「Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(248ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent a defect by mixture with an adjacent phosphor paste of a phosphor paste applied between ribs in a dispenser system to form a phosphor screen of a plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの蛍光面を形成するために、ディスペンサー方式でリブ間に蛍光体ペーストを塗布する際に、隣の蛍光体ペーストと混ざり合って不良を起こすことのないようにする。 - 特許庁

To provide a method for detecting the defect of a composite hollow fiber membrane for ultrafiltration/microfiltration having a separating function layer on a porous support membrane, capable of easily detecting a defect portion before modulating and capable of automatically and easily attaching or removing a colorable substance in a membrane-forming process.例文帳に追加

本発明は、多孔質支持膜上に分離機能層を有する限外ろ過／精密ろ過複合中空糸膜の欠陥検出方法において、モジュール化する前に容易に欠陥部分を検出することができ、製膜工程の中で自動的にかつ容易に着色性物質を付着・除去することが可能な限外ろ過／精密ろ過複合中空糸膜の欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

The unit control section 50 draws out a portion having a yarn defect from the accumulator 61 to the yarn supplying bobbin 21 side when a clearer 15 detects the yarn defect, and catches and guides this drawn-out yarn 20 to a splicer device 14 by an upper yarn guide pipe 26, and controls so as to perform ending work by guiding lower yarn caught by a lower yarn guide pipe 25 to the splicer device 14.例文帳に追加

ユニット制御部５０は、クリアラ１５が糸欠陥を検出したときは、アキュムレータ６１から糸欠陥を有している部分を給糸ボビン２１側に引き出して、この引き出した糸２０を上糸案内パイプ２６が捕捉してスプライサ装置１４へ案内するとともに、下糸案内パイプ２５で捕捉した下糸をスプライサ装置１４へ案内して糸継作業を行うように制御する。 - 特許庁

A transparent insulating film correcting device decides a correction method by a correction method decision means 16, by using the kind of the defect and the position to a wiring pattern on the substrate 31 of the defect by a control computer 7, based on the image of the substrate 31 picked up by a camera 1, by switching an interference lens 3 and an objective lens 6 by a lens switching means 5.例文帳に追加

本発明の透明絶縁膜修正装置は、カメラ１により、干渉レンズ３と対物レンズ６とをレンズ切り替え器５により切り替えて撮像された基板３１の画像に基づいて制御コンピュータ７により、欠陥の種別、及び、当該欠陥の基板３１上の配線パターンに対する位置を用いて、修正方法決定手段１６により修正方法を決定する。 - 特許庁

To provide a searching method used for various purposes capable of carrying out automatically defect search in a short time with simple constitution without using detail circuit information, in the case of carrying out the defect search for specifying a function-defective or production-defective portion of a mounting board mounted with an IC and an electronic component.例文帳に追加

ＩＣ及び電子部品が実装された実装基板の機能不良あるいは製造不良の箇所を特定する不良探索を行う場合において、詳細な回路情報無しに簡易な装置構成で自動的に短時間で不良探索を行うことができる汎用的な探索手法を実現した実装基板不良探索方法及び実装基板不良探索装置を提供する。 - 特許庁

To provide a projection type image display device having a holding device for a liquid crystal display element, by which registration defect is reduced to reduce color deviation even when surroundings temperature is raised and registration defect is prevented and color deviation can be prevented by turning the liquid crystal display element to the original position when surroundings temperature in the heated state is returned to the normal temperature.例文帳に追加

周囲温度が上昇した場合においてもレジストレーションの不良を小さくして色ずれを少なくし、周囲温度が熱が加わった状態から常温に戻った場合に液晶表示素子の位置を元に戻すことによりレジストレーションの不良を防いで色ずれを防ぐことができる液晶表示素子の保持装置を有する投写型画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

The counter substrate 4 is provided with a BM wiring 1, to which voltage for normal driving according to driving a TFT element, is applied or which is grounded, a pixel display electrode 3 which is connected with the BM wiring 1 and a BM wiring 2 to which voltage for repairing a defect pixel is applied by being connected with the pixel display electrode 3, when defect is generated.例文帳に追加

そして、対向基板４は、ＴＦＴ素子の駆動に従って正常駆動するための電圧が印加されるか又は接地されたＢＭ配線１と、このＢＭ配線１と接続された画素表示電極３と、欠陥が生じた場合に画素表示電極３と接続されることにより当該欠陥画素を修正するための電圧が印加されたＢＭ配線２とを備えている。 - 特許庁

