「Manufacturing process」に関連した英語例文の一覧と使い方(442ページ目) - Weblio英語例文検索

In a process of manufacturing a semiconductor device including an adjustment circuit for adjustment according to results of tests, the method includes testing the semiconductor device (at step S3), and forming a wiring pattern or a via pattern by electronic beam lithography with an electronic beam lithography device according to the results of the tests, and finishing the circuit pattern of the adjustment circuit (at step S4).例文帳に追加

試験結果に応じた調整を行う調整回路を含む半導体装置の製造途中において、当該半導体装置を試験し（ステップＳ３）、その試験結果に応じて電子ビーム描画装置による電子ビーム描画によって、配線パターンやビアパターンなどを形成することにより、調整回路の回路パターンを確定させる（ステップＳ４）。 - 特許庁

The master disk for the optical recording medium is manufacturing by exposing and developing a photoresist 11 on a substrate 11 to form rugged patterns 12 and 13, regulating the photoresist 11 to a glass transition point or above by performing post baking and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the rugged patterns 13 of the photoresist 11 with the laser beam in the post baking process step.例文帳に追加

基板１０上のフォトレジスト１１を露光現像して凹凸パターン１２，１３を形成し、ポストベークを行ってフォトレジスト１１をガラス転移点以上とし、ポストベーク工程において、フォトレジスト１１の凹凸パターン１３にレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。 - 特許庁

The method of manufacturing the reproduced all-solid battery includes a crystallization process of forming a reproduced solid electrolyte layer by crystallizing amorphous Li ion conductive sulfur glass by heating a solid electrolyte layer before reproduction which includes the amorphous Li ion conductive sulfur glass.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、アモルファス状のＬｉイオン伝導性硫化物ガラスを含む再生前固体電解質層を加熱することにより、上記アモルファス状のＬｉイオン伝導性硫化物ガラスを結晶化し、再生化固体電解質層を形成する結晶化工程を有することを特徴とする再生化全固体電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing an electrostatic charge image developing toner includes an aggregation process of heating a mixture dispersion liquid containing at least binder primary particles, coloring agent particles and charge controlling agent particles to obtain aggregated particles.例文帳に追加

少なくとも、バインダー一次粒子、着色剤粒子、及び荷電制御剤粒子を含む混合分散液を、加温することによって凝集粒子を得る凝集工程を有する静電荷像現像用トナーの製造方法において、凝集工程における攪拌時の液面形状が下式（Ｉ）及び式（ＩＩ）を満たすことを特徴とする、静電荷像現像用トナーの製造方法。 - 特許庁

To provide an addition polymerization catalyst using a group 7 transition metal compound, an addition polymerization catalyst component used for adjusting the high activity addition polymerization catalyst, an addition polymerization catalyst using the addition polymerization catalyst component and a manufacturing process of the addition-polymerized polymer using the addition polymerization catalyst.例文帳に追加

第７族遷移金属化合物を用いてなる付加重合用触媒であって、高重合活性を示す付加重合用触媒の調整に用いられる付加重合用触媒成分、該付加重合用触媒成分を用いてなる付加重合用触媒、および、該付加重合用触媒を用いる付加重合体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

As the EPAs / FTAs among countries in East Asia proceed economic integration and systemic harmonization of the area, and as the logistics infrastructures that supports business activities improve, the business environment of the area is getting favorable for Japanese companies. Japanese companies are setting up operating bases strategically through a cross-border division of manufacturing process, concentration of production functions, and strengthening of overall sales control functions aimed at intra-regional integration.例文帳に追加

我が国企業は、東アジアにおけるEPA ／ FTAによる域内経済のシームレス化、企業行動を支える物流インフラの改善などによって向上しつつある事業環境の下で、多国間工程分業、生産機能の集約化や、域内を一体として捉えた販売統括機能の強化といった戦略的な拠点配置を進めてきている。 - 経済産業省

At the same time, especially for cases of continuing imports, the quarantine stations provide instructions to sufficiently confirm that there are no changes in raw materials and manufacturing process and that the results of voluntary inspections presented in the notification and the actual goods are the same.例文帳に追加

