gas atmosphere of nitrogen gas or the like so as to be kept stable in KrF laser beam absorption characteristics after a film forming process is finished.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置の反応室１０内にシラン系化合物等を導入してウェハー５上に反射防止ＳｉＯＮ膜を成膜後、該成膜工程終了後に窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で反射防止ＳｉＯＮ膜を所望の温度で熱処理し、反射防止ＳｉＯＮ膜のＫｒＦレーザ光吸収特性を安定化させる。 - 特許庁

To provide the structure of a connection part for connecting a pillar and a beam to be used for a large span structure enabled by steel frames and a short span structure hard to be structured by the reinforced concrete by forming a multistoried building exceeding 45 meters of height with compound structures using the reinforced concrete for pillars and steel frames for beams.例文帳に追加

本発明は、高さが４５ｍを越える中高層建物を、柱に鉄筋コンクリート、梁に鉄骨を使用した複合構造物により構築し、鉄骨が可能とする大スパン構造への適用、或いは鉄筋コンクリートでは困難な短スパン構造への適用が可能な柱と梁の接合部の構造を提供することを課題とするものである。 - 特許庁

A nonlinear optical element 24 for producing an optical Kerr effect is sandwiched and arranged between a pair of polarizing plates 23 and 25 of which deflection directions intersect orthogonally in an imaging optical system for condensing the fluorescence generated from the sample 17 and forming the fluorescence image of the sample, the other laser beam divided by the half mirror 11 is radiated as a gate light to a nonlinear optical element 24.例文帳に追加

試料１７から発生された蛍光を集光して試料の蛍光像を形成する結像光学系中に光カー効果を生ずる非線形光学素子２４を偏向方向が直交する一対の偏光板２３，２５で挟んで配置し、ハーフミラー１１で分割された他方のレーザ光をゲート光として非線形光学素子２４に照射する。 - 特許庁

Disclosed is a method for producing a high melting point metal ingot where, while feeding a molten metal into a mold composing an electron beam melting furnace and forming a mold pool, a cooled and solidified ingot in the vicinity of the bottom part of the mold pool is drawn out while being rotated, wherein the drawing distance per rotation of the ingot is smaller than the depth of the mold pool.例文帳に追加

電子ビーム溶解炉を構成する鋳型内に溶湯を供給して鋳型プールを形成しつつ、鋳型プールの底部近傍の冷却固化したインゴットを回転させながら引き抜く高融点金属インゴットの製造方法であって、インゴットの１回転当たりの引き抜き距離が、鋳型プールの深さよりも小さいことを特徴とする。 - 特許庁

The metal film 8e has excellent visibility and when the diffractive element 8 is formed rectangular, a large identification mark 9a is formed without sacrificing the effective surface area of the diffractive element 8 by forming the identification mark 9a using a nearly triangular region outside of a far field pattern LL of an optical beam.例文帳に追加

金属膜８ｅは、視認性優れており、しかも四角に形成された回折素子８の場合、光ビームのファーフィールドパターンＬＬの外側の略三角形の領域を利用して識別マーク９ａを形成することにより、回折素子８の有効面積を犠牲にすることなく、より大きな識別マーク９ａを形成することができる。 - 特許庁

The resist pattern 41 is formed on the glass substrate by forming a resist pattern 41 on a transferring roll surface by removing a residual substance on a transferring roll 10, providing a photoresist coated film 40 using a slit nozzle 12, drying it, pattern drawing with a laser beam, developing it and washing it with water and by transferring it to the glass substrate 30 and baking it by heating and pressurizing.例文帳に追加

転写ロール１０の残留物を除去し、スリットノズル１２を用いてフォトレジストの塗布膜４０を設け、乾燥し、レーザー光によってパターン描画し、現像、水洗を行って、転写ロール表面にレジストパターン４１を形成し、加熱加圧によってガラス基板３０に転写、ベークしてガラス基板上にレジストパターン４１を形成する。 - 特許庁

This measuring device is equipped with an irradiation part for forming an interference fringe on a photoreceptive roll 110 by dividing a laser beam emitted by a laser diode 121 into two by an obtuse prism 123 and making the divided laser beams interfere with each other, and a light receiving part for receiving light being the light constituting the interference fringe and being reflected from the roll 110 by a photosensor 124.例文帳に追加

レーザダイオード１２１によって発せられたレーザ光を鈍角プリズム１２３によって２分割して互いに干渉させることにより、感光ロール１１０上に干渉縞を形成する照射部と、その干渉縞を構成している光が感光ロール１１０上で反射された反射光を光センサ１２４で受光する受光部が備えられている。 - 特許庁