A surface inspection method for a semiconductor wafer is provided, including: irradiating the surface of a semiconductor wafer as an inspection object with inspection light from a light source unit; detecting scattered light from an irradiation region irradiated with the inspection light of the wafer surface; and evaluating the presence or absence of a defect and/or a degree of the defect on the wafer surface based on the detected scattered light.例文帳に追加

検査対象である半導体ウェーハの表面に向かって光源部から検査光を照射すること、ウェーハ表面の検査光が照射された照射領域からの散乱光を検出すること、ならびに、検出された散乱光に基づきウェーハ表面の欠陥の有無および／またはその程度を評価すること、を含む半導体ウェーハの表面検査方法。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display element using ferroelectric liquid crystal, wherein the display element is excellent in orientation stability, such that a mono-domain orientation of ferroelectric liquid crystal can be obtained without formation of orientation defects such as zigzag defect, hairpin defect and double domain, and the orientation can be maintained even when the temperature is raised to a phase transfer point or higher.例文帳に追加

本発明は、強誘電性液晶を用いた液晶表示素子において、ジグザグ欠陥、へアピン欠陥やダブルドメイン等の配向欠陥が形成されることなく強誘電性液晶のモノドメイン配向を得ることができ、相転移点以上に昇温してもその配向を維持することができる配向安定性に優れた液晶表示素子を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a reflection-type mask blank and a reflection-type mask for EUV exposure that eliminate the need for a low-reflection layer made of TaBO etc., which is difficult to work, are adaptive to a shorter wavelength of inspection light, and have a black defect corrected without requiring any complicated process even when the black defect is found through process inspection, and to provide a manufacturing method and an inspecting method thereof.例文帳に追加

本発明は、加工の困難なＴａＢＯ等からなる低反射層を不要とし、検査光の短波長化にも対応可能で、工程検査で黒欠陥が見つかった場合でも、複雑な工程を要することなく欠陥修正が可能なＥＵＶ露光用の反射型マスクブランクス及び反射型マスク、その製造方法、並びに検査方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a liquid crystal device by which the occurrence of an alignment defect of a liquid crystal caused by ruggedness of an inorganic alignment layer formed by being affected by a rugged shape of an electrode constituted of an ITO film and the occurrence of a display defect such as a display unevenness can be easily prevented while productivity and reliability of the liquid crystal device are enhanced.例文帳に追加

ＩＴＯ膜によって構成された電極の凹凸形状に影響されて形成された無機配向膜の凹凸に起因して液晶の配向不良が発生し、表示ムラ等の表示不良が発生してしまうことを、液晶装置の生産性及び信頼性の向上を図りながら簡単に防止することができる液晶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device having the most simple and rational constitutions of an irradiation system and an imaging system, and capable of conducting highly reliable inspection, in the surface defect inspection device provided with the irradiation system comprising a plurality of light emitting elements arranged with a prescribed lay-out pattern, and an imaging camera for imaging an inspected face receiving irradiation light emitted from the irradiation system.例文帳に追加

所定のレイアウトパターンで配置された複数の発光素子からなる照射系と、その照射系から照明される照射光を受けた被検査面を撮像する撮像カメラとを備える表面欠陥検査装置において、照射系と撮像系との構成が最も合理的かつシンプルであり、信頼性の高い検査を行うことが可能なものを得る。 - 特許庁

This contiguous data area performs setting across either a different file recording region that is already recorded on the information storage medium or the defect region on the information storage medium, and sets an extent, as an information recording place, for a region which is divided by the different file recording region or the defect region on the information storage medium.例文帳に追加

このコンティギュアスデータエリアは、情報記憶媒体上に既に記録されている別のファイル記録領域または情報記憶媒体上の欠陥領域のいずれか一方をまたがって設定し、別のファイル記録領域または情報記憶媒体上の欠陥領域により分割される領域に対して情報記録場所としてのエクステント（ｅｘｔｅｎｔ）を設定している。 - 特許庁

This pattern defect inspection device includes a nearest 8 chips, which are adjacent to the detected image and positioned diagonally in the lateral and vertical directions while putting the detected image between them, and has a means creating an average reference image from images of the same shape patterns by statistical computing and a means detecting the defect by comparing the detected image with the average reference image.例文帳に追加

