「Defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

To efficiently inspect the whole surface of an object to be inspected by using a pulse laser and a surface detector when defects of the object are to be inspected.例文帳に追加

被検物の欠陥を検査する際に、パルスレーザと面型検出器を用いて被検物の全面を効率良く検査する。 - 特許庁

Since the single crystal particle whose particle diameter is ≤1 μm does not easily generate crystal defects of a grain boundary or the like inside, the phenomenon of lowering light emitting efficiency is suppressed by emitting absorbed energy non-radially (as heat) by the crystal defects.例文帳に追加

粒径が１μｍ以下の単結晶粒子は、内部に粒界等の結晶欠陥を発生しにくいため、吸収したエネルギーを結晶欠陥が非輻射的に（熱として）放出することにより発光効率を低下させる現象を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a deposited film formation method and a device therefor with which a satisfactory deposited film having reduced film defects and characteristic unevenness can be deposited at high speed, and further, production of image defects such as the production of black spots in image formation using an electrophotographic photoreceptor is suppressed, so that image characteristics can be improved.例文帳に追加

本発明は、膜欠陥や特性ムラの少ない良好な堆積膜を高速で成膜できるようにし、電子写真感光体を用いた画像形成における黒点の発生などの画像欠陥の発生を抑制して画像特性を向上させる。 - 特許庁

To make detectable defects in a fine pattern on a transparent layer insulating film and on the same layer with high sensitivity while detecting the defects of a lower layer pattern and the same pattern in the defocused state to detect only the defect of a process to be originally inspected.例文帳に追加

透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。 - 特許庁

To reduce pickup defects or die-bonding stage defects, by abruptly making a chip into a thin film in a pickup stage or die-bonding stage of the chip, after dicing in an assembling stage of a manufacturing stage of a semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

半導体集積回路装置の製造工程のうちの組立工程におけるダイシング後のチップのピックアップ工程またはダイ・ボンディング工程では、急速なチップの薄膜化によって、ピックアップ不良またはダイ・ボンディング工程不良の低減が重要な課題となっている。 - 特許庁

The multilayer wiring board includes a plurality of laminated wiring layers, a defects identification pattern arranged on each wiring layer, an input and an output section prepared for each defects identification pattern, and an input-output signal line evaluation pattern connected to each input section.例文帳に追加

積層された複数の配線層と、前記各配線層に配置された欠陥識別用パターンと、前記各欠陥識別用パターンに対して設けられた入力部及び出力部と、前記各入力部に接続された入出力用信号線評価パターンとを含む。 - 特許庁

To provide a method and equipment capable of detecting simply and easily surface defects appearing in steel strip being rolled and confirming information on kinds, grades and positions of the defects without cutting the defective portions after the sheet steel has been shipped in the shape of a coil.例文帳に追加

鋼板を圧延しながら鋼板に現れる表面欠陥を簡単且つ容易に検出でき、且つ欠陥部分を切断しなくてもコイルとして出荷された後で欠陥の種類とグレード及び欠陥の位置情報を確認できるようにすることにある。 - 特許庁

To provide an automatic inspecting method of crystal defects by which an automatic operation is possible to reduce the burden of an operator, and the crystal defects in the semiconductor crystal can be stably inspected with high accuracy without fluctuations in inspection results, and to provide an automatic inspecting apparatus.例文帳に追加

自動運転を可能にして作業者の負担を軽減するとともに、検査結果にバラツキが生じず高精度にかつ安定して半導体結晶の結晶欠陥を検査することができる結晶欠陥の自動検査方法及び自動検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus and method that are advantageous in that defects in a circuit pattern can be measured in a contactless manner, so that the consumption of pin probes can be reduced, and the reliability of the measurement of defects in the circuit pattern can be improved.例文帳に追加

非接触方式で回路パターンの欠陥を測定してピンプローブの消耗を減少させることができるとともに、回路パターンの欠陥測定に対する信頼性を高めることができる、回路パターンの欠陥検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

