「Defects」に関連した英語例文の一覧と使い方(83ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a mold in which projecting defects existing on the surface of a protective film can be removed and scratches will not be produced on the surface of the protective film.例文帳に追加

保護膜の表面に存在する凸欠陥を除去することができ、保護膜の表面にスクラッチを生じることのない成形用金型を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processor which can suppress an in-film defects, peeling of a film and in-film particles, and can easily manufacture a product of large area.例文帳に追加

膜中欠陥、膜の剥がれおよび膜中パーティクルを抑制でき、かつ大面積の製品を容易に製造できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a new hairdye composition having excellent hair dyeing property and colorfastness of dyed hair by eliminating the defects of conventional oxidation hairdye composition.例文帳に追加

従来の酸化染毛剤組成物の欠点を改良して、染毛処理後の毛髪の染毛性及び色持ちに優れた新規の染毛剤組成物を提供する。 - 特許庁

To decrease the occurrence of defects in a welded metal part after sealing a casting hole due to a solidification crack, a reheat crack, or a cavity at the central part of welded metal.例文帳に追加

鋳孔の封止後の溶着金属部に、凝固割れや再熱割れの欠陥と溶接金属中心部のひけ巣による欠陥の発生を低減する。 - 特許庁

To provide a method for producing an ingot where the generation of casting defects can be suppressed, and a sound, large-sized ingot can be produced.例文帳に追加

鋳造欠陥の発生を抑制でき、健全な大型の鋳塊を製造することができる鋳塊の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a fixing method for brazing fins on a plate substrate to prevent the corrugated fin and solder from being displaced, and wrong brazing defects or the like from occurring.例文帳に追加

コルゲートフィン及びろう材の位置ずれを防止でき、ろう付け不良の発生等を防止できるプレート基板におけるフィンのろう付け固定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a color filter with which orientation defects caused by ruggedness formed by a coloring layer and a black matrix layer can be suppressed.例文帳に追加

着色層およびブラックマトリクス層によって形成される凹凸によって生ずる配向不良が収まりできるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing an electric resistance welded tube having good weld zone characteristics by which discharge of defects such as oxides resulting from discharge of molten steel can be sufficiently promoted.例文帳に追加

溶鋼排出に伴う酸化物等の欠陥排出を十分促進できる、溶接部特性の良好な電縫管の製造方法を提供する。 - 特許庁

It was judged that reliable HIME(R) specifications were not officially obtained as of September 2002 due to defects and vagueness in the specifications. 例文帳に追加

HIME(R)にはその仕様書に不備・曖昧さがあり、2002 年 9 月時点で信頼に足るHIME(R)の仕様書が公に手に入る状況になっていないと判断された。 - 経済産業省

For example, only 46.9% of SMEs clarify in writing the sharing of responsibility for defects that may arise, and only 39.4% clarify the responsibility for delivery costs (Fig.3-2-20).例文帳に追加

例えば、瑕疵が発生した場合の責任分担を書面で明確化している中小企業は46.9％、配送費の負担については39.4％である（第3-2-20図）。 - 経済産業省

To provide a positive type resist composition which ensures improved edge roughness of a pattern, solves the problem of development defects and gives excellent resist pattern profile.例文帳に追加

パターンのエッジラフネスが改良され、現像欠陥の問題も改善された、優れたレジストパターンプロファイルが得られるポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To prevent conductive connection defects from occurring if the distance between connection terminals is increased to some extent by a temperature change, etc., in a use environment.例文帳に追加

使用環境の温度変化等により、相対向する接続端子間の間隔がある程度大きくなっても、導電接続不良が発生しないようにする。 - 特許庁

2. When a man humbleth himself for his defects, he then easily pacifieth others and quickly satisfieth those that are angered against him. 例文帳に追加

人が自分の欠点のために謙虚な気持ちを持つとき、彼の周りにいる人の怒りをたやすく静め、そして彼に腹を立てた人をすぐになだめます。 - Thomas a Kempis『キリストにならいて』

To satisfy the optimum conditions for toner particle diameter distribution, to prevent the occurrence of initial image defects such as fog and cleaning defects, to suppress the increase of particle diameter due to toner selection phenomenon even in a life test of continuous printing and to eliminate problem such as the rise of image density.例文帳に追加

