「Manufacturing process」に関連した英語例文の一覧と使い方(441ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polymer suitable for a positive photosensitive resin composition that includes no halogen atoms in its skeleton, is highly transparent to an i-ray from a mercury lamp and highly sensitive, can be developed with a developing liquid (2.38% TMAH aqueous solution) usually employed in a manufacturing process of a semiconductor device, and gives a thermoset relief pattern when cured at 280°C.例文帳に追加

骨格中にハロゲン原子を含まず、水銀ランプのｉ線に対する透明性が高く高感度であり、半導体装置の製造工程で通常使用される現像液（２．３８％ＴＭＡＨ水溶液）による現像が可能であり、２８０℃のキュアで熱硬化レリーフパターンが得られるポジ型感光性樹脂組成物に適したポリマーを提供する。 - 特許庁

To prevent failures due to elution of material, such as MIC (mineral insulator metal coating cable) and water passage pipe into a non-magnetic low melting material that is filled in a gap between MIC and water passage pipe for improving cooling efficiency, in a manufacturing process of and electromagnetic coil that consists of MIC, which is used in environment exposed to nuclear radiation.例文帳に追加

放射線に曝される環境で用いる、無機物絶縁金属被覆ケーブル（ＭＩＣ）で構成される電磁コイルの製造工程において、冷却効率向上のためにＭＩＣと冷却水の通水用パイプの間隙に充填する非磁性低融点金属への、ＭＩＣや通水用パイプなどの材料の溶出による障害を防止すること。 - 特許庁

The zeolite is obtained by dissolving the waste diatom earth used in a filtering step of the beer manufacturing process and containing organic compounds as it is in a sodium hydroxide aqueous solution to obtain a sodium silicate aqueous solution, dissolving sodium aluminate or a waste aluminum material in a sodium hydroxide aqueous solution to obtain sodium aluminate aqueous solution and carrying out hydrothermal synthesis using the sodium silicate aqueous solution and the sodium aluminate aqueous solution.例文帳に追加

ビール製造工程における濾加工程で用いた有機物を含む廃ケイソウ土を、そのまま水酸化ナトリウム水溶液に溶解させてケイ酸ナトリウム水溶液を得、アルミン酸ナトリウム又は廃棄物アルミ材を水酸化ナトリウム水溶液に溶解させてアルミン酸ナトリウム水溶液を得、これらの水熱合成によってゼオライトを得る。 - 特許庁

In the manufacturing method of the laminated optical element having a first optical substrate 2 and a second optical substrate (material 3' of the second optical substrate), an internal stress alleviation process for alleviating the internal stress of the first optical substrate 2 while heating the second optical substrate (the material 3' of the second optical substrate) is included.例文帳に追加

第１の光学基材２と第２の光学基材（第２の光学基材の材料３´）とを備える積層光学素子を製造する積層光学素子の製造方法において、第２の光学基材（第２の光学基材の材料３´）を加熱しつつ第１の光学基材２の内部応力を緩和させる内部応力緩和工程を含むようにする。 - 特許庁

To easily and efficiently manufacture semiconductor materials for thermoelectric conversion for a thermoelectric converting module, whose performance exponents can be improved by distributing inexpensive, easily treatable, and high productive metallic or alloy powder to semiconductor materials for thermoelectric conversion using CoSb3 as main components, and decreasing thermal conductivity, and a method for easily and efficiently manufacturing the semiconductor materials by using a general baking process.例文帳に追加

安価で、取扱が容易で、生産性の高い金属または合金粉末を、CoSb3を主成分とする熱電変換用半導体材料に分散させて、熱伝導率を低下させて性能指数の改善を図った熱電変換モジュール用の熱電変換用半導体材料を汎用的な焼成プロセスを用いて容易かつ効率良く製造する。 - 特許庁

The method for preparing a catalyst-carried fiber structure includes: a step of manufacturing a dispersion solution which further disperses catalyst particles into a solution obtained by dissolving a fiber forming compound into a solvent; a step of spinning the dispersing solution by an electrostatic spinning process; and a step of preparing the catalyst-carried fiber structure accumulated on a collecting substrate with the spinning.例文帳に追加

