「Beam Forming」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a means to obtain detailed information concerning local tissue characteristics of cardiac muscles using ultrasonic backscatter IB for more correctly making diagnosis of heart diseases in an ultrasonic diagnosis system for transmitting an ultrasonic beam to a heart tissue, receiving reflected waves of it for analysis, and forming a diagnosis image or the like.例文帳に追加

心生体組織に超音波ビームを送信し、その反射波を受信して解析し、診断像等を作成できる超音波診断システムにおいて、心臓疾患の診断をより適確なものにするため、超音波後方散乱ＩＢを利用して、心筋の局部的な組織性状についての詳細な情報を取得できる手段を提供すること。 - 特許庁

This flat type electron beam excitation display is provided with a front panel 1 comprising a glass substrate 15 having an image forming member 5 formed in its inner surface, a rear panel 2 comprising a glass substrate 21 mounted with a group of electron emission devices, and the plurality of glass spacers 4 as atmospheric pressure supporting members are inserted between the front panel 1 and the rear panel 2.例文帳に追加

フラット型の電子線励起型ディスプレイは、内面に画像形成部材５が形成されたガラス基板１５からなる前面板１と、電子放出素子群を搭載したガラス基板２１からなる背面板２とを備え、前面板１と背面板２の間には、大気圧支持部材としての複数のガラススペーサ４が挿入される。 - 特許庁

A beam-forming system 1 performs Fourier transforms the voice received from the sound source 2 in a short time for each frame, acquires a received signal vector about the present frame, updates the correlation matrix up to the previous frame of the present frame using the received signal vector, and calculates the correlation matrix up to the present frame.例文帳に追加

音声到来方向推定・ビームフォーミングシステム１が音源２から受信した音声をフレーム毎に短時間フーリエ変換し、現在のフレームについての受信信号ベクトルを取得し、該受信信号ベクトルを用いて、現在のフレームの一つ前のフレームまでの相関行列を更新して、現在のフレームまでの相関行列を算出する。 - 特許庁

The multiple beam scanning system 100 for an image forming apparatus 10 has an input and an output telecentric optical subsystems including a plurality of optical elements which are continuously and optically collimated so as to receive light beams scanned along a first scanning optical path and redirect the scanned light beams along a second scanning optical path onto a predetermined surface.例文帳に追加

イメージ形成装置１０の多ビームスキャニングシステム１００は、第１スキャン光路に沿ってスキャンされる光ビームを受光し、スキャンされる複数の光ビームを第２スキャン光路に沿って所定表面上に向け直すように連続して光学的に整列された複数の光学エレメントを含む入力及び出力テレセントリック光学サブシステムを有する。 - 特許庁

The shadow mask 12 opposed to a phosphor screen comprises a generally rectangular mask main face 20 formed by press forming in a smooth dome shape and having electron beam passing holes 19 and a skirt part 18 extended from the peripheral edge 21 of a mask effective part and bent in the direction generally orthogonal to the mask main face.例文帳に追加

蛍光体スクリーンに対向してシャドウマスク１２は、プレス成形により形成され、なだらかなドーム状に成形されているととも電子ビーム通過孔１９を有したほぼ矩形状のマスク主面２０と、このマスク有効部の周縁２１から延出しマスク主面とほぼ直交する方向に折り曲げられたスカート部１８と、を有している。 - 特許庁

An antenna is constituted by forming a plurality of substrate-like antenna elements 2 which are faced to the surfaces of substrates 1 and have prescribed angles of beam widths by arranging radiating elements along the substrates 1 and arranging the elements 2 at angles from the surfaces of the substrates 1, and then, providing a partition 3 which cuts the radio-wave coupling between the elements 2.例文帳に追加

基板１に沿わせて輻射素子を配置することにより基板面に臨む所定角度のビーム幅を有する基板状アンテナ素子２を形成し、この基板状アンテナ素子２複数を互いの基板面に角度を持たせて配置すると共に、これら基板状アンテナ素子２間には素子間の電波的結合を遮断する隔壁３を設けた。 - 特許庁