併せて、生産者等を通じて入手した正確かつ最新の情報に基づく適正な輸入届出を行うよう指導するとともに、特に継続的に輸入する場合にあっては、原材料や製造方法等に変更がないこと、届出時に提示する自主検査等の成績と届出貨物の同一性が確保されていることを十分確認するよう指導する。 - 厚生労働省

In this manufacturing method of the radiological image conversion panel including a process for forming a phosphor layer by depositing on a substrate a material generated by heating an evaporation source containing a halogen-containing phosphor or its raw material, deposition is performed in a deposition atmosphere having a partial pressure of hydrogen halogenide of 2.0×10^-5 Pa or higher.例文帳に追加

ハロゲン含有蛍光体もしくはその原料を含む蒸発源を加熱して発生する物質を基板上に蒸着させることにより蛍光体層を形成する工程を含む放射線像変換パネルの製造方法において、該蒸着を、ハロゲン化水素の分圧が２．０×１０^−５Ｐａ以上の蒸着雰囲気中で行う。 - 特許庁

To provide an inspection method of a semiconductor element requiring to form a line for short-circuiting respective conductive patterns on a wafer in order to release charges generated in each conductive pattern during manufacturing process of a semiconductor element in which the inspection of electrical characteristics can be carried out appropriately before the wafer is diced.例文帳に追加

半導体素子の製造過程において各導電パターンに生じる電荷を逃すなどのために、各導電パターンを短絡させる短絡線をウエハー上に形成する必要がある半導体素子において、ウエハーの切断前に、電気的な特性の検査を適切に行うことができる半導体素子の検査方法を提供すること。 - 特許庁

In the method for manufacturing the rubber stopper for medicine/medical goods, in which the rubber stopper is produced through processes of mixing and kneading, molding, cleaning, drying and final inspection in this order, the molding process and the processes after it are performed under the atmosphere stepwisely raised level of air cleanliness.例文帳に追加

配合・混練工程、成形工程、洗浄工程、乾燥工程、及び最終検査工程をこの順に経て医薬・医療品用ゴム栓を製造する方法において、成形工程以降の工程を空気清浄度が段階的に高レベルとなる工程雰囲気下に実施することを特徴とする高度に清浄な医薬・医療品用ゴム栓を製造する方法。 - 特許庁

To prevent or to suppress an occurrence of pits on a semiconductor substrate caused by hydrofluoric acid processing as preliminary cleaning of an annealing process for activating impurities for well formations, or out diffusions of impurities from a semiconductor substrate in a method for manufacturing a semiconductor device including an element isolation region in which an insulating film is formed in a trench.例文帳に追加

トレンチ内に絶縁膜が形成された素子分離領域を備える半導体装置を製造する方法において、ウェルを形成するための不純物を活性化するアニール処理の前洗浄としてのフッ化水素酸処理によって半導体基板にピットが発生することや、半導体基板から不純物がアウトディフュージョンすることを防止または抑制する。 - 特許庁

To provide a porous carbon material which is extremely high in ratio of specific surface area in a meso-pore zone and is high in adsorption rate a manufacturing method which enables to easily obtain the porous carbon material with lower energy consumption and a simple process in a commercial production basis, and purpose of use of the porous carbon material.例文帳に追加

メソポア領域の比表面積の比率が極めて高く、吸着速度の大きい多孔質炭素材料、および該多孔質炭素材料を少ないエネルギー消費量で、かつ簡素な工程により容易に得ることができる工業的に実施可能な多孔質炭素材料の製造方法、さらには該多孔質炭素材料の用途の提供。 - 特許庁

To provide a coating liquid for forming an organic LED layer and a donor film for an organic LED capable of efficiently and uniformly forming the organic LED layer having satisfactory film formation property without causing cissing in a transfer process and provide a manufacturing method for an organic LED display panel and the organic LED display panel using the same.例文帳に追加