このパターン欠陥検査装置は、検出画像に隣接する少なくとも検出画像を挟んだ左右上下斜めに隣接する最近接８チップを含んで同一形状のパターンの画像から統計的演算処理により平均参照画像を生成する手段と検出画像を生成された平均参照画像と比較して欠陥を検出する手段とを備える。 - 特許庁

To provide a defect inspecting method and apparatus with easy sensitivity adjustment capable of both inspecting locational deviation in an image to be inspected, image distortion, etc., by considering brightness between the images and of reducing misreports and highly sensitively detecting defects only by setting a threshold value in defect inspection for comparing the image to be inspected with a reference image and detecting the defects from their difference.例文帳に追加

検査対象画像を参照画像と比較してその差異から欠陥を検出する欠陥検査において、対象画像内の位置ずれや画像歪み等について、画像間の明るさを合わせ込んで検査を行うとともに、しきい値設定のみで虚報の低減と欠陥の高感度検出を両立させ、感度調整が容易な欠陥検査方式及び装置を提供する。 - 特許庁

After performing crystal defect repair processing or crystal defect removal processing of the single crystal silicon layer, using stock gas at least containing silicon based gas, the stock gas is activated by plasma under the atmospheric pressure or near the atmospheric pressure to cause single crystal silicon layer epitaxial growth and a second impurity silicon layer is formed on the epitaxial grown surface side.例文帳に追加

単結晶シリコン層の結晶欠陥修復処理又は結晶欠陥除去処理を行った後、シラン系ガスを少なくとも含む原料ガスを用い、大気圧或いは大気圧近傍下で生成したプラズマにより原料ガスを活性化させ、単結晶シリコン層をエピタキシャル成長させ、該エピタキシャル成長させた表面側に第２不純物シリコン層を形成する。 - 特許庁

The characteristic of this measuring method is to excite a flexuously-vibrating ultrasonic (RAM wave) in a measuring body, measure the time difference of a repetitive wave caused by an inner defect extending in a flexuous vibration propagating direction parallel to the measuring body surface to measure the size of the inner defect on the measuring body using both the time difference and the flexuous vibration sound wave velocity.例文帳に追加

被測定体中に屈曲振動する超音波（ラム波）を励起し、被測定体表面に平行で屈曲振動伝播方向に伸びる内部欠陥によって起こる繰り返し波の時間差を計測し、その時間差と屈曲振動伝播速度から被測定体内部欠陥の大きさを測定することを特徴とする内部欠陥寸法の測定法方法。 - 特許庁

This device is provided with an optical means 40 having at least one cameras 42, 42', and connected to an image collection processing system 48 capable of a geometric defect existing in each of the fuel rods 2 to be inspected, and is provided further with a roughness measuring instrument 50 controlled to measure a depth of the each geometric defect detected by the image collection processing system 48.例文帳に追加

この装置は、少なくとも１つのカメラ４２、４２’を有し、検査すべき各燃料棒２上に存在する幾何的欠陥を検出することができる画像収集処理システム４８に連結されている光学手段４０を備え、画像収集処理システム４８によって検出された各幾何的欠陥の深さを測定するように制御される粗さ測定器５０をさらに備える。 - 特許庁

The inspection method of the cause of a case that the IC chip 11 produces some defect is a method for inspecting and analyzing the cause of the defect by a photo-emission analyzing method by mounting the IC chip 11 on a test board to be energized and actuated after the package board 12 of an area surrounded by the display 16 is removed from the rear face to open an opening.例文帳に追加

このようなＩＣチップ１１が何らかの不良が生じた場合のその原因の検査方法は、表示１６で囲われた領域のパッケージ基板１２を裏面から除去して開口を開けた後、そのＩＣチップ１１をテスト基板に装着し、通電して作動させ、フォトエミッション解析方法により不良の原因を検査ｍ解析する方法を採っている。 - 特許庁

The distance between the lower electrode 18 and the upper electrode 24 is narrowed to increase the auxiliary capacitor without the occurrence of a display defect, such as a dot defect, by dielectric breakdown.例文帳に追加

ゲート電極２３と同層の上側電極２４下方にゲート絶縁膜２２を介してタングステンシリサイド（ ＷＳｉｘ ）薄膜からなる下側電極１８を設け、この下側電極１８及び上側電極２４間で補助容量を形成し、絶縁破壊による点欠陥等の表示不良を生じる事無く下側電極１８及び上側電極２４間の距離を狭め補助容量を増大する。 - 特許庁