The light source includes a vacuum chamber 12 retained in a given vacuum environment, a gas jet device 14 for forming a hypersonic steady gas jet 1 of a target material in the vacuum chamber in free recovery, and a laser device 16 for crossing a laser beam 3 of the same frequency to a given condensing point 2 in the hypersonic steady gas jet for condensing and irradiation.例文帳に追加

所定の真空環境に保持された真空チャンバー１２と、真空チャンバー内にターゲット物質の極超音速定常ガスジェット１を回収可能に形成するガスジェット装置１４と、極超音速定常ガスジェット内の所定の集光点２に同一周波数のレーザー光３を交差させて集光し照射するレーザー装置１６とを備える。 - 特許庁

When specifying the position to be observed on a sample and applying electron beams for forming an image, based on the position information of a defect inspected and detected by other inspection device, observation of electrical defects that can be conducted with a potential contract by designating electron beam irradiation conditions, detectors, detection conditions, and the like, according to the types of defects to be observed.例文帳に追加

他の検査装置で検査され、検出された欠陥の位置情報をもとに、試料上の被観察位置を特定し、電子線を照射し画像を形成する際に、観察すべき欠陥の種類に応じて電子ビーム照射条件および検出器、検出条件等を指定することにより、電位コントラストで観察可能な電気的欠陥が可能になる。 - 特許庁

The laser irradiation apparatus is equipped with a fiber moving part 10 which is connected at least to one of the plurality of optical fibers 25 and moves the end face of the optical fibers 25 in a direction including a component orthogonal to the machining advancing direction, and one image forming lens 17 on which each laser beam L emitted from the end face of the optical fibers 25 is made incident.例文帳に追加

レーザ照射装置は、複数の光ファイバ２５のうちの少なくとも一つに連結され、当該光ファイバ２５の端面を前記加工進行方向に直交する成分を含む方向に移動させるファイバ移動部１０と、光ファイバ２５の端面から照射されるレーザ光Ｌの各々が入射される一つの結像レンズ１７も備えている。 - 特許庁

A dielectric film of the laminated ceramic capacitor is formed by using a winding type electron beam vacuum deposition method and when the dielectric film is vacuum-deposited, a temperature of a vacuum deposition part of an electrode which comes into contact with an idler is set to a predetermined temperature to optimize crystallinity, thereby forming the dielectric film which has a high dielectric constant and a high breakdown voltage with high efficiency.例文帳に追加

本発明では積層セラミックコンデンサーの誘電膜作成を、巻取り式電子ビー ム真空蒸着法を用いて作成し、誘電膜蒸着時に、アイドラーと接する電極の蒸着部の 温度を所定の温度に設定することで、結晶性の最適化をおこない、高誘電率で高耐電圧 の誘電膜を高能率で作成する。 - 特許庁

The opening periphery reinforcing member 10 formed substantially ring-likely or substantially cylindrically of fiber reinforced mortal or concrete is arranged in a position for forming the opening of a beam, and respective upper and lower opening periphery shearing reinforcements 11 are engaged with upper and lower main reinforcements 21, 22, to be integrated with a concrete base material 26 together with opening both-side shearing reinforcements 23.例文帳に追加

繊維入り補強モルタル又はコンクリートにより略リング状又は略筒状に形成した開口回り補強体１０を梁の開口を形成する位置に配置し、上下の各開口回りせん断補強筋１１を上下の各主筋２１、２２に係合させて、開口両側のせん断補強筋２３とともにコンクリート母材２６に一体化する。 - 特許庁

The two-dimensional source mapping method forms a two-dimensional sound source map by intermittently acquiring sound data from a sound source by a microphone array optimized by a delay summing beam forming processing mounted on a movable robot; and performing bearing only simultaneous localization and mapping on the acquired sound data by particle filtering using a frequency band selection method.例文帳に追加