繊維形成性化合物を溶媒に溶解して得た溶液に、更に触媒粒子を分散させた分散溶液を製造する段階と、前記分散溶液を静電紡糸法にて紡糸する段階と、前記紡糸によって捕集基板に累積される触媒担持繊維構造体を得る段階を含む、触媒担持繊維構造体の製造方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing the p-channel trench MOSFET in which a gate electrode is p-type, the gate electrode is formed on a polycrystalline silicon film by forming an insulating film, implanting boron ions, and then performing a process for removing the insulating film for a plurality of times, thus providing the p-channel trench MOSFET that operates stably and has high quality.例文帳に追加

ゲート電極がＰ型であるＰチャネルトレンチＭＯＳＦＥＴの製造方法において、ゲート電極を多結晶シリコン膜上に絶縁膜を形成してボロンイオン注入を行いその後絶縁膜を除去する工程を複数回行って形成することで、動作が安定でかつ高品質なＰチャネルトレンチＭＯＳＦＥＴを提供することが可能となる。 - 特許庁

The method of manufacturing silicon single crystal wafer and silicon single crystal are characterized in that in the silicon single crystal water grown by the Czochralski method, in N region out side of OSF ring generated in ring state at the time of heat oxidizing process for all surfaces of the wafer, no defective region is existing which is to be detected by Cu deposition.例文帳に追加

チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶ウエーハにおいて、ウエーハ全面が熱酸化処理をした際にリング状に発生するＯＳＦの外側のＮ領域であって、Ｃｕデポジションにより検出される欠陥領域が存在しないものであることを特徴とするシリコン単結晶ウエーハ及びシリコン単結晶の製造方法。 - 特許庁

To provide: a method of manufacturing a semiconductor device forming a low-concentration impurity introduction region and a high-concentration impurity introduction region at the same time by a single impurity introduction process, and surely controlling the length of an LDD; a semiconductor device obtained by the same; and an electrooptical device including the semiconductor device.例文帳に追加

１回の不純物導入工程により、低濃度不純物導入領域および高濃度不純物導入領域を同時形成することができるとともに、ＬＤＤ長を確実に制御することのできる半導体装置の製造方法、該製造方法により得た半導体装置、および該半導体装置を備えた電気光学装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a developing device in which output of an image of high definition in which image density is always stable throughout the whole service life of a developing device without being influenced by the environment, usability is improved and the manufacturing cost is reduced, a process cartridge, an image forming apparatus and a recording medium loaded to the developing device.例文帳に追加

環境に影響されることなく、現像装置の寿命全般を通じ、常に画像濃度が安定した高品位な画像出力が可能であり、また、ユーザビリティの向上及び製造コストの低減を図ることのできる現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置、更には、現像装置に装着される記憶媒体を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the nitride gallium substrate includes a step of forming a porous nitride gallium substrate 11a having a thickness of 10 nm to 1000 nm by etching a nitride gallium substrate 11 in an atmosphere of HCl and NH_3 gas in a reaction chamber of an HVPE apparatus, and further includes a step of forming a nitride gallium growth layer 20 in a single reaction chamber by in situ process.例文帳に追加

ＨＶＰＥ装置の反応チャンバ内でＨＣｌ及びＮＨ_３ガス雰囲気で窒化ガリウム基板１１をエッチングして１０〜１０００ｎｍの厚さの多孔性窒化ガリウム層１１ａを形成するステップを含み、ひいては、単一の反応チャンバ内でインシチュで窒化ガリウム成長層２０を形成するステップをさらに含む窒化ガリウム基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element having a negative electrode layer opposed to a transparent conductive layer and an organic EL layer interposed between both electrodes, in which when the organic EL layer is formed by a wet process method, there occurs no deterioration of the characteristics of the organic EL element accompanying removal of solvent and a high performance organic EL element is manufactured.例文帳に追加

透明導電層と対向する陰極層と、両電極に挟持された有機ＥＬ層を備えた有機ＥＬ素子の製造方法において、有機ＥＬ層をウエットプロセス法で作成した場合に、溶媒の除去に伴う有機ＥＬ素子の特性の低下が起きず、高性能な有機ＥＬ素子を製造する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic for a plasma treatment apparatus which has an excellent resistance against halogenic corrosive gases and plasma and the like, and a low resistance, controls the contamination with impurity metals attributable to the compositional raw materials of the ceramic in the halogen plasma process, and is favorably used for a constitutional member of a plasma treatment apparatus for manufacturing semiconductors, liquid crystals and the like.例文帳に追加