トナー粒径分布に関しての最適条件を満足し、かぶりやクリーニング不良などの初期的な画像不良を生じることがなく、連続印字のライフテストにおいても、トナー選択現象による粒径の増大化を抑制し、画像濃度の上昇などの不具合がない非磁性一成分カラートナーを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device attaining pattern inspection of high sensitivity by reducing an effect of brightness irregularity caused by the difference of film thickness, and applicable to a wide range of processes by actualizing various defects regarding the pattern inspection device comparing images in the corresponding areas of two patterns formed to be the same pattern and determining incoincident parts of the images as defects.例文帳に追加

本発明では、同一パターンとなるように形成された２つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、膜厚の違いなどから生じるパターンの明るさむらの影響を低減して、高感度なパターン検査を実現する。 - 特許庁

To provide a method for continuously casting a steel slab, which can use high viscosity powder and can obtain a casting having excellent quality in which generation of surface defects and internal defects in the casting has been prevented, and further oscillation of the molding, which was indispensable until now, can be dispensed with in some cases.例文帳に追加

鋼スラブの連続鋳造において、高粘性パウダーの使用を可能とするとともに、鋳片の表面欠陥及び内部欠陥などの発生を防止した優れた品質の鋳片を得ることができ、しかも場合によっては従来必須とされていた鋳型のオシレーションを不要とするスラブ連続鋳造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a tandem-type color image forming apparatus where in the vibration amplification of a cleaning blade due to resonance, that is intrinsic to the tandem type color image forming apparatus that uses a plurality of the same-shaped photoreceptors, is effectively suppressed, consequently the image defects due to cleaning defects are reduced, and to provide a color image forming method that uses the tandem-type color forming apparatus.例文帳に追加

同型の感光体を複数用いるタンデム型カラー画像形成装置に特有の、共振によるクリーニングブレードの振動の増幅を有効に抑え、結果としてクリーニング不良による画像欠陥発生を低く抑えたタンデム型カラー画像形成装置と、それを用いるカラー画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To make a liquid crystal device small-sized, to make easily perform operations in a process of positioning a FPC (flexible print circuit board) during manufacture of the liquid crystal device without using any tool, to prevent defects of display due to defects in positioning, and to improve the yield of the manufacture and the reliability of a product and also to reduce the cost.例文帳に追加

液晶装置を小型化するとともに、液晶装置の製造の際のＦＰＣの位置決めの工程に於ける作業を治具を使用せずに容易にするとともに、当該位置合わせの不良に起因する表示の不良を防止し、製造の歩留り及び製品の信頼性を向上することとともにコストダウンを目的とする。 - 特許庁

To shorten the time required for imaging by devising illumination conditions and processing one color image, eliminate the need for previously registering images of normal parts, detect defects in the surfaces of parts, more specifically, objects, and determine defects in parts without being affected by marks of the parts.例文帳に追加

本発明は，照明条件を工夫して１枚のカラー画像を処理することによって撮像時間を短くし，予め正常な部品の画像を登録する必要がなく，部品即ち対象物の表面の欠陥を検出することができ，部品マークの影響を受けずに部品の欠陥を判別できる。 - 特許庁

This method of processing a thin plate cut out from a nearly cylindrical or prismatic block, and when defects occur in the outer periphery or surface of the thin plate in the process, the thin plate having defects on its surface or periphery is processed into a product in a smaller size and a smaller thickness than the initial target product standards.例文帳に追加

略円筒状または角柱状の塊状物から切り出された薄板を加工する方法であって、加工工程において前記薄板の外周部もしくは表層に不良が生じた薄板を、初期に目的とした製品規格より小さい大きさで厚さの薄い規格の製品に加工する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of preventing faulty charge and occurrence of image defects due to burying of conductive fine particles in a toner surface or toner fusion to conductive fine particles, and faulty charge and occurrence of image defects due to burying of conductive fine particles in a photoreceptor surface.例文帳に追加

導電性微粒子がトナー表面に埋設する、あるいは導電性微粒子にトナーが融着することによる帯電不良、画像不良や、導電性微粒子が感光体表面に埋設することによる帯電不良、画像不良を防止できる画像形成装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To eliminate defects in shape and defects in dimensional accuracy due to the waving and spring back caused on the vertical wall surface of a frame part when manufacturing the frame part, which is the frame part having a hat type cross-sectional shape and curved in the longitudinal direction, by press forming, though these problems are not solved in the rage of conventional technique.例文帳に追加

本発明は、従来技術の範囲では解決できない、ハット型断面形状のフレーム部品で長手方向に湾曲するフレーム部品をプレス成形において製造するときに、該フレーム部品の縦壁面に発生するうねりやスプリングバックによる形状不良、寸法精度不良を解消することを課題とする。 - 特許庁