Further, it is preferably that the number of crystal defects, each having a hollow pipe form, is ≤100/cm^2 when the defects are detected by a nondestructive optical image, the volume resistance is ≥1×10^7 Ω.cm and the content of nitrogen is ≤0.01 mass ppm.例文帳に追加

非破壊で光学的に画像検出した中空パイプ状の結晶欠陥が１００個／ｃｍ^２以下である態様、体積抵抗値が１×１０^０Ω・ｃｍ以上である態様、窒素含有量が０．０１質量ｐｐｍ以下である態様などが好ましい。 - 特許庁

The discharge flows 22 of the molten steel from the discharge ports 14 are collided against a flow 21a vertical to the short sides of the mold produced by the electromagnetic force, and the reduction in the speed of the discharge flows is attained, thus the improvement effect of slab surface defects and inside defects can be stably obtained.例文帳に追加

吐出口１４からの溶鋼吐出流２２を、電磁力によって生じる鋳型短辺に垂直な流れ２１ａと衝突させ、吐出流の減速を図ることにより、鋳片表面欠陥と内部欠陥の改善効果を安定して得ることができる。 - 特許庁

To provide a polylactic acid-based film suitable for a transparent packaging film obtained by improving rolled shape and poor appearance, more particularly, to provide a film without drawbacks such as film surface transcribed defects and projection-like defects in an appearance of the product roll.例文帳に追加

本発明は、巻き姿、外観不良を改良して、透明で包装用フィルムとして好適なポリ乳酸系フィルムに関するものであり、更に詳しくは、製品ロール外観のフィルム面転写状の欠点、突起状の欠点のないフィルムを提供せんとするものである。 - 特許庁

To provide a polishing method useful for polishing a substrate containing a chalcogenide phase change alloy, and having a high removal rate of a chalcogenide phase change alloy with a selectivity advantageous for an additional material on the substrate, and low total defects and low Te residuum defects.例文帳に追加

カルコゲナイド相変化合金を含む基板の研磨に有用な、基板上の追加の材料に対して有利な選択性で、かつ低総欠陥及び低Ｔｅ残渣欠陥にて、カルコゲナイド相変化合金の高い除去速度を有する研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an economic method for manufacturing a semiconductor wafer by which defects of agglomerated intrinsic point defects rated as damaging in a semiconductor wafer composed of silicon can be avoided in a reliable and simple manner; and to provide a semiconductor wafer manufactured by the same.例文帳に追加

シリコンからなる半導体ウェハ中で有害であると分類された凝集した内因性点欠陥の欠陥を確実かつ簡単な方法で回避しうる経済的な半導体ウェハの製造方法およびその方法により製造した半導体ウェハを提供する。 - 特許庁

The optical fiber formed by drawing from the preform is exposed to deuterium (44) to attract and bond hydrogen atoms to form the molecule, by which the possibility of having the atom defects, such as the Si defects, to be a cause for increasing water absorption loss in the optical fiber is lowered.例文帳に追加

また、プリフォームから線引きした光ファイバをジュウテリウムに曝して（４４）、水素原子を引き付けて結合して分子を形成し、水吸収損失を増大させる一因となるＳｉ欠陥などの原子欠陥を光ファイバ中に有する可能性を下げる。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask blank, to which a high-level quality about defects is required, by reducing the number of high oxide defects in a size of 60 nm or more and less than 150 nm, the defect containing more oxygen than in the surrounding area in a thin film for patterning.例文帳に追加

パターン形成用薄膜中のその周囲よりも多く酸素を含有する６０ｎｍ以上１５０ｎｍ未満の大きさの高酸化物欠陥数を低減させ、高いレベルの欠陥品質を要求されるマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To deciding a sampling position of a read/write test by use of position information of defects detected by optical inspection, to test only areas near the defects detected by the optical inspection, thereby achieving efficient read/write test.例文帳に追加

光学的な検査により検出した欠陥の位置情報を用いてリード・ライトテストのサンプリング位置を決定することにより、光学的な検査により検出した欠陥の近傍領域だけをリード・ライトテストするようにして、リード・ライトテストを効率よく行えるようにする。 - 特許庁