ハロゲン系腐食性ガス、プラズマ等に対する耐食性に優れ、低抵抗化が図られ、かつ、ハロゲンプラズマプロセスでも、該セラミックスの構成原料に起因する不純物金属汚染を抑制することができ、半導体・液晶製造用等のプラズマ処理装置の構成部材に好適に使用することができるプラズマ処理装置用セラミックスを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a prepreg by impregnating a long fibrous base material with the resin composition comprises an impregnation process of transporting the fibrous base material while making the under-surface of the fibrous base material be substantially in contact with the upper-surface of a plate pan and supplying the liquid resin composition on the upper-surface of the fibrous base material.例文帳に追加

長尺状の繊維基材に樹脂組成物を含浸させてなるプリプレグの製造方法であって、繊維基材下面をプレートパン上面に実質的に接触させながら繊維基材を搬送するとともに、繊維基材上面側から液状樹脂組成物を供給する含浸工程を有することを特徴とする、プリプレグの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method for the electrolyte film comprises a process impregnating or filling a material containing the water alternative group B and/or a material containing a water alternative group B precursor and/or a material containing the acidic group AH and/or a material containing an acidic group AH precursor in the electrolyte film comprising the acidic group AH and/or the water alternative group B.例文帳に追加

該電解質膜の製造方法は、酸性基ＡＨおよび／または水代替基Ｂを含む電解質膜に、水代替基Ｂを含む物質および／または水代替基Ｂ前駆体を含む物質および／または酸性基ＡＨを含む物質および／または酸性基ＡＨ前駆体を含む物質を、含浸または充填する工程を有する。 - 特許庁

A thick-film resist formed by a photolithographic technique and a film represented by a silicon oxide film formed by an etching technique with the resist patterns of the thick-film resist as a mask are laminated as a mask for ion implantation in a semiconductor manufacturing process step, by which the ion implantation mask patterns having fine patterns of a high aspect ratio not possible heretofore are obtained.例文帳に追加

半導体製造工程におけるイオン注入用マスクとして、フォトリソグラフィ技術により形成した厚膜レジストと、この厚膜レジストのレジストパターンをマスクとしてエッチング技術により形成した酸化シリコン膜に代表される膜を積層し、従来にない高アスペクト比の微細パターンを有するイオン注入マスクパターンを得るようにした。 - 特許庁

The method of manufacturing the IC cards and the IC tags containing at least one layer of moisture curing adhesive layers and at least layer of resin films includes a process step of laminating at least ≥1 layer of porous members containing at least one kind of moisture curing reaction accelerators within the adhesive layers.例文帳に追加

少なくとも１層の湿気硬化型接着剤層と、少なくとも１層の樹脂フィルムを含有するＩＣカード及びＩＣタグの製造方法において、該接着剤層内に少なくとも１種の湿気硬化反応促進剤を含んだ多孔質部材を、少なくとも１層以上積層させる工程を含むＩＣカード又はＩＣタグの製造方法。 - 特許庁

Further, the manufacturing method is characterized by leveling in which, in a fabrication process of rolling, after forming the caulking part at an initial stage of rolling, parts for the caulking part or an imperfect screw part are rolled again by a dice part having a shape with no interference of the trough diameter compared with an angle shape for usually forming a screw thread.例文帳に追加

更に、この製造方法は、転造時の成形工程においてかしめ部を転造の初期段階にて成形した後に再度かしめ部や不完全ねじ部にあたる部分を通常ねじ山を成形させる山形状よりも谷径が干渉することがない形状となるダイス部で再度転造して矯正加工することを特徴とする。 - 特許庁

This carrier substrate 10 is provided with a metal substrate 12 on which a semiconductor chip is loaded in the manufacturing process of a semiconductor device, a recessed part 16 formed by press working at a position corresponding to the resin protrusion of a resin package of the metallic substrate 1, after plated coating is formed on the metal substrate 12, and the plated coating 14 formed on the inner face of the recessed part 16.例文帳に追加