This method fetches an image about a check object having a regularly linear pattern by an image pickup device, applies differential processing to the fetched gradation image to detect a defective candidate, cuts out the original image of the defective candidate part, performs labeling processing of the cut out image, performs redecision according to the characteristic of the pattern and classifies and detects the defect and the type of the defect with high accuracy.例文帳に追加

規則的な直線状パターンを持つ検査対象についてその画像を撮像素子にて取り込み、取り込んだ濃淡画像に対して差分処理を行って欠陥候補を検出し、欠陥候補部分の原画像を切り出し、切り出した画像のラベリング処理を行い、そのパターンの特徴によって再判定を行い、欠陥を精度良くかつ欠陥の種類を分別して検出する。 - 特許庁

In the optical switch A which includes: the dielectric multilayer films 10, 11 comprising a plurality of periodically laminated dielectrics with mutually different refractive indexes; and a defect layer 12a interposed between the dielectric multilayer films 10, 11 and not in conformity with the periodicity of the dielectric multilayer films 10, 11, the defect layer 12a is composed of a material with a photorefractive effect.例文帳に追加

屈折率の異なる複数の誘電体を周期的に積層してなる誘電体多層膜１０、１１と、その誘電体多層膜１０、１１によって挟まれかつ前記誘電体多層膜１０、１１周期性から外れた１層の欠陥層１２ａを含んでいる光スイッチＡにおいて、前記欠陥層１２ａはフォトリフラクティブ効果を有している材料である。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for inexpensively performing defect inspection with fewer errors and for automatically classifying defects, especially to provide: an automated inspection for automatically inspecting and detecting detect particles and defect patterns different from patterns that a designer intends to be; an automated inspection apparatus for automatically classifying the defects; and to provide the automated inspection method for the same.例文帳に追加

低コスト且つ誤謬の少ない欠陥探索並びにその型分類を自動的に行なう基板検査装置とその方法、特にマスク・レチクル等の基板に於いて欠陥粒子及び設計者の意図とは異なる欠陥図形を探索発見する自動検査と、それ等欠陥の型の自動分類とを行なう基板検査装置及びその自動検査方法を提供する。 - 特許庁

The method enabling the defect to be displayed includes adding the core-shell type branched polymer to the liquid crystal, heating the dispersion to the temperature higher than the isotropic phase temperature of the liquid crystal, and cooling the dispersion to the temperature at which the liquid crystal phase is formed, so that the branched polymer dispersed in the isotropic phase is preferentially concentrated in the defect of the liquid crystal.例文帳に追加

また、本発明の前記欠陥部位を表示可能とする方法は、前記コア-シェル型分岐状高分子を液晶に添加し、これを該液晶の等方相温度以上の温度に加熱し、次いで液晶相を形成する温度まで冷却することによって、等方相中に分散した前記分岐状高分子を該液晶の欠陥部位に優先的に濃縮することを特徴とする。 - 特許庁

A production history information generation part 6 connected to an identification number read part 8 composed of a bar code reader, an inspection device 9 which inspects products, a defect contents input part 10 which inputs defect contents of a product, a serial number read part 11, and a repair contents input part 12 which inputs the contents of products generates production history information in a recording part 3.例文帳に追加

バーコードリーダからなる識別番号読取部８と、製品を検査する検査装置９と、製品の不良内容が入力される不良内容入力部１０と、シリアル番号読取部１１と、製品に施された修理内容が入力される修理内容入力部１２とに接続された生産履歴情報作成部６が、記録部３に、生産履歴情報を形成する。 - 特許庁

When fine substances 8, 10 consisting of a material having refractive index contrast against a material constituting the slab type photonic crystal are arranged on positions other than a slab layer in a defect (3) area, a light confinement effect to the defective waveguide is increased by controlling the the refractive index of the defect (3) part, so that the propagation loss of the defective waveguide can be reduced.例文帳に追加

欠陥３領域内でスラブ層以外の位置にスラブ型フォトニック結晶を構成する材料に対して屈折率コントラストを有する材料からなる微小物体８，１０を設けることにより、欠陥３部分の屈折率を制御して欠陥導波路への光閉じ込め効果を増加させることで欠陥導波路の伝播損失を低減させることができるようにした。 - 特許庁