転写工程において「ハジキ」が生じず、成膜性が良好な有機ＬＥＤ層を、効率よく、かつ均一に形成し得る有機ＬＥＤ層形成用塗液および有機ＬＥＤ用ドナーフィルム、ならびにそれを用いた有機ＬＥＤ表示パネルの製造方法および有機ＬＥＤ表示パネルを提供することを課題とする。 - 特許庁

The manufacturing process includes a first kneading step 10 to knead a molten mixed material while applying sharing load, a second kneading step 11 to introduce a gas into the molten mixed material and knead it while applying sharing load after the first kneading step and a deaeration step 12 to degas from the mixed material after the second kneading step.例文帳に追加

溶融状態の混合材料にせん断負荷を加えながら混練する第一混練工程１０と、第一混練工程の後、混合材料にガスを導入し、せん断負荷を加えながら混練する第二混練工程１１と、第二混練工程の後、ガスを混合材料から除去する脱気工程１２とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To obtain a sufficient water-capturing effect in the inside of sealing space, enable to apply efficient deterioration countermeasures to an organic EL element, enable to simplify a manufacturing process, make cost reduction possible by improving a product yield, and enable a color display without a color slurring in an organic EL panel to carry out the color display of a top emission method.例文帳に追加

トップエミッション方式のカラー表示を行う有機ＥＬパネルにおいて、充分な封止空間内の捕水効果が得られ、有機ＥＬ素子に対して効率的な劣化対策を施すことができ、製造工程を簡略化することができ、製品歩留まりを向上させてコスト削減を可能にすることができると共に、色ずれのないカラー表示が可能になる。 - 特許庁

When manufacturing an outer lens 14, a photolithography process comprising respective processes of resist coating, exposure and development is performed on a bilayer substrate 23 consisting of a flat surface substrate 21 and a flexible substrate 22, thereby, a dot pattern of a photomask 25 is accurately transferred to a resist layer 24 and a resist fine structure 24a assured of forming accuracy can be manufactured.例文帳に追加

アウターレンズ１４の製造に際して、レジスト塗布、露光及び現像の各工程からなるフォトリソグラフィ工程を、平面基板２１及びフレキシブル基板２２からなる二層基板２３上で行うことにより、フォトマスク２５のドットパターンをレジスト層２４に正確に転写し、形成精度の確保されたレジスト微細構造体２４ａを製作する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having high durability in which the wear resistance characteristics against scratching by a cleaning blade or the like and the electrophotographic characteristics (electrification, sensitivity, residual potential or the like) for repeated use are improved and to provide a method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor, a method for forming images, an image forming device and a process cartridge.例文帳に追加

本発明はクリーニングブレード等との擦過に対する耐摩耗特性、及び繰り返し使用時の電子写真特性（帯電、感度、残留電位特性等）が改善された高耐久の電子写真感光体を提供すること、該電子写真感光体の製造方法、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジを提供することにある。 - 特許庁

To provide an apparatus for measuring the dripping amount of liquid crystal, which is prepared to confirm if the assembling and setting of a liquid crystal syringe are proper before the liquid crystal syringe is mounted on a liquid crystal dispenser, in a liquid crystal cell process, and to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device using the same.例文帳に追加

本発明は液晶シリンジを液晶ディスペンシング装置に取り付ける前に、別の液晶滴下量測定装置を備えることによって液晶シリンジの組立及びセッティング状態が適切か否かを確認する液晶セル工程を進行する液晶滴下量測定装置及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法に関する。 - 特許庁

To provide a carrier tape capable of reducing the electrostatic breakdown of an integrated circuit element caused by the discharge of an electrified charge or the like, and conducting performance test on the integrated circuit element such as conducting input/output inspection of signals by contacting a probe pin with an input terminal or output terminal or the like in the manufacturing process of the tape carrier package.例文帳に追加

テープキャリアパッケージの製造工程の過程において、帯電された電荷の放電等により集積回路素子が静電破壊するのを低減するとともに、入力端子または出力端子にプローブピンを当てて信号の入出力検査を行う等の集積回路素子の性能試験を行うことができるキャリアテープを提供すること。 - 特許庁