半導体装置の製造工程で半導体チップが搭載される板状の金属基材１２と、金属基材１２に予めめっき被膜が形成された後、金属基材１２の樹脂パッケージの樹脂突起に対応する位置に、プレス加工によって形成された凹部１６と、凹部１６の内面に形成されためっき被膜１４とを具備する。 - 特許庁

The retardation of the film can be decreased, then the optical anisotropy, which impairs the high contrast characteristics of a liquid crystal display device, can be decreased by applying a magnetic field on the film material in the process of manufacturing the optical film consisting of cellulose acetate by a flow cast method, or by applying a magnetic field on the optical film consisting of cellulose acetate manufactured by a flow cast method while heating the film.例文帳に追加

酢酸セルロースエステルから成る光学用フイルムを流延法で製造する工程でフイルム材料に磁界をかけたり、流延法で製造された酢酸セルロースエステルの光学用フイルムに加熱しなが磁界をかけると、フイルムのレターデーション値を低下して液晶表示装置の高コントラスト特性を損なう光学的異方性を低くすることができる。 - 特許庁

To provide a fine particle laminated substrate having a fine particle accumulated layer of high quality wherein functional fine particles are formed on the surface of a base material in an oriented state so as to become high density in the vicinity of the surface of the base material, and a manufacturing method capable of easily forming the fine particle laminated substrate by a simple process by controlling a fine particle accumulating method.例文帳に追加

基材表面に機能性微粒子が、表面近傍が高密度となるように配向状態で形成された、高品質な微粒子集積層を有する微粒子積層基板、及び、微粒子の集積方法を制御することで、前記微粒子積層基板を簡易な工程で容易に形成することのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

As an initial manufacturing process of ink jet head, a drive circuit and the terminals thereof are formed on a silicon substrate followed by formation of an oxide film, wiring electrodes, fine resistors (heating elements 15) of Ta-Si-SiO, for example, and electrodes (common electrode 12, individual wiring electrodes 14) of Ni, for example, before determining the position and shape of the heating element 15.例文帳に追加

インクジェットヘッド製造の最初の工程としてシリコン基板に駆動回路とその端子を形成し、酸化膜と配線電極を形成し、Ｔａ−Ｓｉ−ＳｉＯなどの微細抵抗（発熱素子１５）、Ｎｉなどによる電極（共通電極１２、個別配線電極１４）を形成して発熱素子１５の位置と形状を決める。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an antireflective film, the method being excellent in productivity, by which the antireflective film having excellent antireflection performance is manufactured without requiring a complicated process, and to provide an image display device excellent in surface frictional flaw resistance, alkali resistance and antireflection performance.例文帳に追加

生産性に優れた反射防止フイルムの製造方法であり、煩雑な工程を行わずに優れた反射防止性を有する反射防止フイルムの製造方法および画像表示装置を提供することにあり、さらには、優れた表面耐擦傷性、耐アルカリ性、さらには反射防止性を有する画像表示装置を提供することにある。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrode for a fuel cell is characterized by including a photocatalyst layer formation process of forming the photocatalyst layer on a substrate, jointing the photocatalyst layer to one-side surface side of the electrode member, and forming the photocatalyst layer on the electrode member by separating the photocatalyst layer from the substrate.例文帳に追加

基板上に光触媒層を形成し、当該光触媒層と電極部材の一方の面側とを接合して前記光触媒層を前記基板から剥離し、前記電極部材上に前記光触媒層を形成する光触媒層形成工程を含むことを特徴とする燃料電池用電極の製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method of the cathode active material 153 having a lithium-metal compound oxide as a main component is provided with a surface treatment process (step S15) in which an untreated cathode active material 154 which is formed by calcining a material of the cathode active material 153 is made to contact with a treatment aqueous solution which is adjusted to pH 10-13.例文帳に追加

本発明の正極活物質の製造方法は、リチウム−金属複合酸化物を主成分とする正極活物質１５３の製造方法であって、正極活物質１５３の原料を焼成してなる未処理正極活物質１５４を、ｐＨ１０〜１３に調整した処理水溶液に接触させる表面処理工程（ステップＳ１５）を備えている。 - 特許庁