An internal defect 5 dominantly appears as difference of surface temperature because a heat quantity of heat 3 given to an inspection object 1 larger than a heat quantity of heat 7 considerably raises the surface temperature of the inspection object 1, and a heat flow generated thereby is reflected in the internal defect 5, which raises the temperature of a surface 2 of the inspection object 1.例文帳に追加

内部欠陥５が表面温度の差として顕著に表れているのは、被検査体１に対して与えられる熱３の熱量が熱７の熱量よりも大きいため、被検査体１の表面温度が大きく上昇し、これによって生じた熱流が内部欠陥５において反射することによって、被検査体１の表面２の温度を上昇させているためである。 - 特許庁

The mask pattern correction method includes the steps of: acquiring three-dimensional information of a first portion where no black defect is present in a pattern edge of a mask pattern 5 by using a scanning probe microscope; and correcting a second portion where a black defect 2 is present in the pattern edge of the mask pattern 1 based on the three-dimensional information by using the probe of the scanning probe microscope.例文帳に追加

マスクパターン修正方法は、マスクパターン５のパターンエッジに黒欠陥が存在しない第１の部分の３次元情報を走査型プローブ顕微鏡を用いて取得するステップと、前記３次元情報に基づいてマスクパターン１のパターンエッジに黒欠陥２が存在する第２の部分を前記走査型プローブ顕微鏡のプローブを用いて修正を行うステップとを含む。 - 特許庁

In this case, since the EEPROM stores defective data of the defective pixels sequentially in the order of addresses of defective pixels with a greater defective level, when defective pixels exist adjacently to each other, that is, when a plurality of defects, where defective pixel addressed of compensation objects are adjacent to each other, exist, the defect compensation processing is carried out for defective pixels having a greater defect level with priority.例文帳に追加

この場合、ＥＥＰＲＯＭには欠陥レベルの大きい欠陥画素画素アドレスから順に記憶されているので、欠陥画素が互いに近接して存在する場合、つまり補償対象の欠陥画素アドレスが互いに隣接する複数の欠陥に関しては、欠陥レベルの大きい欠陥画素に関する欠陥補償処理が優先して実行されることになる。 - 特許庁

The method comprises a first synthetic process for synthesizing the plurality of the detection brightness values to produce one detection brightness synthetic value; a second synthetic process for synthesizing the plurality of the comparison brightness values to produce one brightness synthetic value; and a defect judging process for judging the presence of the defect at the detection position on the basis of the detection brightness synthetic value and the comparison brightness synthetic value.例文帳に追加

この方法は、複数の検査用輝度値を合成して一の検査用輝度合成値を生成する第１の合成工程と、複数の比較用輝度値を合成して一の比較用輝度合成値を生成する第２の合成工程と、検査用輝度合成値と比較用輝度合成値とに基づいて、検査位置における欠陥の有無を判定する欠陥判定工程と、を備える。 - 特許庁

An elastic wave having an optional wavelength is input onto a surface of the concrete structure, and a thickness of a concrete and the internal defect are separately determined to conduct the measurement, using a fact that a generation time of a characteristic frequency generated by multi-reflection of the wave between a bottom of the concrete or the internal defect and a measuring surface is periodical or non-periodical.例文帳に追加

コンクリート構造物の表面に任意の波長を持つ弾性波を入力し、この波動がコンクリートの底面あるいは内部欠陥と測定表面との間で多重反射波することによって生じる特性周波数の発生時刻が周期的あるいは非周期的であることにより、コンクリートの厚さ及び内部欠陥を分離判別して測定する。 - 特許庁

Hereby, since self-diagnosis of an operation defect of each receiving element R2-R4 can be performed without preparing an external detection object of the ultrasonic sensor 30, transmitting an ultrasonic wave, and using a reflected wave from the detection object, the operation defect of the ultrasonic sensor 30 can be diagnosed at a desired timing, and reliability of the ultrasonic sensor 30 can be improved.例文帳に追加

これにより、超音波センサ３０の外部の被検出体を用意して超音波を送信し、被検出体からの反射波を用いることなく、受信素子Ｒ２〜Ｒ４の動作不良を自己診断することができるので、所望のタイミングで超音波センサ３０の動作不良を診断することができ、超音波センサ３０の信頼性を向上することができる。 - 特許庁