To attain stable and high throughput correction of a deviation of coordinate systems of an inspecting device and an observing device in a wafer of the type and the step frequently inducing defects (for example, under-film defects and the like) inappropriate to calculate the observation coordinates and difficult to detect by the observing device.例文帳に追加

観察座標を算出するのに不適当な，観察装置で検出するのが困難な欠陥(例えば，膜下欠陥など)が多発する品種・工程のウェーハにおいて，安定かつ高スループットに検査装置と観察装置の座標系のずれを補正する。 - 特許庁

The device 140 for adjusting the classification calculates classification performance by comparing the defects that have been classified into the second class group with defects which should be classified into the second class group, and outputs the calculated classification performance in a predetermined display format to an output unit 180.例文帳に追加

そして、前記第二のクラス群に分類された欠陥と、第二のクラス群に分類されるべき欠陥と、を比較することにより分類性能を算出し、算出した分類性能を予め定められた表示形式にして出力部１８０に出力する。 - 特許庁

The two-dimensional photonic crystal has a slab-shaped main body 31, vacancies 32 periodically arrayed in the main body 31, a waveguide 33 formed by linearly providing defects of vacancies 32, and a resonator 34 formed by providing defects of vacancies 32 in dots.例文帳に追加

２次元フォトニック結晶２１は、スラブ状の本体３１と、本体３１に周期的に配列された空孔３２と、空孔３２の欠陥を線状に設けて成る導波路３３及び空孔３２の欠陥を点状に設けて成る共振器３４を有する。 - 特許庁

In reviewing the defects, by irradiating the primary electron beam on the testpiece in such a state that the deflection amount of the electrostatic deflector 12 is reduced than the detection time of defects, and by forming the secondary electron microscopic picture of the defect candidate of the testpiece 19, the three-dimensional SEM image is obtained.例文帳に追加

欠陥レビュー時には、静電偏向器１２の偏向量を欠陥検出時より低下させた状態で１次電子線を試料に照射して試料１９の欠陥欠陥候補の２次電子画像を形成することにより立体的なＳＥＭ像が得られる。 - 特許庁

The invention includes the method for detecting the defects on the surface of the plate which irradiates the surface of the transparent or translucent plate with a light, and detects the defects by processing an image obtained by an imager for imaging the reflection light.例文帳に追加

本発明は、透明または半透明の板状体の表面に光を照射し、その反射光を撮像装置によって撮像して得られた画像を用いて画像処理を行うことで欠陥を検出する板状体の欠陥検出方法に係るものである。 - 特許庁

(a) If, on the examination conducted in accordance with Rule 17, there are no defects that would prevent grant of the patent, or if the defects are duly overcome, the Industrial Property Registry shall grant the patent, Rule 31.2 being applicable.例文帳に追加

(a) 規則17に従って審査が行われた場合で，特許の付与を妨げる欠陥が何ら存在しないか，又は，当該欠陥が正当に補正可能な場合は，産業財産登録庁はその特許を付与すべきものとし，この場合規則31(2)が適用されるものとする。 - 特許庁

When there are defects occurring in some of cells 1-1 to 1-n or the like and electrical power cannot be generated, a current generated by other cells or strings which have no defects is caused to flow in a bypass circuit comprised of the bypass diode 2, a LED 3, and a constant current circuit 4.例文帳に追加

セル１−１〜１−ｎ等に不具合が発生して発電できなくなった場合、不具合が発生していない他のセルまたはストリングによって発電された電流は、バイパスダイオード２，ＬＥＤ３，および定電流回路４から成るバイパス回路に流れる。 - 特許庁

To provide a device for observing defects capable of analyzing the arrangement and the hierarchical relationship of a circuit pattern formed using the design information of a sample, creating a non-defective image from a defective image based on the analysis results, and detecting the defects by comparison checking.例文帳に追加

試料の設計情報を用いて形成される回路パターンの配置や上下関係などの構造を解析し、解析結果をもとに欠陥画像から良品画像を作成し、比較検査により欠陥を検出することができる欠陥観察装置を提供する。 - 特許庁