移動ロボットに搭載された遅延和ビームフォーミング法により最適化されたマイクアレイにより音源からの音声データを断続的に取得し、取得した音声データに対し、周波数帯域選択法を利用したパーティクルフィルタリングにより、方位単独ＳＬＡＭ（Bearing only Simultaneous Localization and Mapping）を行い、２次元音源地図を作成することを特徴とする。 - 特許庁

In forming a chemically-amplified resist film 4 for electron beam exposure on a light-blocking film 3 to form a resist pattern 4a, the mask blank includes a deactivation prevention film (not shown) whose film density is higher than that of the light-blocking film 3 at least near the surface and prevents deactivation of the resist film 4.例文帳に追加

遮光性膜３上に電子線露光用化学増幅型レジスト膜４を形成し、レジストパターン４ａを形成する際に、少なくとも前記遮光性膜３の表面近傍の膜密度よりも高い膜密度を有し、前記レジスト膜４の失活を抑制する失活抑制膜（図示せず）が形成されていることを特徴とするマスクブランク。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus having an optical device arranged below a photoreceptor drum, which prevents with simple structure, deterioration in image quality due to noise generated when writing an electrostatic latent image caused by sticking of dust such as toner to transparent material such as dust-proof glass provided in an opening portion from which a beam is emitted from the optical device.例文帳に追加

光学装置が感光体ドラムの下方に配置された画像形成装置において，光学装置のビーム光が出射される開口部に設けられた防塵ガラス等の透明部材に，トナー等の粉塵が付着することによって，静電潜像書込み時にノイズが発生して画像品質が劣化することを簡便な構造で防止すること。 - 特許庁

This vehicular lighting fixture system 100 includes a vehicular lighting fixture 70 capable of forming the light distribution pattern for a high beam divided into a plurality of irradiation areas in the vehicle width direction and switching the existence of irradiation of respective irradiation areas, and a control part for controlling the vehicular lighting fixture based on information for indicating a vehicle front state.例文帳に追加

車両用灯具システム１００は、車幅方向で複数の照射領域に分割されそれぞれの照射領域の照射の有無が切り替えられるハイビーム用配光パターンを形成可能な車両用灯具７０と、車両前方状況を示す情報に基づいて車両用灯具を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

In an image forming apparatus 30, an exposure device having a laser light source and a scanning optical system deflecting light from the laser light source and emitting a scanning light beam is supported by at least first, second and third supporting points T1, T2 and T3, and a sphere bearing supporting the exposure device rotatably in the entire directions is provided in a supporting part of at least one supporting point of the three supporting points.例文帳に追加

レーザ光源及び該レーザ光源からの光を偏向して走査光ビームを出射する走査光学系を有する露光装置を少なくとも第１支点、第２支点及び第３支点で支持し、該３支点のうちの少なくとも１支点の支持部には露光装置を全方向に回転可能に支持する球体軸受けを設ける。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The X-ray tube 30 includes an anode target 35 having a target surface 35b, a cathode 36 for making an electron beam be incident on the target surface from a first direction d1 along a first plane S1 and forming a focus F on the target surface, and a vacuum envelope 31 having the X-ray radiation window 33 positioned in a second direction d2 along a second plane S2.例文帳に追加

Ｘ線管３０は、ターゲット面３５ｂを有した陽極ターゲット３５と、第１平面Ｓ１に沿った第１方向ｄ１からターゲット面に電子ビームを入射させ、ターゲット面に焦点Ｆを形成する陰極３６と、第２平面Ｓ２に沿った第２方向ｄ２に位置したＸ線放射窓３３を有した真空外囲器３１とを具備している。 - 特許庁

To provide a rotating body having rotary polygon mirrors which are provided on an optical deflector which deflects a beam and scans a face to be scanned, in which contamination and cloud of the rotary polygon mirrors is reduced, an optical deflector having the rotating body, an optical scanner having the optical deflector, and an image forming apparatus such as a copy machine having the optical scanner, a facsimile, and a printer.例文帳に追加