In the confirmation operation screen to confirm the determination result regarding a component determined to be defective in an automatic appearance inspection, the image list is displayed in which images of components determined to be defective are sorted in descending order of deviation of measured values from a determination standard used for detecting a defect for each defect type, and the designation of a boundary position between conforming/defective is received.例文帳に追加

自動外観検査において不良と判定された部品に関する判定結果を確認するための確認操作画面において、不良と判定された部品の画像を、不良の種毎に、その不良の検出に用いられた判定基準に対する計測値の逸脱度合いの大きいものから順に並べた画像リストを表示し、良／不良の境界位置の指定を受け付ける。 - 特許庁

Where the machining allowance S is greater than that to prevent defect from happening on the workpieces to be worked upon processing them at a providable average machining current value with a second-cut operation, the machining allowance is made smaller by dividing the second-cut operations into a plurality of steps and processing the workpieces at a providable average machining current value corresponding to such smaller machining allowance to prevent defect from happening on them.例文帳に追加

取り代Ｓがセカンドカットにおける与えられ得る平均加工電流値で加工するときに被加工物に欠損が発生しない取り代よりも大きいときは、セカンドカットを複数の加工工程に分割して取り代を小さくするとともにその取り代に対応する被加工物に欠損が発生しない与えられ得る平均加工電流値にして加工する。 - 特許庁

A surface defect inspection device includes a differential interference image acquisition part 2 containing a differential interference optical system for forming a differential interference optical image of the workpiece 1 and a photographing part for acquiring a differential interference image by photographing the differential interference optical image, and a processing part 3 for processing the differential interference image and detecting the defect on the surface of the workpiece.例文帳に追加

表面欠陥検査装置は、被検査物１の微分干渉光学像を形成する微分干渉光学系と前記微分干渉光学像を撮像して微分干渉画像を得る撮像部とを有する微分干渉画像取得部２と、前記微分干渉画像を処理して、被検査物１の表面における欠陥を検出する処理部３と、を備える。 - 特許庁

In the disk reading device reading information from a disk having a plurality of clusters for recording dividedly information and having also substitute clusters in which the information is recorded instead of the cluster in which defect exists, the disk reading device has such constitution that first processing in which bit map data where existence of defect for each cluster on the disk is displayed with a bit map form is generated is performed.例文帳に追加

情報が分割記録されるための複数のクラスタを有する一方、ディフェクトのあるクラスタに代わって前記情報が記録される代替クラスタをも有するディスクから、前記情報を読み取るディスク読取装置において、前記ディスク上の各クラスタについてのディフェクトの有無をビットマップ形式で表す、ビットマップデータを生成する、第１処理を実行する構成のディスク読取装置とする。 - 特許庁

To provide a substrate for the growth of a low defect density nitride semiconductor crystal, a nitride semiconductor laminate, and a nitride semiconductor base layer desorption substrate capable of relatively easily releasing a nitride semiconductor layer and the substrate; and to provide manufacturing methods of the substrate for the growth of a low defect density nitride semiconductor crystal, the nitride semiconductor substrate, and the nitride semiconductor base layer desorption substrate.例文帳に追加

低欠陥密度の窒化物半導体結晶成長用基体、窒化物半導体積層体、及び比較的容易に窒化物半導体層と基板とを脱離できる窒化物半導体自立基板の提供、及び低欠陥密度の窒化物半導体結晶成長用基体、窒化物半導体積層体、及び窒化物半導体自立基板の製造方法の提供。 - 特許庁

The heat treatment for compensating the oxygen defect in the Ta2O5 film is performed in an atmosphere containing N and O at low temperatures while generating nitrogen radials and oxygen radicals, by applying ultraviolet rays to rapidly end dangling bonds on the surface of the Si substrate by the generated nitrogen radicals and to compensate the oxygen defect in the Ta2O5 film by the generated oxygen radicals.例文帳に追加

前記Ｔａ_2 Ｏ_5 膜中の酸素欠損を補償する熱処理を、ＮとＯとを含む雰囲気中において、紫外光照射により窒素ラジカルと酸素ラジカルとを発生させながら低温で行い、発生した窒素ラジカルによりＳｉ基板表面のダングリングボンドを速やかに終端させ、また発生した酸素ラジカルにより、Ｔａ_2 Ｏ_5 膜中の酸素欠損を補償する。 - 特許庁

To detect a fine defect with higher sensitivity, in a surface inspection device for detecting automatically the fine defect generated on the surface by imaging by an image sensor the surface which is an inspection object irradiated with parallel light by a surface light source device, and by detecting that an image signal level is lowered from a high signal level corresponding to the normal surface.例文帳に追加

