「First steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The method comprises steps for establishing a counting index corresponding to a first packet when receiving a first ACK signal corresponding to the first packet, and transmitting a local ACK signal to an ARQ transmitter when the counting index becomes a specified maximum value.例文帳に追加

方法は、第一パケットに対応する第一ＡＣＫ信号が受信されると、第一パケットに対応する計数指標を確立し、上記計数指標が所定最大値になると、ローカルＡＣＫ信号をＡＲＱ送信端に送信するステップからなる。 - 特許庁

A method of manufacturing a structure having a nitride semiconductor comprises the steps of: forming a first semiconductor layer composed of a group III nitride semiconductor containing In; and forming a second semiconductor layer composed of a group III nitride semiconductor having a lower In composition than the first semiconductor layer on the first semiconductor layer.例文帳に追加

Ｉｎを含むIII族窒化物半導体からなる第１の半導体層を形成する工程と、第１の半導体層の上に、第１の半導体層よりもＩｎ組成が低いIII族窒化物半導体からなる第２の半導体層を形成する工程を有する。 - 特許庁

The method comprises steps for defining a geographical position of a base station by a first coordinate value and a second coordinate value, modifying the first coordinate value based on the second coordinate value, and generating an identifier based on at least the modified first coordinate value.例文帳に追加

本方法は、第１の座標値および第２の座標値により基地局の地理的位置を定義すること、第２の座標値に基づいて第１の座標値を修正すること、および少なくとも修正された第１の座標値に基づいて識別子を生成することを含む。 - 特許庁

The production method of the catalyst layer includes, at the least, the steps of forming a first layer including a catalyst precursor on a substrate by a vapor phase process; forming cracks in the first layer; and reducing the first layer having the cracks formed therein.例文帳に追加

基材に、触媒前駆体からなる第１の層を気相法により形成する工程と、前記第１の層にクラックを形成する工程と、前記クラックが形成された第１の層を還元する工程と、を少なくとも有する触媒層の製造方法。 - 特許庁

The method includes steps of: defining a first region and a second region in one mask; designing the mask region for a first panel in the first region of the mask; and designing the mask region for a second panel in the second region of the mask.例文帳に追加

一つのマスクを第１領域と第２領域とに定義する段階と、前記マスクの第１領域に第１パネル用マスク領域を設計する段階と、前記マスクの第２領域に第２パネル用マスク領域を設計する段階とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method includes steps of: performing a first print pass to print a first data point on a medium using a first set of inkjet nozzles; and performing a second print pass to print the second data point on the medium with a second set of inkjet nozzles.例文帳に追加

開示され方法は、第１のプリントパスを実行し、第１のセットのインクジェットノズルを用いて媒体上の第１のデータポイントを印刷する段階と、第２のプリントパスを実行し、第２のセットのインクジェットノズルを用いて媒体上の第２のデータポイントを印刷する段階と、を含む。 - 特許庁

The method comprises the steps of: acquiring first and second images from the device, the first and second images having overlapping portions; and estimating the overlapping portions to obtain an approximate shift amount to align approximately the first and second images.例文帳に追加

方法は、デバイスの第一および第二画像を撮像するステップであって、該第一および第二画像はオーバーラップする部分を有する、撮像するステップと、オーバーラップする部分を予測して、第一および第二画像を近似的に整列するためのおおよそのシフト量を得るステップと、を含む。 - 特許庁

The method for producing the thickener granule includes steps of: obtaining a first granule by spraying a binder solution on a first raw material including a polysaccharide thickener; and coating the first granule with ≥85 mass% of dextrin for 100 mass% of the polysaccharide thickener.例文帳に追加

本発明の増粘剤造粒物の製造方法は、増粘多糖類を含有する１次原料にバインダー液を噴霧して１次造粒物を得る工程と、前記１次造粒物に前記増粘多糖類１００質量部に対して８５質量部以上のデキストリンを被覆する工程とを有する。 - 特許庁

The power supply controller for the vehicle includes: a first battery 4 for driving the driving motor 1 for the vehicle, and a first voltage step-down circuit 5 which is connected between auxiliary machines mounted on the vehicle, steps down the voltage of the first battery 4 and outputs the voltage.例文帳に追加