To provide a cylindrical secondary battery wherein there is no fear of damaging an electrode and a separator when a current collecting plate 5 is welded to an end face of the wound electrode body 4, a manufacturing process is simple, and a superior output characteristic is exerted in a tabless type cylindrical secondary battery in which a wound electrode body 4 is housed inside of a battery can.例文帳に追加

電池缶の内部に巻き取り電極体４が収納されたタブレスタイプの円筒型二次電池において、巻き取り電極体４の端面に集電板５を溶接する際、電極やセパレータが損傷する虞がなく、製造工程が簡易であり、然も、優れた出力特性を発揮する円筒型二次電池を提供する。 - 特許庁

The process for manufacturing a patterned circuit board 4 by applying a mask 3 onto a metal plate 2 and removing the non-masked part by wet etching comprises a step for previously forming a groove 2b in the center of the non-masked part on the metal plate and the wet etching is carried out after the step for forming the groove.例文帳に追加

金属板２上にマスク３を施して、マスクされていない部分をウェットエッチングにより除去してパターンニングされた回路基板４を製造する方法であって、前記金属板上のマスクされていない部分の中央に溝２ｂを予め形成する溝形成工程を有し、該溝形成工程後に、前記ウェットエッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁

To build in field effect transistors which are different in properties, especially, threshold voltage, and have high reliability on the same wafer without adopting such troublesome means as to repeat a complicated recess formation process or change the material of a source electrode and a drain electrode, concerning a method of manufacturing a field effect semiconductor device.例文帳に追加

電界効果半導体装置の製造方法に関し、煩雑なリセス形成工程を繰り返したり、或いは、ソース電極及びドレイン電極の材料を変えたりする面倒な手段を採ることなく、同一ウエハ上で特性、特に、閾値電圧を異にし、しかも、信頼性が高い電界効果トランジスタを容易に作り込むことができるようにする。 - 特許庁

To provide a multilayer board that has capabilities of forming a low-resistance embedding electrode without use of the etching process and bringing the low-resistance embedding electrode into contact with an ITO transparent electrode to reduce the wiring resistance of the ITO transparent electrode, while increasing the light passing through the multilayer board, and to provide a manufacturing method for such a multilayer board.例文帳に追加

エッチング工程を使用せずに、低抵抗の埋め込み電極を形成し、低抵抗の埋め込み電極をＩＴＯ透明電極に接触させて、ＩＴＯ透明電極の配線抵抗を低減させるとともに、多層基板を通過する光を増大する機能を有する多層基板及び多層基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a multilayer for making a high density ink jet head having a single crystal oxide conductor on an Si substrate, an actuator and an ink jet head employing it, and its manufacturing method in which micromachining can be carried out using a semiconductor process by composing the piezoelectric element of the ink jet head of a single orientation or single crystal multilayer.例文帳に追加

インクジェットヘッドの圧電素子を単一配向あるいは単結晶の積層体で構成することにより、半導体プロセスで微細化ができ、高密度のインクジェットヘッドを作製するための、Si基板上に単結晶酸化物導電体を有する積層体及びそれを用いたアクチュエーター及びインクジェットヘッドとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a plasma display panel, capable of easily and quickly inspecting a calcination state of a partition in a formation process for a partition of the plasma display panel and attaining calcination of the partition at the optimum calcination temperature by applying feedback to the calcination temperature on the basis of determination information obtained by this inspection.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの隔壁の形成工程において、その焼成状態を簡易かつ迅速に検査し、この検査で得られた判定情報に基づき、焼成温度にフィードバックをかけることで、最適な焼成温度での隔壁の焼成を実現することが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a washing cloth with a decorative granules which starts scrubbed finish in a concrete curing process, varies a scrubbed finish design and uniformly performs scrubbed finish by a person other than a special technician, and to provide its manufacturing method and a washing method using the washing cloth.例文帳に追加

コンクリートの硬化工程において洗い出し仕上げを開始することができるようになり、かつ、その洗い出し仕上げのデザインを多様化することが容易にでき、かつ、特殊技能者でなくても洗い出し仕上げを均一な仕上がりにすることができる装飾用粒状体付き洗い出しクロスおよびその製法ならびにそれを用いた洗い出し方法を提供する。 - 特許庁