面光源装置により平行光を照射された検査対象となる表面をイメージセンサで撮像して、その画像信号レベルが、正常な表面に対応する高信号レベルから低下するのを検出して表面に生じている微小欠陥を自動的に検知するための表面検査装置において、微小欠陥をさらに高感度で検出可能にする。 - 特許庁

In the method of correcting color material having a defect part formed on a substrate of a color filter, a through-hole is formed by removing the color material so as to include the defect part of the color material and is tapered gradually from an edge side toward the substrate side, and color material for correction is impregnated into the through-hole and is cured.例文帳に追加

カラーフィルタの基材上に設けられた欠陥部を有する色材を修正するための方法であって、前記色材の欠陥部を含むようにして、一端側から前記基材側に向かって漸次先細りとなるように、前記色材を除去して貫通孔を形成し、前記貫通孔に、修正用の色材を注入して硬化させることを特徴とする。 - 特許庁

An automatic generating means for tree structure-shaped image transformation is used and is also specialized for failure and defect extraction processing of a printed matter, and a failure and defect of any unknown printed matter can be easily and accurately extracted by adding gradation images for improving extraction accuracy more and introducing an image transformation processing filter for applying comparison operation processing to the gradation images.例文帳に追加

ツリー構造状画像変換の自動生成手段を使用するとともに、これを印刷物の不良欠点抽出処理に特化し、より抽出精度を高めるための階調画像の追加及びそれらを比較演算処理するための画像変換処理フィルタの導入により、未知のどのような印刷物の不良欠点であっても、容易かつ的確に抽出できるようにする。 - 特許庁

To easily and surely detect a coating defect of an insulation film coated on an inner circumferential side face of a pipe or tubular container, without using an electrolyte requiring complicated and troublesome work, and a conductive brush or the like having the tendency that the detection of the coating defect is unsure, and having the possibility of damaging a surface of the inside of an inspection object.例文帳に追加

煩雑な作業が必要となる電解質や被覆欠陥の検知が不確実になりやすくかつ検査対象の内部の表面を損傷するおそれのある導電性ブラシなどを用いることなく、管または管状の容器の内周側面にコーティングされた絶縁膜の被覆欠陥を簡易かつ確実に検知する検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

Further, the color filter defect correcting device sticks ink on the stylus tip of the stylus for color filter defect correction, having the water-repellent part nearby the stylus tip by dipping the stylus tip in the ink, applies the ink by bringing the stylus tip into contact with the defective part of the color filter, and dips the stylus tip in cleaning liquid to clean it.例文帳に追加

また針先端の近くに撥水加工を施した部分が形成されているカラーフィルタ欠陥修正用針の前記針先端をインクに浸漬して前記針先端にインクを付着させ、カラーフィルタの欠陥箇所に前記針先端を接触することによりインクを塗布し、前記針先端を洗浄液に浸漬して洗浄するように構成したカラーフィルタ欠陥修正装置。 - 特許庁

Record of an inspection result in the preceding process is displayed on the outside development displayed for the input, and the display of the input of the outside inspection result of the defect in the own process is made different from the display of the inspection result in the preceding process such that the operator can decide whether the defect inputted in the own process is generated in the own process or in the preceding process.例文帳に追加

入力用として表示してなる外観展開図上に、前工程における検査結果の記録を表示しておき、前記オペレータが自工程で入力する欠陥について、自工程で発生したものか、前工程で発生したものかを判別できるように、自工程での欠陥の外観検査結果の入力を、前工程での検査結果の表示とは異なる表示とする。 - 特許庁

In the display device which has a pair of substrates 1 and 5 and a display medium layer intervening between the pair of substrates 1 and 5 and in which a display defect exists, at least one substrate of the pair of substrates 1 and 5 has the closed low transmittance layer 9 lowering the transmittance so that the transmittance is lower than the transmittance in the other region in a region corresponding to the display defect.例文帳に追加

一対の基板１、５と、前記一対の基板１，５間に介在する表示媒体層とを有し、表示欠点が存在する表示装置であって、前記一対の基板１，５のうち少なくとも一方の基板は、前記表示欠点に対応する領域に、他の領域での透過率よりも透過率を低下させる、密閉された低透過率層９を有する。 - 特許庁