車両の駆動用モータ１を駆動する第１バッテリ４、及び車両に搭載された補機類の間に接続され、第１バッテリ４側の電圧を降圧して出力する第１降圧回路５を備える車両用電源制御装置。 - 特許庁

A first calculation unit 1c refers to step names of respective steps included in a first flow chart 2a and in a second flow chart 2b that are accepted by an input reception unit 1a, and calculating a similarity between each step name of the first flow chart 2a and each step name of the second flow chart 2b.例文帳に追加

第１の算出部１ｃは、入力受付部１ａが受け付けた第１のフロー図２ａと第２のフロー図２ｂとがそれぞれ有するステップのステップ名を参照し、第１のフロー図２ａのステップ名と、第２のフロー図２ｂのステップ名との名前の類似度を算出する。 - 特許庁

To prevent a machined hole near a mouth that has been finished in a first hole-machining step from being damaged, and machining precision and machining quality from being spoiled, when machining a prepared hole that has been formed in a material to be ground, in the first and a second hole-machining steps with use of first and second reamers.例文帳に追加

第１、第２のリーマを用いた第１、第２の穴加工工程によって被削材に形成された下穴の穴加工を行う場合に、第１の穴加工工程において仕上げられた口元部分の加工穴が傷付けられて加工精度や加工品位が損なわれるのを防ぐ。 - 特許庁

The chip molding 20 is formed by steps that a first chip material and a second chip material are mixed, a mixed material in which first chip pieces 24 and second chip pieces 26 are dispersed uniformly is packed, and at the same time, the first and the second chip pieces are combined by an adhesive to be integrated.例文帳に追加

本発明のチップ成形体２０は、第１のチップ材と第２のチップ材とが混合されて第１のチップ片２４と第２のチップ片２６とが均一に分散している混合材料が押し固められると共に、第１及び第２のチップ片が接着剤で結合されて一体化したチップ成形体である。 - 特許庁

In an embodiment, the method of language instruction is provided which includes the steps of: presenting a first description of an event responsive to a first perspective; and presenting a second description of the event responsive to a second perspective, wherein the first description of the event and the second description of the event are in a common language.例文帳に追加

一実施形態において、第１の視点に対応するイベントの第１の記述を提示するステップと、第２の視点に対応するイベントの第２の記述を提示するステップとを含み、イベントの第１の記述とイベントの第２の記述とが共通の言語である言語教育方法を提供する。 - 特許庁

On the basis of the first D range and the second D range, it is then discriminated whether the first D range is appropriate (step S12); and if the first D range is discriminated as being inappropriate, a warning is issued to call reselection of the D range (steps S14, S16).例文帳に追加

そして、第１のＤレンジと第２のＤレンジとに基づいて第１のＤレンジが適切か否かを判別し（ステップＳ１２）、不適切と判別されると、警告を発生してＤレンジの再選択を促す（ステップＳ１４、Ｓ１６）。 - 特許庁

A DC/DC converter 22, with an input end connected to a first input terminal 211, steps down a DC input voltage Vin which is supplied through the first input terminal 211, and supplies a DC voltage V1, that has been stepped down, to a first output terminal 251.例文帳に追加

ＤＣ／ＤＣコンバータ２２は、入力端が第１の入力端子２１１に接続され、第１の入力端子２１１を介して供給される直流入力電圧Ｖｉｎを降圧し、降圧された直流電圧Ｖ１を、第１の出力端子２５１に供給する。 - 特許庁

At least one circuit cell 16A positioned close to at least an edge in the first chip side in the plurality of circuit cells 16A is arranged in steps in a direction separated from the first chip side closer to the edge from the center in the first chip side.例文帳に追加

複数の回路セル（１６Ａ）のうち、第１のチップ辺における少なくとも端部近傍に位置する一以上の回路セル（１６Ａ）は、第１のチップ辺における中央部から端部へ近付くにつれて第１のチップ辺から離れる方向へ階段状にずれるように配置されている。 - 特許庁