The present invention is related to the semiconductor device and its manufacturing method, and provides a technology for improving the element operation properties by improving the element migration properties, which can be achieved by changing the STI process in designing a transistor particularly, by impressing compressive stress on a PMOS transistor and relatively small compressive stress on an NMOS transistor.例文帳に追加

本発明は半導体素子及びその製造方法に関し、特にＰＭＯＳトランジスタに圧縮応力を印加し、ＮＭＯＳトランジスタに相対的に小さい圧縮応力を印加するようＳＴＩ工程を変更してトランジスタを設計することにより、素子の移動性を改良し素子の動作特性を向上させることができる技術である。 - 特許庁

Therefore, the wall surface 121a can be finished by one process of machining (lathe machining or milling machining), which can reduce the manufacturing cost of a compressor 100 by reducing the number of man-hours for machining (machining time) of the fixed scroll 120 while decreasing the thickness (t) of the fixed side end plate portion 121 to make dead volume small.例文帳に追加

したがって、壁面１２１ａを一工程の機械加工（旋盤加工又はフライス加工等）にて仕上げることが可能となるので、固定側端板部１２１の厚みｔを小さくしてデットボリュームを小さくしつつ、固定スクロール１２０の加工工数（加工時間）を低減して圧縮機１００の製造原価を低減することができる。 - 特許庁

To provide a heat treatment method which can activate impurity elements doped in a semiconductor film and capture harmful impurities in a semiconductor film by a heat treatment in a short time without deformation of a substrate, in a manufacturing process of a semiconductor device using a low heat resistance substrate such as a glass substrate, and to provide a heat treatment apparatus which can realize such a heat treatment.例文帳に追加

ガラスなど耐熱性の低い基板を用いた半導体装置の製造工程において、基板を変形させることなく、短時間の熱処理で半導体膜に添加した不純物元素の活性化や、半導体膜のゲッタリング処理をする方法と、そのような熱処理を可能とする熱処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a decomposition treating agent and a decomposition treating method capable of decomposing fluorocarbons such as CF_4 contained in an exhaust gas exhausted from a semiconductor manufacturing process and the like at a decomposition rate of ≥99.9% at a relatively low decomposition temperature of ≤1,000°C without deactivating the agent in a short time or exhausting a corrosive gas such as hydrogen fluoride.例文帳に追加

半導体製造工程等から排出される排ガスに含まれるＣＦ_４等のフルオロカーボンを、短時間で分解処理剤が失活することなく、またフッ化水素等の腐食性ガスを排出させることなく、１０００℃以下の比較的低い温度で９９．９％以上の分解率で分解可能な分解処理剤及び分解処理方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter comprises a process, consisting of forming a resin film with application of a resin solution on a heat-holding layer composed of a substance with ≤0.005 cal/cm.s.°C thermal conductivity, making desired regions on the resin film irradiated with light and removing unirradiated regions of the resin film with developer.例文帳に追加

熱伝導率が０．００５ｃａｌ／ｃｍ・ｓ・℃以下の物質からなる熱保持層上に樹脂溶液を塗布して樹脂膜を形成し、該樹脂膜の所望の領域に光を照射し、現像液により該樹脂膜の光非照射領域を除去する工程を有することを特徴とするカラーフィルターの製造方法によって達成できる。 - 特許庁

On the occasion of manufacturing the laminate 1 by a process wherein the resin layer 2 having the particulates dispersed in the organic-solvent- soluble type binder resin and the thin film 3 of silicon oxide are laminated on the surface of a substrate directly or with another thin film interlaid, an anionic polymer dispersant not being neutralized by a base is used for dispersion of the particulates into the binder resin.例文帳に追加

支持体表面に、微粒子を有機溶媒可溶型バインダー樹脂に分散した樹脂層２と酸化珪素系薄膜３とを直接又は他の薄膜を介して積層して積層体１を製造するにあたって、微粒子のバインダー樹脂への分散に塩基で中和されていないアニオン性高分子分散剤を用いる。 - 特許庁