To provide a direction change device with which defects, such as groove mark defect and slip marks, caused by a sink roll can be removed while preventing the occurrence of quality defects due to the raising of dross and also to provide equipment and a method for manufacturing a hot-dip galvanized steel strip.例文帳に追加

ドロス巻上げによる品質欠陥の発生を防止しつつ、シンクロールに起因するグルーブマーク欠陥やスリップ疵等の欠陥を解消することを可能とした方向転換装置、並びに溶融亜鉛めっき鋼帯の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nondestructive defect detector for a sheet for quickly detecting the presence or absence, and the position of defects occurring in the sheet and detecting even fine defects occurring in the sheet regardless of the size and thickness of the sheet.例文帳に追加

薄板のサイズや厚さに関わらず、薄板に発生した欠陥の有無及び位置を短時間で検出することができるとともに、薄板に発生している微細な欠陥までも検出することが可能な薄板の非破壊欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for detecting defects on a surface of a plate which detects the defects in the plate, the minor irregularity in the plate and a region in which the linear irregularity extends regardless of a difference between reflection coefficients on the surface of the plate.例文帳に追加

本発明は、板状体の表面の反射率の差に関わらず、板状体の欠陥、微細な凹凸、凹凸がスジ状に伸びている箇所等を検出することができる板状体の表面の欠陥検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for removing projecting defects which is capable of removing projecting defects existing on the surface of an aluminum tube stock for production of a photoreceptor simultaneously in a water washing stage for the aluminum tube stock, eliminates a possibility of contaminating the environment and is advantageous in terms of cost.例文帳に追加

感光体を製造するためのアルミ素管の表面に存在する凸欠陥の除去を、アルミ素管の水系洗浄工程において同時に行うことが可能であり、環境を汚染する虞もないコスト面で有利な凸欠陥除去方法を提供する。 - 特許庁

A TFT array inspection apparatus 1 detects TFT defects on the basis of detected waveforms acquired by two-dimensionally scanning electron rays over TFT arrays and is provided with a defect-type classification part 6 for classifying the types of TFT defects.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ検査装置１は、電子線をＴＦＴアレイ上で二次元的に走査して得られる検出波形に基づいてＴＦＴ欠陥を検出するＴＦＴアレイ検査装置であり、ＴＦＴの欠陥の種類を分類する欠陥種類分類部６を備える。 - 特許庁

To provide an inspection system by which investigation or the like of the causes of defects of a semiconductor sample can be easily performed by making the work for observing defects detected by a SEM (scanning electron microscope)-aided appearance inspection apparatus is surely performable with the use of a review apparatus with high definition.例文帳に追加

ＳＥＭ式外観検査装置で検出した欠陥をレビュー装置で高分解能観察する作業を容易、且つ確実に行えるようにし、半導体試料の欠陥に対する原因究明等が容易に行える検査システムを提供する。 - 特許庁

To provide a polymer excellent in solubility in a resist solvent, to provide a resist composition capable of forming a resist pattern having few defects and a small line edge roughness and to provide a production process capable of producing a substrate having formed thereon a highly accurate fine pattern with few defects.例文帳に追加

レジスト用溶媒への溶解性に優れた重合体；ディフェクトが少なく、ラインエッジラフネスが小さいレジストパターンを形成できるレジスト組成物；および、欠陥の少ない高精度の微細なパターンが形成された基板を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

In this method of manufacturing an epitaxial wafer, an epitaxial film is formed on a single-crystal substrate, in which grown-in defects are plate- like or rod-like and the density of the defects existing on the surface, which are 0.12 μm or greater in length on a (100) plane is 0.3/cm2 or smaller.例文帳に追加

グロウンイン欠陥が板状または棒状であり、さらに表面に存在する該欠陥の（１００）面での長さが0.12μm以上であるものの存在密度が、0.3個／cm^２以下である単結晶基板上にエピタキシャル膜を形成させるエピタキシャルウェーハの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for determining the clearing of yarn defects so as to catch the change of state of residual defects accompanying the change of setting of a clearing limit more exactly by a visual sense so as to shorten time required for setting work of the clearing limit and to contribute the decrease of production cost.例文帳に追加