In the imaging apparatus for forming an image on a recording medium by scanning it with a light beam at a sub-scanning pitch smaller than the diameter of the light beam, a pattern detecting/processing circuit (16) detects the values of an image data sequence at a dot position being recorded and at the same main scanning positions above and below the dot position being recorded.例文帳に追加

光ビーム径よりも小さな副走査ピッチで光ビームにより記録媒体上を走査して記録媒体上に画像を形成する画像形成装置において、パターン検出処理回路（16）が、記録しようとするドット位置と、記録しようとするドット位置の上下の同一主走査位置の画像データ列の値を検出し、その画像データ列の値が、上から順にオフ，オフ，オンまたはオン，オフ，オフである場合には、光量切り換え信号により、記録しようとするドット位置に、独立した横１ドットラインを形成する画像形成しきい値より小さい光強度の光ビームを照射させる構成にした。 - 特許庁

The method of manufacturing a nitride semiconductor element by dividing a semiconductor wafer where a nitride semiconductor is formed on a substrate includes: a step for forming a separation part where the semiconductor wafer is partially thin by removing a part of the nitride semiconductor; a step for forming a break line in the substrate by irradiating the separation part internally with a laser beam; and a step for dividing the semiconductor wafer along the break line.例文帳に追加

本発明は、基板上に窒化物半導体が形成された半導体ウエハーを窒化物半導体素子に分割する窒化物半導体素子の製造方法であって、前記窒化物半導体の一部を除去して、前記半導体ウエハーの厚みが部分的に薄い分離部を形成する工程と、前記分離部内にレーザーを照射して、前記基板の内部にブレイク・ラインを形成する工程と、前記ブレイク・ラインに沿って前記半導体ウエハーを分離する工程と、を有する窒化物半導体素子の製造方法である。 - 特許庁

The resist material containing the nitrogen-containing organic compound provides high resolution and satisfactory mask coverage dependency, is useful in microfabrication using an electron beam or far-ultraviolet radiation, and is suitable for use as a fine pattern forming material for VLSI production.例文帳に追加

（Ｒ^1は両端で結合する窒素原子と共に含窒素へテロ脂肪族環又は含窒素ヘテロ芳香族環を形成する炭素数２〜２０の２価の置換基を表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はハロゲン原子を含んでもよい。Ｒ^2は炭素数２〜１０のカルボニル基を含んでもよいアルキレン基。Ｒ^3は炭素数２２〜５０の水酸基、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はシアノ基を含んでもよいアルキル基又はアシル基。） - 特許庁

The scan head enclosure 12 houses an array of ultrasonic transducers and the circuitry associated therewith, including pulse synchronizer circuitry used in the transmit mode to time transmission of ultrasonic pulses and beam forming circuitry used in the receive mode to dynamically focus reflected ultrasonic signals returning from the region of interest being imaged.例文帳に追加

スキャンヘッドの外枠１２は超音波変換器のアレイ及びこれと組み合わせられた回路を収容し、この回路には超音波パルスを送信する送信モードにおいて使用されるパルス同期回路、及び撮像されている対象領域から戻ってくる反射超音波信号を動的に収束させるために受信モードにおいて使用されるビーム形成回路が備えられる。 - 特許庁

To raise an arranging degree of freedom of the additional lighting fixture in a vehicular headlight equipped with an elementary lighting fixture capable of forming a light distribution pattern for low beam and an additional lighting fixture capable of temporarily lighting while the elementary lighting fixture is lighted, and to carry out the light irradiation in quick response to the travelling condition of the vehicle while sufficiently securing the life of a light source.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成可能な基本灯具ユニットと、この基本灯具ユニットの点灯中に一時的に点灯可能な付加灯具ユニットとを備えてなる車両用前照灯において、付加灯具ユニットの配置自由度を高めるとともに、その光源の寿命を十分に確保した上で、車両走行状況に即応した光照射を行えるようにする。 - 特許庁

The formation of the dot pattern in the state of stabilizing the energy of a laser beam LB by triggering a laser oscillator 44 to start irradiation earlier than the time for forming the dot pattern and therefore the unnecessary sensitization to an X-ray film 12 by the excess output energy can be prevented and the generation of the dot pattern having the lower visibility by the dot pattern formation by the insufficient energy can be prevented.例文帳に追加

レーザー発振器４４をドットパターン形成時期よりも早く照射を開始することで、レーザービームＬＢのエネルギーを安定させた状態でドットパターンを形成することができるため、過度の出力エネルギーによってＸレイフィルム１２への不必要な感光が防止でき、不足したエネルギーによるドットパターン形成による視認性の低いドットパターンの発生が防止できる。 - 特許庁