The ink-jet printing method includes the steps of: forming a first printed layer 2a on a print medium 1 by ink-jet printing; forming a fixation layer 3a, which has the ink fixability more excellent than that of the first printed layer, on the first printed layer 2a; and forming a printed layer 2b on the fixation layer 3a by ink-jet printing.例文帳に追加

印字媒体１上に第１の印字層２ａをインクジェット印字によって形成する工程と、印字層２ａの上に、これよりもインクの被定着性に優れた定着層３ａを形成する工程と、定着層３ａ上に印字層２ｂをインクジェット印字によって設ける工程とを有する。 - 特許庁

The process of arranging the mold segments includes the steps of arranging a first pair of the mold segments facing to each other, mounting a second pair of the mold segments on one of the first pair of the mold segments and mounting a third pair of the mold segments on the other mold segment of the first pair.例文帳に追加

前記鋳型割分を配置する工程が、第一ペアの略相対する鋳型割分を配置する工程と、第二ペアの鋳型割分を該第一ペアの鋳型割分の一方に搭載する工程と、第三ペアの鋳型割分を該第一ペアの鋳型割分の他方に搭載する工程とを含む。 - 特許庁

The coupling means couples the processing steps so that the units not used in the first lot start a first process in the second lot prior to completing the process of the first lot and prior to carrying in the second lot.例文帳に追加

前記結合手段は、前記第１ロットの処理の完了前且つ前記第２ロットの搬入前に、前記第１ロットに関し使用されなくなったユニットが前記第２ロットに関する第１の処理を開始するように、前記処理工程を結合する。 - 特許庁

This method has steps of making a plurality of contact holes in the first insulating film, such that the holes are connected to a gap formed in the first insulating film, and forming a first conductive film in the plurality of contact holes and the gap.例文帳に追加

間隙が形成された第１の絶縁膜に前記間隙と接続するように複数のコンタクトホールが開口される工程と、前記複数のコンタクトホール及び前記間隙に第１の導電性膜が形成される工程を含むようにする。 - 特許庁

An image demagnification method implements the steps of: separating the demagnification ratio into a first ratio and a second ratio being a residue of the first ratio; and demagnifying the image at the second ratio after demagnifying the image at the first ratio.例文帳に追加

画像を縮小する際に、縮小率を第一の倍率と第一の倍率の残余である第二の倍率とに分離をするステップと、第一の倍率にて、縮小を行った後に、第二の倍率により縮小を行うステップを実行する。 - 特許庁

The method includes steps of: forming a plurality of minute recessed portions on the surface of a first substrate 3a by a mechanical means; and etching the surface of the first substrate 3a to reduce the thickness of the first substrate 3a and isotropically erode the minute recessed portions to form microlenses L.例文帳に追加

第１基板３ａの表面に複数の微小凹部を機械的手段によって形成する工程と、前記第１基板３ａの表面をエッチングして、前記第１基板３ａを薄肉化するとともに、前記微小凹部を等方的に侵食してマイクロレンズＬを形成する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

A gate voltage step-down section 31 steps down a gate voltage of an MOS transistor 15 from a first voltage to a third voltage between the first voltage and a second voltage at a first time rate of change in response to a current limitation signal from an overcurrent detection section 20.例文帳に追加

ゲート電圧降圧部３１は、過電流検出部２０からの電流制限信号に応じて、ＭＯＳトランジスタ１５のゲート電圧を第１の電圧から、第１の電圧と第２の電圧との間の第３の電圧まで、第１の時間変化率で低下させる。 - 特許庁

The method further comprises the steps of subsequently forming a second insulating film on the first insulating film and the conductive layer, then forming a second opening in the second insulating film, exposing a part of the lower barrier layer, then forming a first electrode in the second opening, and forming a dielectric layer on the second film and a first opening.例文帳に追加

続いて、第１絶縁膜及び導電層上に第２絶縁膜を形成したら、第２絶縁膜内に第２開口を形成して下方のバリア層の一部を露出させ、次に、第２開口内に第１電極を形成し、第２絶縁膜及び第１開口上に誘電層を形成する。 - 特許庁