The manufacturing process comprises melting a polyacetal copolymer immediately after polymerization with a twin-screw extruder, continuously introducing the copolymer as it is molten into a surface-renewal model horizontal reactor, devolatilizing the melt under reduced pressure at a temperature not lower than the melting point and kneading and devolatilizing the polyacetal copolymer discharged from the reactor after adding additives under reduced pressure in an extruder (B).例文帳に追加

重合直後のポリアセタール共重合体を、2軸押出機で溶融させ、溶融状態のまま２軸の表面更新型横型反応機に連続的に導入し、融点以上の温度で減圧脱揮を行い、更にそこから排出されたポリアセタール共重合体を押出機（Ｂ）で添加剤の混練及び減圧脱揮を行う。 - 特許庁

To provide a holding substrate for an LED light emitting device suitable as a high output LED, which has a small difference in a coefficient of linear thermal expansion, as compared with a III-V group semiconductor crystal, which constitutes LED, is excellent in thermal conductivity, and further is superior in chemical resistance against an acid and alkali solution which are used in a manufacturing process.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、ＬＥＤを構成するIII−Ｖ族半導体結晶と線熱膨張率の差が小さく、かつ熱伝導性に優れ、更に製造時に使用される酸及びアルカリ溶液に対する耐薬品性に優れた高出力ＬＥＤ用として好適なＬＥＤ発光素子用保持基板を提供することである。 - 特許庁

To provide a template substrate for a semiconductor light-emitting element, a semiconductor light-emitting element, a manufacturing method of the same, a lamp, an electronic apparatus and a machinery, which can easily prepare a clean growth surface before laminating a compound semiconductor layer of the semiconductor light-emitting element without the need for a cleaning process before being housed in a second growth device.例文帳に追加

半導体発光素子の化合物半導体層を積層する前に清浄な成長面を容易に準備することができ、第二成長装置に入れる前の洗浄工程が不要な半導体発光素子用テンプレート基板、半導体発光素子及びその製造方法、並びにランプ、電子機器、機械装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method, capable of rationally selecting a wet processing treatment, where chemicals can be shared, in a short time resting on a minimum preliminary test when utilization of common chemicals is promoted eliminating cross contamination caused, by newly adopted materials in a cleaning device line configuration in a silicon semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加

シリコン半導体装置の製造過程における洗浄装置ライン構成について、新たに採用した材料に由来するクロス汚染を排除しつつ、薬液の共用化を進める際、最小限の予備的な試験検討に基づき、合理的に短時間に、ウエットプロセス処理において薬液を共用化できる処理を選別する方法の提供。 - 特許庁

In a manufacturing method of an electron source having plural surface conduction electron emission elements arranged on a substrate, conductivity forming is carried out for the plural surface conduction electron emission elements by dividing them in plural groups electrically opened, and electrical connections are made among respective groups after the conductivity forming process which is carried out for these respective groups.例文帳に追加

基体上に配置された複数の表面伝導型電子放出素子を有する電子源の製造方法において、複数の表面伝導型電子放出素子を、電気的に開放した複数群に分けて通電フォーミングを行い、これら各群に対して行われる通電フォーミング工程の後に、各群間を電気的に接続する。 - 特許庁

There is formed a metal polishing liquid that is used for chemical mechanical polishing in a semiconductor device manufacturing process and characterized by containing an amino acid derivative represented by general formula (I), a heteroaromatic ring compound, an abrasive grain, an oxidizing agent, and a metal chelating agent.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨に用いられ、下記一般式（Ｉ）で表されるアミノ酸誘導体、複素芳香環化合物、砥粒、酸化剤、及び金属キレート剤を含有することを特徴とする金属用研磨液［一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^２は炭素数１〜３のアルキレン基を表す。 - 特許庁

To easily remove liquid used in a manufacturing process of a semiconductor element from a part on a thin plate section in a semiconductor wafer, having the thin plate section in which a conductive element is formed and a cylindrical thick plate section provided by making a tour of the outer periphery of the thin plate section, while the plate thickness of the thick plate section is larger than that of the thin plate section.例文帳に追加