ビームを偏向して被走査面の走査を行う光偏向装置に備えられ、回転多面鏡を有する回転体であって、回転多面鏡の汚れや曇りを低減可能な回転体、これを有するかかる光偏向装置、これを有する光走査装置、これを有する複写機、ファクシミリ、プリンタ等の画像形成装置の提供。 - 特許庁

To provide a resist material such as a chemically amplified resist material for providing an excellent pattern profile even at a substrate interface, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F_2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a pattern forming method utilizing the resist material.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ_２レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

After forming the lower pole 1 and the upper pole 2, focused ion beam etching is applied to trim them from the sliding surface to back the depth zero line except their tips 1A, 2A made to fit the recording track in width, to manufacture this head.例文帳に追加

また、下部磁極１及び上部磁極２を形成した後に、下部磁極１及び上部磁極２のうち所定の記録トラック幅となる部分１Ａ，２Ａを除いた部分に対して、収束イオンビームエッチングによりヘッド摺動面から磁気ギャップのデプスゼロラインよりも奥まで後退するようにトリミング処理する工程を行って、上記薄膜磁気ヘッド１０を製造する。 - 特許庁

A semiconductor wafer thinning method comprises an embrittlement layer formation step of irradiating a semiconductor wafer with laser beam while focusing on an inside of the semiconductor wafer and forming an embrittlement layer inside the semiconductor wafer by multiphoton absorption and a thinning step of thinning the semiconductor wafer by separating the semiconductor wafer into two using the embrittlement layer as a starting point.例文帳に追加

半導体ウェーハの内部に焦点を合わせてレーザー光を照射し、多光子吸収により半導体ウェーハの内部に脆化層を形成する脆化層形成工程と、脆化層を起点として半導体ウェーハを２枚に分離して、半導体ウェーハを薄厚化する薄厚化工程とを含む半導体ウェーハの薄厚化方法である。 - 特許庁

One direction for RF electric power synthesis is selected at a two-dimensional antenna aperture by selecting any one of signals combined for each column or row, and beam formation processing is performed by DBF method using a selected composite signal thus forming a multibeam in another direction.例文帳に追加

そして、各列毎、あるいは各行毎に合成された信号のどちらか一方を選択することによって２次元のアンテナ開口面においてＲＦ電力合成する一方向を選択するとともに、選択した合成信号を用いてＤＢＦ手法によるビーム形成処理を行ない、もう一方の方向に対してマルチビームを形成する。 - 特許庁

An optical pickup is provided to either record the data recording by illuminating an optical disk, on which a guiding groove having a thermal interference (thermal dicoloration) characteristic is formed in a spiral with a laser light beam along the groove and forming pits to express a data length, or to form a visible image by discoloring a portion of the disk.例文帳に追加

熱干渉（熱変色）する性質を有する案内溝が螺旋状に形成された光ディスクに対して、前記案内溝に沿ってレーザ光を照射し、データ長を表すピットを形成させることによるデータ記録、前記光ディスクの一部を変色させることによる可視画像形成、のいずれかを行う光ピックアップを設ける。 - 特許庁

To provide an adaptive antenna receiver in which time for converging the antenna weight of an adaptive updating algorithm can be shortened by actualizing the high directivity of a receiving quality just after the start of adaptive updating when a finger is to be newly assigned or when the pass timing of the finger is considerably changed, in an adaptive antenna for forming a beam for each of passes.例文帳に追加

各パス毎にそれぞれビームを形成する適応アンテナにおいて、フィンガーを新たに割り当てるときやフィンガーのパスタイミングが大きく変化したとき、適応更新の開始直後で受信品質の高い指向性を実現でき、適応更新アルゴリズムのアンテナ重みの収束時間を短くすることができる適応アンテナ受信装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition highly transparent to a light of a wavelength of at most 250 nm, particularly to an ArF excimer laser light, excellent in resist performances such as sensitivity, resolution, adhesion to a substrate and dry etching resistance, and therefore suitable for the far ultraviolet light excimer laser lithography, an electron beam lithography and the like, and a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