Alternatively, the film-forming method comprises the steps of: forming the first dielectric film (PZT thin film 3a) with high orientation on the substrate 1; and forming the second dielectric film (PZT film 5a) with the high orientation inherited from the first dielectric film on the first dielectric film, by the method of spraying the fine particles.例文帳に追加

又は、基板１上に、高配向な第一の誘電体膜（ＰＺＴ薄膜３ａ）を形成した後、前記第一の誘電体膜上に、当該第一の誘電体膜の配向を引き継いだ高配向な第二の誘電体膜（ＰＺＴ膜５ａ）を微粒子吹き付け法によって形成する。 - 特許庁

The method comprises steps for accessing information indicating a first mobile unit 120(1) in response to a signal from the first mobile unit; accessing information indicating at least one second mobile unit 120(2); and comparing the information indicating the first and second mobile units.例文帳に追加

この方法は、第１のモバイル・ユニットを示す情報に、第１のモバイル・ユニットからの信号に応答してアクセスすること、少なくとも１つの第２のモバイル・ユニットを示す情報にアクセスすること、および、第１および第２のモバイル・ユニットを示す情報を比較することを含む。 - 特許庁

A progress display system 10 comprises steps of: receiving inputs of a departure point and a destination and also receiving designation of first transportation means; and searching for a main route where a user can move by the first transportation means and a sub route where the user can move by second transportation means different from the first transportation means.例文帳に追加

進行状況表示システム１０は、出発地と目的地との入力を受け付けるとともに第１の移動手段の指定を受け付け、第１の移動手段によって移動可能な主経路と、第１の移動手段とは異なる第２の移動手段によって移動可能な副経路とを探索する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of connecting a first wiring layer 5h and a first wiring layer 5i connected to an impurity diffused layer for constituting a transistor and the layer 5a, and a first wiring layer 5j by a second wiring layer 7h and a second wiring layer 7i so as to short circuit them.例文帳に追加

トランジスタを構成する不純物拡散層に接続された第１配線層５ｈと第１配線層５ｉ、および、第１配線層５ｉと第１配線層５ｊが、第２配線層７ｈおよび第２配線層７ｉにより、短絡するように接続されている。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device comprises steps of forming the first film, made of polycrystalline silicon containing impurity, by thermally treating an amorphous silicon film provided on an insulating film and reducing the thickness of the first film by etching back the first film.例文帳に追加

また、絶縁膜上に設けたアモルファスシリコン膜を熱処理して、不純物を含んだ多結晶シリコンからなる第１の膜を形成する工程と、前記第１の膜をエッチバックして、前記第１の膜の膜厚を減らす工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。 - 特許庁

A pattern formation method according to an embodiment comprises the steps of: forming a heat-shrinkable first film 101 on a base material 100; patterning the first film 101; and heating and shrinking the patterned first film 101.例文帳に追加

本実施形態によるパターン形成方法は、基材１００上に熱収縮性のある第１膜１０１を形成する工程と、前記第１膜１０１をパターニングする工程と、パターニングした前記第１膜１０１を加熱して収縮させる工程とを備える。 - 特許庁

Successively, exposure and development are performed, a plurality of first openings discretely arranged so as to be a dot shape are formed in a first etching starting region on the first resist film, and a second opening as a perfect opening is formed in a second etching starting region (steps S12, S13).例文帳に追加

続いて、露光および現像が行われ、第１レジスト膜上の第１エッチング開始領域において網点状に離散的に配列された複数の第１開口が形成され、第２エッチング開始領域において完全な開口である第２開口が形成される（ステップＳ１２，Ｓ１３）。 - 特許庁

The method includes steps of: simultaneously forming a spacer and a liquid crystal layer on one of first substrate and second substrate; applying a sealant to a periphery of one of the first substrate and the second substrate; and bonding the first substrate and the second substrate.例文帳に追加

第１基板と第２基板の何れかの基板上にスペーサーと液晶を同時に形成する段階、第１基板と第２基板の何れかの基板上の周縁にシール材を形成する段階、および前記第１基板及び第２基板を貼り合わせる段階を備えることを特徴とする。 - 特許庁