A top surface 2C of the ampoule 2 is imaged by irregular reflection due to defects such as an air bubble 14 or a horn formed on the top surface based on horizontal irradiation light 9 irradiated to the top surface 2C by the image processing device 7, and a picked-up image about the defects formed on the top surface 2C by the image processing device 1.例文帳に追加

撮像処理装置７によって、天面２Ｃに照射された水平照射光９に基く天面に形成された気泡１４又はツノ等の欠陥による乱反射光によってアンプル２の天面２Ｃを撮像し、画像処理装置１によって天面２Ｃに形成された欠陥についての撮像画像を形成する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition which can suppress planar shape degradation due to coating and can form a colored film with few defects, to provide a colored pattern having an excellent plane shape and few defects by using the colored curable composition, and to provide a color filter, a manufacturing method of the color filter, and a liquid crystal display element.例文帳に追加

塗布に起因する面状劣化を抑制し、且つ、欠陥の少ない着色膜を形成し得る着色硬化性組成物、該着色硬化性組成物を用いてなる、面状が良好で、且つ、欠陥の少ない着色パターン、カラーフィルタ、該カラーフィルタの製造方法、液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electrode structure which can be formed accurately and simply, without defects in a fine concavo-convex structure of the electrode structure, even when sputtering is applied to the structure, and to provide a solar cell which is without defects, and which has fine concavo-convex structures formed in the electrode structure.例文帳に追加

スパッタリングを利用した場合でも、電極構造体に、微細な凹凸構造を欠点なく正確に、かつ簡便に形成することのできる電極構造体の製造方法、ならびに電極構造体に欠点のない微細な凹凸構造が正確に形成されてなる太陽電池を提供する。 - 特許庁

An electronic microscope 5, for observing defects detected by an optical defect inspection apparatus or an optical visual inspection apparatus, is configured in such a manner that an optical microscope 14 for redetecting defects is mounted thereupon and that a distribution polarization element and a spatial filter are inserted in its pupil surface, when the optical microscope 14 is used to observe dark field.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 - 特許庁

To provide a welding method which does not cause defects of the formation of a recess at an abutting surface when the abutting surface is subjected to high frequency induction welding by butting the end faces of a plurality of thermoplastic resin plates and the defects of warpage when the welded part of the abutting surface shrinks after high-frequency induction welding.例文帳に追加

複数の熱可塑性樹脂板の端面を突合せて、突合せ面を高周波誘電溶着した場合に、突合せ面に凹みが出来てしまうという欠点や、高周波誘電溶着後に、突合せ面の溶着部分が収縮する際に反りが生じるという欠点が生じない溶着方法を提供する。 - 特許庁

A simulation image of a pattern including the defects, and a simulation image of a pattern not including the defects are generated at first based on the plurality of imaging conditions, then, a difference signal between both in each of the plurality of imaging conditions is calculated, and the difference signal is displayed at last on a display in each of the plurality of imaging conditions.例文帳に追加

先ず、複数の撮像条件に基づいて、欠陥を含むパターンのシミュレーション画像と欠陥を含まないパターンのシミュレーション画像を生成し、次に、複数の撮像条件毎に両者の差分信号を計算し、最後に、複数の撮像条件毎に差分信号を表示装置に表示する。 - 特許庁

To provide a polishing method of a semiconductor substrate which can be obtained with high yield by optimizing a center line average roughness on a polishing pad surface for CMP and processing pressure at the time of polishing, reducing the total number of defects on the semiconductor substrate surface after polishing, and also reducing the ratio of scratches in the defects.例文帳に追加

ＣＭＰ用研磨パッド表面の中心線平均表面粗さおよび研磨時の加工圧力を適正化し、半導体基板表面の研磨後の総欠陥数を減らしかつ欠陥に占めるスクラッチの割合を低減して、高い歩留まりを得ることが可能な半導体基板の研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a seamless belt preventing defects occurring on a surface (surface defects) such as a bumpy surface or cracked patterns and with good detachability made of smooth and homogeneous film state polyimide or polyamidoimide with uniform dispersion of inorganic filler and no residual air bubbles, in the seamless belt for electrophotography.例文帳に追加

電子写真装置用シームレスベルトにおいて、ゆず肌・亀甲模様など、表面に生ずる欠陥（表面性欠陥）を防止すると同時に、無機充填剤の分散が均一でかつ気泡の残存のない平滑で均質な膜状態のポリイミドまたはポリアミドイミド製で剥離性のよいシームレスベルトを提供する。 - 特許庁