波長２５０ｎｍ以下の光、特にＡｒＦエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、感度、解像度、基板密着性、ドライエッチング耐性といったレジスト性能に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the step, the two sheets of substrates 110, 120 are arranged to face each other so that each of sealing regions of the substrates is overlapped with each other, thereby forming a stacked substrate, and the both substrates are bonded by irradiating the sealing region of the stacked substrate with an ultrashort pulse laser beam to melt a glass substrate surface.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法は、２枚の基板１１０，１２０を貼り合わせる工程において、２枚の基板１１０，１２０をそれぞれのシール領域が重なるように対向配置させて重ね合わせ基板とし、重ね合わせ基板のシール領域に超短パルスレーザーを照射することにより、ガラス基板の表面を溶融させて両基板を接着する。 - 特許庁

A cyclic pulsed laser beam is made to scan along a processing line, a forming process to form a processed groove which is shallower in depth as compared with a totally processed depth is repeated two times or more, by which the processed depth of the processed groove becomes gradually deeper, then processings such as piercing, grooving, and cutting of an outline are performed through processing of the totally processed depth.例文帳に追加

加工線に沿って周期的なパルス状のレーザビームを走査させ全加工深さに比して浅い深さの加工溝を形成する加工溝形成工程を複数回繰り返すことにより前記加工溝の加工深さを順次増加させ、全加工深さの加工を行うことで、穴抜き加工，溝加工，外形カット等の加工を行う。 - 特許庁

The alignment processing is performed by forming nearly parallel beam of ultraviolet light emitted by a light source unit section into a long irradiation pattern through a light irradiation pattern control section comprising a plurality of total reflection mirrors and irradiating the alignment layer with the ultraviolet light having the converted irradiation pattern at a prescribed angle.例文帳に追加

光源装置部から出射された紫外線の略平行光を、複数の全反射ミラーによって構成された光照射パターン制御部を介して長尺形状の照射パターンに形成し、変換された照射パターンの紫外線を所定の角度を保って配向膜に照射することによって配向処理を施すようにした。 - 特許庁

In the device for forming one or more spaced cut grooves on the surface of the substrate, a laser beam 4 emitted by a laser 3 irradiates a diffraction grating element 6 to branch off into two first cutting beams 7, and the first cutting beams 7 irradiate a diffraction grating element 10 to branch off into second beams 12, respectively.例文帳に追加

一つもしくはそれ以上の離間された切断溝を基板の表面に形成するための装置であって、レーザ３から発生したレーザビーム４は、回折格子素子６に照射され二つの第一切断ビーム７に分岐され、さらに第一切断ビーム７は回折格子素子１０に照射され、それぞれ第二ビーム１２に分岐される。 - 特許庁

The flexible filmy glass waveguide can be obtained by forming a core 11 as a light propagation layer, having a larger refractive index than a glass film 10 formed on the filmy member 12, in the glass film 10, and the core 11 is formed through light convergence and irradiation with an ultrashort pulse laser beam of femtosecond order, so low loss is realized.例文帳に追加

フィルム状部材１２の上に形成されたガラス膜１０中にガラス膜１０より屈折率の高い光伝搬層としてのコア１１を形成することにより、フレキシブルなフィルム状ガラス導波路を得ることができ、フェムト秒オーダの超短パルスレーザビームの集光、照射によりコア１１が形成されるので、低損失化を図ることができる。 - 特許庁

When forming the part excluding a transparent electrode which is a part of zinc oxide transparent conductive film covering the glass plate into an inter-electrode insulation part, the inter-electrode insulation part is processed to evaporate and remove a surface layer of the zinc oxide transparent conductive film by irradiation of the laser beam, and to electrically insulate the inner layer under the surface layer through oxidation.例文帳に追加

ガラス板上に被覆された酸化錫透明導電膜の一部を透明電極とし、透明電極以外の部分を電極間絶縁部とするにあたり、電極間絶縁部の加工を、レーザの照射による酸化錫透明導電膜の表面層の蒸発による除去と表面層より内部の層の酸化による電気絶縁により行う。 - 特許庁