A method of manufacturing an IC comprises the steps of: preparing a substrate having a first side and a second opposite side; forming an STI opening on the first side of the substrate; forming a partial TSV opening on the first side of the substrate; and extending the partial TSV opening.例文帳に追加

ＩＣを製造する方法は、第１の側、および第２の対向する側を有する基板を用意すること、基板の第１の側にＳＴＩ開口を形成すること、および基板の第１の側に部分的ＴＳＶ開口を形成すること、および部分的ＴＳＶ開口を延長することを含む。 - 特許庁

The method for fabricating the liquid crystal display includes steps of loading in a bonding chamber a first substrate having liquid crystal applied thereon and a second substrate having a sealant coated thereon, bonding the first and the second substrates using varied pressure and unloading the bonded first and second substrates.例文帳に追加

本発明は、液晶が滴下された第１基板とシール剤が形成されている第２基板を合着機チャンバ内にローディングする工程と、圧力を可変して前記第１、第２基板を合着する工程と、また、前記合着された第１，第２基板をアンローディングする工程とからなることを特徴とする。 - 特許庁

In the steps, the first quartz plate is polished to have a thickness thinner by 1-20 μm than the desired plate thickness value, and further, a mask is mounted on the first quartz plate, and a plurality of second quartz plates are simultaneously formed by growing quartz thin films each having a pattern shape of the mask on the first quartz plate.例文帳に追加

上記工程において、第一の水晶板を所望の板厚値より１μｍ以上〜２０μｍ以下薄く研磨加工し、又、第一の水晶板上にマスクを載置し、第一の水晶板上にマスクパターン形状の水晶薄膜を成長させ、同時に複数個の第二の水晶板を形成する。 - 特許庁

The method includes the steps of: (A) receiving a communication request at a network device of a first network; (B) determining a first ID of a first user identified in the communication request; and (C) mapping the first ID of the first user to a second ID of the first user.例文帳に追加

本発明の方法は、（Ａ)通信リクエストを第１ネットワークのネットワーク・デバイスで受領するステップと、（Ｂ)前記通信リクエスト内で特定された第１ユーザの第１ＩＤを決定するステップと、（Ｃ)前記第１ユーザの第１ＩＤを前記第１ユーザの第２ＩＤにマッピングするステップと、を有する。 - 特許庁

Determination means in an image forming system comprises: first authentication means for authenticating propriety of processing steps before a step executing printout on recording medium by the image forming means among steps in print processing of print information; and second authentication means for, after the first authentication means completes authentication, authenticating propriety of executing printout on the recording medium by the image forming means among steps in print processing of print information.例文帳に追加

判定手段は、印刷情報に関する印刷処理のうち前記画像形成手段による記録媒体に対する印刷出力を実行する前段階までの処理の可否を認証する第１の認証手段と、該第１の認証手段による認証完了後において、前記印刷情報に関する印刷処理のうち前記画像形成手段による記録媒体に対する印刷出力の実行の可否を認証する第２の認証手段とを備える。 - 特許庁

The method includes steps of scrambling a first header of a first signal by using a first scramble code, scrambling a second header of a second signal using a second scramble code, and transmitting the first and second signals with the scrambled first and second headers over different channels of the satellite system.例文帳に追加

方法は、第１のスクランブル符号を使用して第１の信号の第１のヘッダをスクランブルすることと、第２のスクランブル符号を使用して第２の信号の第２のヘッダをスクランブルすることと、通信システムの異なるチャネルによって、第１の信号及び第２の信号を、スクランブルされた第１のヘッダ及びスクランブルされた第２のヘッダとともに送信することとを含む。 - 特許庁

This method includes the steps of: conducting the first pretreatment of terminating the surface of the first metal film that has been formed on a substrate with a hydroxy group; conducting the second pretreatment of supplying a hydrogen-containing gas to the first metal film after the first pretreatment; and forming the second metal film on the first metal film after the second pretreatment.例文帳に追加

基板上に形成された第１の金属膜の表面を水酸基で終端する第１の前処理を行う工程と、第１の前処理後の第１の金属膜に対して水素含有ガスを供給して第２の前処理を行う工程と、第２の前処理後の第１の金属膜上に第２の金属膜を形成する工程と、を有する。 - 特許庁