This invention is a manufacturing method of the polysulfone-based hollow fiber membrane characterized by maintaining at 70°C or less up to supplying a provided spinning solution to a spinning process, by preparing the spinning solution by dissolving at least three components composed of polyvinyl pyrolidone, a polysulfone-based high polymer and a common solvent of these at 70°C or less in an inert gas atmosphere.例文帳に追加

本発明は、ポリビニルピロリドン、ポリスルホン系高分子およびそれらの共通溶媒からなる少なくとも３成分を不活性ガス雰囲気下、７０℃以下で溶解して紡糸溶液を調製し、得られた紡糸溶液を紡糸工程に供給するまでの間７０℃以下に維持することを特徴とするポリスルホン系中空糸膜の製造方法である。 - 特許庁

In a hot-manufacturing process of a seamless metallic tube adopting the push bench mill as an elongator, a nondriven rotary roller die group is adopted in place of a nondriven roller die group of the push bench mill and a material is pushed out through the nondriven rotary roller die group in a stroke by driving a mandrel having forced rotating function.例文帳に追加

延伸圧延機としてプッシュベンチミルを採用する継目無金属管の熱間製造プロセスにおいて、プッシュベンチミルの非駆動のローラダイス群に替えて、非駆動のロータリローラダイス群を採用し、強制回転機能を有するマンドレルを駆動して一挙に非駆動のロータリローラダイス群を押し抜くことを特徴とする継目無金属管の熱間製造方法である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent conductive laminate which improves pattern alignment accuracy of a plurality of transparent conductive films by suppressing a dimensional change due to heat applied during a post process by conducting crystallization of a transparent conductive layer in a short time and a heat contraction processing of a substrate prior to patterning and joining of the conductive layer.例文帳に追加

短時間で透明導電層を結晶化させること、及び、基板の熱収縮処理を行い、導電層のパターニング、貼り合せの前に、後工程で加えられる熱による寸法変化を抑制することで、複数の透明導電性フィルムのパターン位置合わせ精度を向上させる透明導電性積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-layer seamed felt for papermaking, which has a base fabric with a plurality of loop rows in thickness direction at the end in the length direction by turning a plurality of warps piling in the thickness direction, wherein workability in joining is improved without complicated manufacturing process, and physical property of the base fabric.例文帳に追加

厚さ方向に重なり合う複数本の経糸の折り返しにより丈方向の端部に厚さ方向に複数のループ列が形成された基布を有する製紙用多重織シーム付きフェルトにおいて、製造工程を煩雑化させることなく、接合作業の作業性を向上させると共に、基布の物性が全体的に概ね均一となるようにする。 - 特許庁

To provide an inexpensive immunoassay instrument solving various problems on determination finish confirmation using a coloring agent or a compound, confirming surely determination completion even when pH of a liquid sample is greatly fluctuated or when a long time has elapsed, and realizing reduction of the number of materials and simplification of a manufacturing process.例文帳に追加

発色剤や化合物を用いた判定終了確認による種々の問題を解決することができ、液体試料のｐＨが大きく変動したり、長時間経過した場合であっても、判定終了を確実に確認することができ、材料点数の低減及び製造工程の簡略化を果たすことができる、安価な免疫測定具を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a magnetic recording medium having excellent smoothness of the surface, which reduces the risk of contamination, by significantly simplifying the manufacturing process compared with conventional magnetic layer working type or ion injection type production methods, in the method of producing the magnetic recording medium by depositing a magnetic layer on a base substrate and subsequently forming a magnetic pattern.例文帳に追加

本基板上に磁性層を成膜したのちに磁気パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、従来の磁性層加工型やイオン注入型と比較して格段に製造工程を簡略化し、汚染リスクがすくなく、表面の平滑性に優れた磁気記録媒体が製造可能な方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the compound semiconductor includes a process wherein, after bonding the surface side of the SiC wafer 1 whereon a compound semiconductor element is formed and a support substrate 2 for supporting the SiC wafer by an adhesive 3 whose softening temperature is above 200°C, the hole 6 is formed by dry-etching from the rear face side of the SiC wafer using a fluorine-contained etching gas.例文帳に追加