クリアリングリミットの設定変更に伴う残存欠点の状況変化を、視覚により的確に捉えることができるようにし、したがってクリアリングリミットの設定作業に要する時間の短縮化を図り、織物の製造コストの低減化に寄与する。 - 特許庁

The wall thickness of the part 14 and the remaining sections 22 of the thick-wall section 3 can be formed into equivalent to those of other sections in general to prevent the generation of defects such as sink marks, deformation and the like respectively and also prevent the defects for the whole of the thick-wall section 3.例文帳に追加

厚肉部３の分割体の一部14及び残部22の肉厚は、それぞれ他の一般部の肉厚と同等とすることができるため、それぞれヒケや変形などの不具合の発生を防止でき、厚肉部３全体としても不具合を防止することができる。 - 特許庁

To provide a polymer-free colored photosensitive composition for correction of minute colored pattern defects having properties required to correct minute colored pattern defects in a well-balanced state.例文帳に追加

本発明は、微小着色パターン欠陥の修正に必要な特性をバランスよく具備する微小着色パターン欠陥の修正用着色感光性組成物であって、ポリマーを含有しない修正用着色感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a test data processing apparatus and a test data processing method for simply determining defects of foreign matter deposited on a surface using a conventional test method and to process data so as not to treat the foreign matter deposited on the surface as defects.例文帳に追加

本発明の目的は、従来の検査方法を用いて、簡単に表面付着異物の欠点を判定し、表面付着異物は欠点として扱わないようにデータ処理する検査データ処理装置及び検査データ処理方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide paper suppressed in developing foreign matter defects due to fine fiber yield drop, developing aggregates due to fine fiber yield rise, and developing foreign matter defects due to residual ink aggregation, even if used pulp rich in such fine fibers, such as waste paper.例文帳に追加

古紙などの微細繊維を多く含むパルプを使用しても、微細繊維の歩留りの低下による異物欠陥の発生や、歩留り向上による凝集塊の発生および残インキの凝集に起因する異物欠陥の発生を抑制した紙を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing recording medium capable of decreasing the shape defects of a recording medium and an apparatus for manufacturing the same, a taking up method of the recording medium capable of taking up the recording medium by decreasing the shape defects and an apparatus for taking up the same.例文帳に追加

記録媒体の形状不良を軽減させることができる記録媒体の製造方法及び製造装置、形状不良を軽減させて記録媒体を巻き取ることができる記録媒体の巻き取り方法及び巻き取り装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor substrate capable of reducing interlayer short-circuit defects in a capacitor, and to provide a display device with the thin film transistor substrate.例文帳に追加

キャパシタの層間ショート欠陥を低減することが可能な薄膜トランジスタ基板およびこれを備えた表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible printed board capable of sufficiently suppressing defects in a process, and a film board.例文帳に追加

工程内での不具合の抑制を充分に行うことができるフレキシブルプリント基板の製造方法及びフィルム基板を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus for inspecting solar batteries, which allows a user to readily grasp the location and the type of defects of photovoltaic cells.例文帳に追加

太陽電池セルの欠陥の位置及びその種類をユーザが容易に把握することが可能な太陽電池の検査装置を提供する。 - 特許庁

To reduce film thickness after wet development by a relatively large value and to form a resist pattern free from development defects.例文帳に追加

湿式現像後の膜減り量を比較的大きな値に保持して現像欠陥のないレジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for automatically inspecting a phosphor filter such as that for a PDP or an FED for defects and unevenness or the like prior to its assembly into an apparatus.例文帳に追加

ＰＤＰ、ＦＥＤ等用の蛍光体フィルターを装置に組み込む前にその欠陥、むら等を自動的に検査する方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metal mold member, which has a less minute undulation Wa and regulates generation of defects in a micropattern.例文帳に追加

微小うねりＷａが小さく、微細パターンの欠陥の発生を抑えることが可能な金型部材の製造方法を提供する。 - 特許庁