A cell selection method includes steps of: A for determining whether or not a first CSG cell satisfies a prescribed condition at a mobile station UE when using a first macro cell as a standby cell; and B for changing the standby cell from the first macro cell to the first CSC cell when the mobil station UE determines that the first CSG cell satisfies the prescribed condition.例文帳に追加

本発明に係るセル選択方法は、移動局ＵＥが、第１マクロセルを待ち受けセルとしている場合に、第１ＣＳＧセルが所定条件を満たすか否かについて判断する工程Ａと、移動局ＵＥが、第１ＣＳＧセルが所定条件を満たすと判断した場合、待ち受けセルを第１マクロセルから第１ＣＳＧセルに変更する工程Ｂとを有する。 - 特許庁

This method includes steps for: locating a first reference frame portion from a first frame in a first pass, storing the first reference frame portion in a memory; locating a second reference frame portion from a second frame in a second pass, and combining the first reference frame portion and the second reference frame portion to form a bi-directionally predicted portion.例文帳に追加

１巡目において第１のフレームから第１の参照フレーム部分の位置を見つけること、メモリ中に第１の参照フレーム部分を記憶すること、２巡目において第２のフレームから第２の参照フレーム部分の位置を見つけること、そして２方向に予測された部分を形成するために第１の参照フレーム部分及び第２の参照フレーム部分を統合すること、を含む。 - 特許庁

The method also includes steps of: locating a first search result that matches the search term, the first search result being associated with a first measure of reputation; locating a second search result that matches the search term, the second search result being associated with a second measure of reputation; and preferentially presenting the first and the second search results based on the first and the second measures of reputation.例文帳に追加

この方法はさらに、検索語と一致する、第１の評判尺度と関連付けられる第１の検索結果を見つけ、検索語と一致する、第２の評判尺度と関連付けられる第２の検索結果を見つけ、第１及び第２の評判尺度に基づいて、第１及び第２の検索結果を優先的に提示するステップとを含む。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device comprises the steps of: forming a plurality of first conductive layers over a substrate, forming a first insulating layer to fill the gaps of the plurality of the first conductive layers, forming a second insulating layer over the first insulating layer and the plurality of the first conductive layers, and forming a semiconductor region and a second conductive layer over the second insulating layer.例文帳に追加

本発明は、基板上に複数の第１の導電層を形成した後、該第１の導電層の間を充填するように第１の絶縁層を形成し、第１の絶縁層及び複数の第１の導電層上に第２の絶縁層を形成し、第２の絶縁層上に半導体領域及び第２の導電層を形成して半導体装置を作製することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the variable capacitor includes the steps of: forming a first electrode on a substrate; forming a first sacrificial film above the first electrode; forming a second electrode on the first sacrificial film; forming a second sacrificial film on the second electrode; forming a stopper on the second sacrificial film; and removing the first and the second sacrificial films.例文帳に追加

本発明の可変キャパシタ製造方法は、基材上に第１電極を形成する工程と、第１電極の上位に第１犠牲膜を形成する工程と、第１犠牲膜上に第２電極を形成する工程と、第２電極上に第２犠牲膜を形成する工程と、第２犠牲膜上にストッパ部を形成する工程と、第１および第２犠牲膜を除去する工程とを含む。 - 特許庁

The method includes the steps of: transmitting from the second transceiver to the first transceiver a first signature sequence selected from a first set of signature sequences; and, in the first transceiver, correlating the received signal with at least one signature sequence from a second set of signature sequences to synchronize transmission between the second transceiver and the first transceiver.例文帳に追加

この方法は、第2のトランシーバから第1のトランシーバに、第1のシグネチャシーケンスセットから選択された第1のシグネチャシーケンスを伝送するステップと、第2のトランシーバと第1のトランシーバとの間の伝送を同期させるために、第1のトランシーバにおいて、受信された信号を第2のシグネチャシーケンスセットからの少なくとも1つのシグネチャシーケンスと相関させるステップとを含む。 - 特許庁