化合物半導体素子が形成されたＳｉＣウエハ１の表面側と、このＳｉＣウエハを保持する支持基板２とを、軟化温度が２００℃を超える接着材３により接着した後、上記ＳｉＣウエハの裏面側から弗素を含むエッチングガスを用いてドライエッチングによりバイアホール６を形成する工程を含むようにしたものである。 - 特許庁

The manufacturing process of a cyclic olefin addition polymer comprises addition-polymerizing a cyclic olefin in the presence of a catalyst composed of the combination of a compound having a specific structure of a transition metal of the group 4 in the periodic table and a compound which forms ion pairs as a result of reacting with an organic aluminum oxy compound and/or a transition metal compound of the group 4 in the periodic table.例文帳に追加

特定構造の周期表第４族遷移金属化合物と、有機アルミニウムオキシ化合物および／または周期表第４族遷移金属化合物と反応してイオン対を形成する化合物との組み合わせからなる触媒の存在下に、環状オレフィンを付加重合する環状オレフィン付加重合体の製造方法。 - 特許庁

In a manufacturing process, in a state that the rotating of a pressing member 30 to a pedestal 12 around the axis is restrained, it is possible to press a heat resistance energizing member 20 with rotating a supporting means 29 around the axis and moving it in the axis direction, so that a pressing member 18 does not rotate even if the supporting means 29 is being rotated.例文帳に追加

製造工程において、台座１２に対する押さえ部材３０の軸周りの回転を拘束した状態で、支持手段２９を軸周りに回転させ軸方向に移動させることにより耐熱付勢部材２０を圧縮することができるので、支持手段２９を回転させても押さえ部材１８が回転することがない。 - 特許庁

The method of manufacturing a thin film transistor, which has the process of applying a precursor solution to form an oxide semiconductor thin film, forms the oxide semiconductor thin film by using a liquid jet apparatus for jetting charged droplets in patterning a precursor thin film formed by the application of the precursor solution.例文帳に追加

前駆体溶液を塗布して酸化物半導体の薄膜を形成する工程を有する薄膜トランジスタの製造方法において、 該前駆体溶液を塗布して形成される前駆体薄膜のパターニングに帯電させた液滴を吐出する液体吐出装置により酸化物半導体の薄膜を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the circuit board using the laminate of the metal layer and the polyimide film has a process for cleaning and removing, after a treatment with a chemical etching agent, an altered layer generated by the chemical etching agent and performing treatment with an acid aqueous solution when the polyimide film is subjected to an etching processing.例文帳に追加

金属層とポリイミドフィルムとの積層体を使用しての回路基板の製造方法において、ポリイミドフィルムをエッチング加工する際に、化学エッチング剤での処理後に化学エッチング剤による変性層を洗浄除去し、さらに酸性水溶液で処理するプロセスを有する回路基板の製造方法とこの方法によって得られる回路基板。 - 特許庁

A method of manufacturing a thin film transistor comprises the steps of: forming a photoresist layer on a substrate; and selectively removing a part of the photoresist layer in a single exposure process and forming a primary photoresist pattern including a first part structure with a first width and a second part structure with a second width underlying the first part structure.例文帳に追加

前記基板の上にフォトレジスト層を形成するステップ、単一の露光プロセスで選択的に一部分のフォトレジスト層を取り除き、第一幅を有する第一部分の構造と、第二幅を有し、前記第一部分の構造の下にある第二部分の構造を含む第一フォトレジストパターンを形成するステップを含む薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a writable compact disk equipped with a function of judging illegal copying by a simple method to prevent its use without needing any complex processing technology or special dedicated manufacturing process/facilities, without needing any non-standard special disks, and using a device not deviated from a standard.例文帳に追加

複雑な加工技術や特殊な専用の製造工程・設備を必要とすることなく、また標準外の特殊なディスクを必要とせず、標準を逸脱しない機器の使用が可能で、しかも簡便な方法により不正コピーを判定してその使用を回避とすることができる機能を備えた書き込み可能型コンパクトディスクを提供する - 特許庁