To provide a method by which a semiconductor device can be manufactured by using a laser-beam crystallization method which can prevent the remarkable fall of the mobility of a TFT due to grain boundaries formed in the channel forming region of the TFT, the decrease of an on-current, and the increase of an off-current, and to provide a semiconductor device manufactured by the method.例文帳に追加

ＴＦＴのチャネル形成領域に形成された粒界によりＴＦＴの移動度が著しく低下したり、オン電流が低減したり、オフ電流が増加したりするのを防ぐことができるレーザー結晶化法を用いた半導体装置の作製方法及び該作製方法を用いて形成された半導体装置の提供を課題とする - 特許庁

The method includes steps of providing a carrier having flakes dispersed therein onto the surface of an article, wherein all of the flakes have a beam-splitting grating pattern encoding the information thereon, aligning the flakes, in parallel with a sloped plane forming a slope angle with the surface of the article and solidifying the carrier.例文帳に追加

本方法は、その内部に分散された薄片を有し物品の表面の上にコートされる担体を用意するステップであって全ての薄片はその上に情報が符号化されているビーム分割格子パターンを有するステップと、薄片を物品の表面に対して傾斜した角度を成す傾斜面に平行に配列させるステップと、担体を固化させるステップと、を含む。 - 特許庁

The method for forming a multi-layer coating film wherein the primer, intermediate, and top coating films are successively applied to a material having a rough surface texture or a material having a partially worsened surface texture caused by a molding process or the like, employes an active energy beam curable paint as a primer paint.例文帳に追加

表面形状の粗い素材、または成形加工等により部分的に表面形状が悪化した素材に対し、プライマー塗膜、中塗り塗膜及び上塗り塗膜を順次形成する複層塗膜形成方法において、プライマー塗料として活性エネルギー線硬化型塗料を用いることを特徴とする複層塗膜形成方法。 - 特許庁

According to the method of the invention for recording information on a write once-read many optical recording medium, the pulse pattern of a laser beam for forming a first recording mark is set based on at least one of the length of a blank area disposed after the first recording mark and the length of a second recording mark formed after the first recording mark.例文帳に追加

本発明による追記型光記録媒体への情報記録方法は、第１の記録マークを形成するためのレーザビームのパルスパターンを、前記第１の記録マークの後に設けられるブランク領域の長さ及び前記第１の記録マークの次に形成される第２の記録マークの長さの少なくとも一方に基づいて設定する。 - 特許庁

Further an apparatus such as a laser beam transmitter which involves (a) a laser to make a hole in the nail, (b) a supporting means for fixing/placing the treated toe or finger, (c) an indicating laser, and optionally (d) an xyz translation stage module, and is based on a laser for forming one or more orifices in one or more nails is provided.例文帳に追加

また、該方法において使用する、(ａ)爪に穴をあけるレーザー、(ｂ)処置する足指もしくは指を固定／配置する支持手段、(ｃ)指示レーザー、(ｄ)任意にｘｙｚ翻訳ステージモジュール、を含む、一つもしくはそれ以上の爪の中に一つもしくはそれ以上のオリフィスを形成させるためのレーザーをベースにする装置、例えばレーザー光伝達装置を提供する。 - 特許庁

In the method of generating exposure data in charged particle beam exposure utilizing the block mask for irradiating an object to be exposed with second transmission beams, first transmission beams are formed by transmitting charged particle beams through a first rectangular transmission hole, and forming the second transmission beams, by transmitting the first transmission beams through the block mask having a plurality of discrete patterns.例文帳に追加