This method for producing the wafers includes a BMD forming process for forming inner micro-defects (BMD) at the inside by subjecting a silicon single crystal in an ingot state to heat treatment and a wafer processing process for processing the ingot in which the inner micro-defects (BMD) are formed into wafers.例文帳に追加

ウエーハの製造方法であって、少なくとも、インゴット状態のシリコン単結晶に熱処理を行ない内部に内部微小欠陥（ＢＭＤ）を形成するＢＭＤ形成工程と、前記内部微小欠陥（ＢＭＤ）を形成したインゴットをウエーハに加工するウエーハ加工工程を有するウエーハの製造方法。 - 特許庁

At normal photographing, the ASIC 3 conducts processing for correction of pixel defects numbering about 30 pixels, but at imaging with a long exposure time or with improved photographing sensitivity, the ASIC 3 conducts processing of the correction of pixel defects numbering about 512 pixels.例文帳に追加

ＡＳＩＣ３は、通常撮影時には、３０個の画素を対象として画素欠陥補正処理を行なうのに対し、露光時間が長時間に設定されて撮影が行なわれた場合や撮影感度を向上させて撮影が行なわれた場合には、５１２個の画素を対象として画素欠陥補正処理を行なう。 - 特許庁

At least 1×1011/L micropores having diameters or widths of at most 1,000 times the diameter of a catalyst component to be carried are formed on the surface of a cordierite honeycomb structure by forming oxygen defects or lattice defects in cordierite crystal lattices or by forming therein minute cracks by thermally impacting.例文帳に追加

コーディエライト結晶格子中に酸素欠陥または格子欠陥を形成し、あるいは熱衝撃を与えて微細なクラックを形成することにより、コーディエライトハニカム構造体表面に、担持する触媒成分の直径の１０００倍以下の直径または幅の細孔を、１×１０^11／Ｌ以上形成する。 - 特許庁

To provide a raw material for polymerization in a mold preventing optical deviation defects and surface concave defects of irregular shape due to inhomogeneous polymerization, causing little coloring in a molded item obtained by polymerizing and curing a polymerizable component such as methyl methacrylate or the like and showing excellent storage stability.例文帳に追加

メタクリル酸メチル等の重合成分を鋳型内で重合硬化して得られる成形品において、重合不均一に起因する光学歪み欠陥や、不規則な形状の表面窪み欠陥を防止するとともに、得られる成形品の着色が少なく、且つ、貯蔵安定性にも優れた鋳型重合用原料を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic circuit device which does not contain solder defects and whose reliability is high by a method, where a solder joint shape is detected by a nondestructive inspection method and the solder unmelted defects of a solder bonded part is detected in the electronic circuit device, in which an electronic component and a circuit board are soldered and jointed by facing electrodes.例文帳に追加

電子部品と回路基板が対向する電極ではんだ接合する電子回路装置において、非破壊検査方法で、はんだ接合形状を検出しはんだ接合部のはんだ未溶融不良を検出しはんだ接合不良のない信頼性の高い電子回路装置を提供する。 - 特許庁

This scanning electron microscope is provided with the function of computing corrected precision after coordinates compensation to be displayed by using a vector 39, the function of automatically determining scale factor during search in automatic detection of foreign materials/defects after coordinates compensation from acquired information, and the function of computing appearance ratio of foreign materials/defects and time required from search scale factor and measuring conditions.例文帳に追加

座標補正後の補正精度を算出し、ベクトル３９を用いて表示する機能、得られた情報から座標補正後異物／欠陥を自動検出する際の探索時の倍率を自動で決定する機能、また探索倍率と測定条件から異物／欠陥の出現率とかかる時間を算出する機能を設けた。 - 特許庁

The defect detection method of matrix structure 100 which has structure of grid-like crossing a plurality of gate lines 4a, 4b, 4c and 4d arranged in X-axis direction and a plurality of data lines 3a and 3b arranged in Y-axis direction, which detects point-like defects 11 as linear defects.例文帳に追加

Ｘ軸方向に配置された複数のゲート線４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄと、Ｙ軸方向に配置された複数のデータ線３ａ，３ｂとが格子状に交差している構造を有してなるマトリクス構造１００の欠陥検出方法であって、点状欠陥１１を線状の欠陥にして検出することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting a semiconductor, that can measure and evaluate micro roughness, crystal defects, and surface foreign objects by separating influences given by each to the others in the method for measuring either of the micro roughness, crystal defects, and surface foreign objects near the crystal surface.例文帳に追加