The manufacturing method of the IC card with the ED display function having an electron deposition (ED) display unit having a pair of electrodes for making dissolution/deposition of metal to be produced on a substrate, comprises an ED coating process in which at least a part of the ED display unit is coated with curable resin.例文帳に追加

基材上に、金属の溶解／析出を生じさせる一対の電極を有するエレクトロンデポジション（ＥＤ）表示部を有するＥＤ表示機能付きＩＣカードの製造方法であって、ＥＤ表示部の少なくとも一部が硬化性樹脂により覆われるＥＤ被覆工程を有することを特徴とするＥＤ表示機能付きＩＣカードの製造方法。 - 特許庁

To provide a washing net which can contain laundry in a net bag for washing, can hang the laundry for drying in two or more rows in a narrow space by reversing the net bag easily, and can be hung on a hunger by a simple operation and to provide a process for manufacturing the washing net.例文帳に追加

洗濯物を網袋の中に収容した状態で洗濯を行い、その洗濯物を干す際には網袋を容易に裏返して、狭いスペースでも複数列の洗濯物を物干し状態にすることができ、かつ簡易な作業によってハンガーに吊り下げて干すことができる、洗濯ネット及び洗濯ネットの製造方法を提供する。 - 特許庁

An Ellipsometer is arranged in the orienter chamber 55 and by measuring the thickness of ion implemented region (amorphous layer) in a substrate or the thickness of the formed film without exposing a wafer to the atmosphere outside a manufacturing device until a series of processes such as film forming, annealing, and etching is completed, the management of the condition setting of the next process etc. is made possible.例文帳に追加

オリエンターチャンバ５５にエリプソメータが配設され、成膜，アニール，エッチング等の一連のプロセスが終了するまでウエハを製造装置外の大気にさらすことなく、基板内のイオン注入領域（アモルファス層）の厚みや、成膜した膜の厚みなどをエリプソメータにより測定することで、次の処理の条件設定などの管理が可能となる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an organic electrophotographic photoreceptor by spray coating method by which an uneven coating film, the sagging of the coating film and air bubbles are prevented from occurring and its productivity is excellent, to provide an electrophotographic photoreceptor capable of giving excellent image quality by the method, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device using the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

不均一な塗膜、塗膜のタレ、気泡の発生がなく、かつ生産性の良い、スプレー塗工法による有機電子写真感光体の製造方法を提供し、これにより優れた画像品質をもたらす電子写真感光体を得るとともに、このような電子写真感光体を用いた、プロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which a residual light shielding layer film on a translucent phase shift pattern in an effective region can be detected in an inspection process by decreasing the reflectance of the surface of the light shielding pattern on the translucent phase shift pattern in the effective region than the reflectance of the surface of the light shielding pattern in the peripheral part.例文帳に追加

有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光パターン表面の反射率を外周部の遮光パターン表面の反射率より低くすることにより、検査工程での有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光層膜残りの検出を可能にしたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a magnet mounting step S1 for mounting a permanent magnet 7 on a rotor core 5, a casting step S2 for forming short circuit bars on the core 5 by a molten metal, and a magnetizing step S3 for magnetizing the magnet 7 by applying a magnetic field to the magnet 7 in a cooling process of the core 5 from a high temperature.例文帳に追加

回転子鉄心５に永久磁石７を装着する磁石装着工程Ｓ１と、溶融した金属によって前記回転子鉄心に短絡バーを形成するキャスト工程Ｓ２と、前記回転子鉄心の高温からの冷却過程において前記永久磁石７に磁界を印加して着磁する着磁工程Ｓ３とを備えた構成とする。 - 特許庁

To provide an additive for copper plating in a process for manufacturing a large scale integration circuit, which is not degraded with time after an electrolytic bath has been made up, and adequately embeds copper in a groove and a hole on the circuit even having a finer structure, without producing voids through electrolytic copper plating; a copper plating bath containing the additive; and a copper plating method using the bath.例文帳に追加

高集積化電子回路の製造等において、建浴後の経時的な劣化が殆どなく、且つより微細な構造であっても溝や穴に電解銅メッキによってボイドを生じさせること無く銅を良好に埋め込むことを可能にする、銅メッキ用添加剤、これを含有する銅メッキ浴、及びこれを用いた銅メッキ方法を提供する。 - 特許庁