導体素子が形成される薄板部と、その薄板部の外周を一巡して設けられている円筒形状の厚板部を有しており、前記厚板部の板厚は前記薄板部の板厚よりの厚い半導体ウエハにおいて、半導体素子の製造工程で使用される液体を薄板部上から容易に除去することを可能とする。 - 特許庁

A MOS gate device manufacturing process includes a first mask 30 for continuously forming a cell body 50 and a source region 51 in the cell body 50, and a second mask for forming a center opening in the silicon surface of each cell by silicon etching and consecutively for undercutting an oxide 60 surrounding the center opening.例文帳に追加

ＭＯＳゲートデバイス製造プロセスであって、該プロセスは、セルボディ５０とセルボディ５０中のソース領域５１を連続して形成するための第１のマスク３０を有し、シリコンエッチにより各セルのシリコン表面に中央開口部８０、８１を形成し続いて中央開口部８０、８１を囲む酸化物６０をアンダーカットするための第２のマスク工程を有する。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting polycrystalline semiconductor film by which only such a substrate that carries a polycrystalline semiconductor film having a normal film quality can be sent to the subsequent step in a TFT(thin film transistor) manufacturing process, etc., by nondestructively inspecting the surface of the semiconductor film for state in a short time.例文帳に追加

短時間のうちに非破壊で半導体膜の表面状態を検査することにより、ＴＦＴの製造工程などにおいて、正常な膜質の多結晶性半導体膜を形成した基板のみを後工程に回すことのできる多結晶半導体膜の検査方法、 および多結晶性半導体膜の検査装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a production management method for an industrial product or the like and a manufacturing method of electronic equipment capable of properly setting the number of works in each process of a production line even to a large fluctuation of needs or to a need not leveled for every kind of products.例文帳に追加

本発明は、工業製品等の生産管理方法及び電子機器の製造方法に関し、大きな所要の変動に対しても、また品種毎に平準化していない所要に対しても、生産ラインの各工程の仕掛数を適切に設定できる生産管理方法及び電子機器の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the manufacturing process of the optical glass, a porous glass body 1 prepared by depositing glass fine particles is heated, and the resulting transparent glass body is introduced into a mold 11 and molded.例文帳に追加

ガラス微粒子の堆積により製造された多孔質ガラス体１を加熱して透明ガラス体とし、これを型１１に入れて成型する光学ガラスの製造方法であって、多孔質ガラス体１の透明ガラス化の際および／または透明ガラス化後、多孔質ガラス体１および／または透明ガラス体を加熱しながら、前記型１１に圧接することにより成型する。 - 特許庁

To feed an adhesive between the two tapes without causing bubble entrapment in a manufacturing process of a pressure sensitive adhesive tape using a roll coater in which an adhesive stored in the reservoir is fed from the clearance formed between the laminate rolls arranged with one roll on the top of the other in between the travelling tapes wounded by the laminate rolls.例文帳に追加

液溜め部に貯留した粘着剤を、上下に対向配備したラミネートロール間に形成された間隙から送り出して各ラミネートロールに巻回されて走行するテープの間に供給してゆくロールコート方式の粘着テープの製造方法において、気泡の混入なく２枚のテープ間に粘着剤を供給することのできるようにする。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing a high-quality gallium nitride semiconductor substrate while suppressing crystal degradation caused by the reaction of Ga and Si and suppressing occurrence of cracking caused by the difference in thermal expansion coefficients of GaN and Si in the process of forming a thick film gallium nitride semiconductor layer on a Si(111) face by using a vapor phase growth method.例文帳に追加

Ｓｉ（１１１）面上に気相成長法を利用して、厚膜の窒化ガリウム系半導体層を形成する際、ＧａとＳｉに因る反応に起因する結晶劣化、ＧａＮとＳｉの熱膨張係数差に起因するクラッキング発生を抑制し、良質な窒化ガリウム系半導体基板の作製を可能とする作製方法の提供。 - 特許庁