荷電粒子ビームを矩形の第１の透過孔を透過させて第１の透過ビームを形成し、当該第１の透過ビームを複数の離散パターンを有するブロックマスクを透過させて第２の透過ビームを形成し、当該第２の透過ビームを被露光物に照射するブロックマスクを利用した荷電粒子ビーム露光における露光データの生成方法である。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using an electron beam, X-ray or EUV light and simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness, high contrast, prevention of conversion to a negative resist composition, and surface roughness, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、高コントラスト、ネガ化防止、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a method of forming a space under a predetermined material, a stack of a photosensitive layer and a layer of a predetermined material are formed on a substrate, and a part or a complementary part of the photosensitive layer is irradiated with an electron beam by crossing the layer of the predetermined material according to positive or negative of the photosensitive layer, thereby removing the part of the photosensitive layer.例文帳に追加

所定の材料の下に空間を形成する方法は、基板の上に光感応層と所定の材料の層のスタックを形成し、光感応層がポジティブかネガティブかに従って光感応層の一部又はその相補部に電子ビームを前記所定の材料の層を交叉して照射し、光感応層の前記部分を除去する。 - 特許庁

A protection film is formed so as to cover the whole surface of a panel substrate after forming the organic EL element, and a laser beam absorbed in the layer composed of the organic insulation material is irradiated on the terminal covered by the protection film to generate abrasion in those layers, and the layer composed of the organic insulation material and the protection layer formed thereon are simultaneously removed and the terminal is exposed.例文帳に追加

有機ＥＬ素子の形成後パネル基板全面を覆うように保護膜を形成し、保護膜で覆われた端子上の有機絶縁材料ならなる層に吸収されるレーザを照射し、この層にアブレーションを発生させて、この有機絶縁材料からなる層とその上の保護膜を同時に除去し、端子を露出させる。 - 特許庁

This optical recording medium which is made by laminating at least, a recording layer and a reflecting layer in this order from the side near to a substrate on the surface of opposite side to the laser beam incident surface of the substrate is produced by a producing method containing a process of forming the recording layer by vacuum deposition of organic dyestuff on the substrate surface of which the contact angle of water is ≤75°.例文帳に追加

基板のレーザー光入射面とは反対側の面に、少なくとも記録層および反射層が基板に近い側からこの順に積層されて成る光記録媒体を、水の接触角が７５°以下である基板表面に有機系色素の真空蒸着により記録層を形成する工程を含む製造方法によって製造する。 - 特許庁

Since a glass fiber fabric is exposed on the bottom faces of grooves by forming the grooves by baking off a resin layer formed on a circuit pattern by projecting a laser beam upon the resin layer before the circuit pattern is ink-jet plotted on a substrate, a circuit composed of a metallic layer formed in the succeeding electroless plating step can be bonded firmly to the substrate.例文帳に追加

基板上に回路パターンをインクジエット描画する工程の前に、あらかじめレーザー照射により回路パターン上の樹脂層を焼き取って溝を作りガラス繊維織物を溝の底面に露出させておくことにより、後続の無電解メッキ工程において形成される金属層の回路は基板に強固に接着される。 - 特許庁

The method of manufacturing an antireflection structure includes a process of forming an antireflection structure comprising a cluster of minute projections of glassy carbon on the surface of a base material, having a needle shape or a cone shape having a diameter that contracts towards a tip, by performing ion beam machining using gas containing oxygen against the base material made of glassy carbon.例文帳に追加

ガラス状炭素からなる基材に対して酸素を含むガスを用いてイオンビーム加工を施すことにより該基材の表面に、先端に向けて縮径した針状又は錐状の形状を有する前記ガラス状炭素の微細な突起群からなる反射防止構造を形成する工程を含むことを特徴とする反射防止構造体の製造方法。 - 特許庁

To provide a resist composition having high transparency to light with wavelength ≤250 nm, especially to ArF excimer laserbeam and resist performance such as high sensitivity, excellent in dry etching tolerance, and suitable for far-ultraviolet light excimer laser lithography, electronic beam lithography, etc., and to provide a method for forming fine patterns using the composition.例文帳に追加

波長２５０ｎｍ以下の光、特にＡｒＦエキシマーレーザー光に対して透明性が高く、高感度であるといったレジスト性能を有し、ドライエッチング耐性に優れ、遠紫外光エキシマーレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適なレジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いた微細なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