本発明は、結晶表面近傍のマイクロラフネス、結晶欠陥、表面異物のいずれかを計測する計測方法において、それぞれが他の計測に与える影響を分離したマイクロラフネス、結晶欠陥、表面異物の計測、評価が可能である半導体検査方法と装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the recess-like defects 32 exist on the surfaces of the obverse substrate 21 and the reverse substrate 22, reflected lights thereof are emitted upwards from the surface of the obverse substrate 21, and the reflected lights are visually observed to detect the recess-like defects 32 existing on the surfaces of the obverse substrate 21 and the reverse substrate 22.例文帳に追加

表基板２１および裏基板２２の表面に凹状の欠陥３２が存在する場合には、その反射光が、表基板２１の表面から上方に出射されるために、その反射光を目視することによって、表基板２１および裏基板２２の表面に存在する凹状の欠陥３２を検出することができる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device and an image display device which hardly cause contrast degradation due to a change in visual angle, reversal in gradation and black and white, a change in hue, etc., and is free of bright spot defects by using an antiglare and antireflection film which is free of the bright spot (foreign substance) defects and has excellent flawing resistance and durability.例文帳に追加

輝点（異物）欠陥がなく、耐傷特性、耐久性にも優れた防眩性反射防止フイルムを用いて、視角変化によるコントラスト低下、階調または黒白反転、および色相変化等がほとんど発生することがなく、輝点欠陥のない液晶表示装置及び画像表示装置を提供する。 - 特許庁

A device for reproducing magnetic recordings, which includes a means for controlling the device to suppress reproduction signals for coping with the defects of picture signals by using detection signals output from a detector which detects the defects, for special reproduction to reproduce recordings by sending a magnetic tape at high speed. 例文帳に追加

磁気記録再生装置において磁気テープを高速送りしながら再生する特殊再生時に、映像信号部分の欠落区間を検出する検出器の検出出力により、前記欠落区間には再生信号を抑制する方向に制御する手段を有したことを特徴とする磁気記録再生装置。 - 特許庁

4. Upon conclusion of the term for overcoming defects or for filing submissions the Industrial Property Registry shall proceed as indicated in Rule 43, without giving rise to a new notification as to continuance of the defects or circumstances mentioned in Rule 42.3, subject to the provisions of the last paragraph of Rule 22.例文帳に追加

(4) その欠陥を補正するか又は分割出願を提出するための当該期間満了をもって，産業財産登録庁は，規則43に指定された手続処理を進めるものとし，規則42(3)で述べた欠陥の補正又は分割出願についての新たな通知は出さず，規則22の最後のパラグラフの規定に従うものとする。 - 特許庁

(4) Should an international application fail to satisfy one of the requirements examined, the Spanish Patent and Trademark Office shall notify the defects to the applicant and request him to correct them within the period established by regulation. If the defects are not corrected, the matter shall be settled by withdrawing the application.例文帳に追加

(4) 国際出願が審査された要件の1を充足しない場合は，スペイン特許商標庁はその瑕疵を出願人に通知して，規則により定められる期間内に訂正することを出願人に要請するものとする。当該瑕疵が訂正されない場合は，当該出願の取下としてこの事項が解決される。 - 特許庁

An interpolation method calculating part 64 decides an interpolation method for image defects on the basis of a shape formed in such a manner that a plurality of pixels for generating pixel defects adjoin one another among pixels constituting an image that is represented by data stored in an image memory 46 and picked up by the image pickup element.例文帳に追加

補間方法算出部６４は、画像メモリ４６に格納されているデータで表されている画像であって撮像素子によって撮像される画像を構成する画素のうち画素欠陥の生じる複数の画素が隣接して形成している形状に基づいて、当該画素欠陥の補正方法を決定する。 - 特許庁

In dry etching for patternizing a silicon nitride 12 and silicon oxide film 11 by using a resist pattern 13, introduction defects at the time of growth in a silicon substrate 10, which cause conical pattern defects, are removed by digging the surface part of the groove formation region of the silicon substrate 10 at overetching.例文帳に追加

シリコン窒化膜１２及びシリコン酸化膜１１をパターン化するためのレジストパターン１３を用いたドライエッチングにおいて、オーバーエッチング時にシリコン基板１０における分離用溝形成領域の表面部を掘り下げることにより、円錐状パターン欠陥の原因となるシリコン基板１０中の成長時導入欠陥を除去する。 - 特許庁