「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(555ページ目) - Weblio英語例文検索

In this plasma display panel constituted by arranging a front surface substrate wherein a plurality of pairs of scan electrodes and sustaining electrodes are arranged and a rear surface substrate wherein a plurality of data electrodes arranged perpendicular to the scan electrodes and the sustaining electrodes facing each other, a linear expansion coefficient of the front surface substrate is smaller than a linear expansion coefficient of the rear surface substrate.例文帳に追加

複数の対となる走査電極および維持電極が配列された前面基板と、前記走査電極および前記維持電極と直交するように複数のデータ電極が配列された背面基板とを対向配置して構成したプラズマディスプレイパネルにおいて、前記前面基板の線膨張率が前記背面基板の線膨張率よりも小さい。 - 特許庁

The connection structure of the plasma display panel includes a flexible substrate provided with a copper electrode formed of a projecting shape pointed at its tip, a panel substrate to be bonded to the flexible substrate and a connecting member where there is no conductive ball to directly connect the copper electrode with the panel-electrode of the panel substrate upon compression.例文帳に追加

このプラズマディスプレイパネルの接続構造は先端を先鋭にされた突出形状から形成される銅電極を具備したフレキシブル基板と、フレキシブル基板と接着されるパネル基板と、押圧されたときに銅電極がパネル基板のパネル用電極に直接連結されるように導電ボールが存在しない接続部材とを含む。 - 特許庁

The radical of a process gas having fluorine atoms in chemical construction is fed to a cleaning room 6 in which a substrate 10 is placed, and the substrate 10 is cleaned after the substrate 10 is deactivated by plasma of a hydrogen gas, by which the insulating film 12 is not damaged by high-energy substances such as an ion.例文帳に追加

本発明の成膜方法によれば、水素ガスのプラズマで基板１０の不活性化処理を行った後、基板１０が置かれたクリーニング室６に、化学構造中にフッ素原子を有する処理ガスのラジカルを供給し、基板１０のクリーニングを行うので、絶縁膜１２がイオンのような高エネルギー物質でダメージを受けることがない。 - 特許庁

The light source device includes a light source body having a discharge space; a plurality of space dividing members dividing the space into a plurality of discharge regions; and first electrodes generating plasma into the space by discharge voltages applied from inverters formed at both side parts of the body, as well as second electrodes disposed in response to each discharge region.例文帳に追加

面光源装置は、放電空間を有する光源本体、放電空間を複数の放電領域に分割する複数の空間分割部材、光源本体の両側部に形成されインバータから印加された放電電圧によって放電空間内にプラズマを発生させる第１電極及び各放電領域に対応して配置される第２電極を含む。 - 特許庁

The system has a deposition process that forms a film containing hafnium or a film containing zirconium on a substrate supported by a susceptor in the reaction chamber and a cleaning process that removes the film attached in the reaction chamber in the deposition process by activating gas containing chlorine atoms outside the reaction chamber by plasma and supplying the gas to the reaction chamber.例文帳に追加

反応室内でサセプタに保持した基板の上にハフニウムを含む膜またはジルコニウムを含む膜を形成する成膜工程と、反応室外部で塩素原子を含むガスをプラズマで活性化して反応室内に供給することにより前記成膜工程において反応室内に付着した膜を除去するクリーニング工程と、を有する。 - 特許庁

To provide a method of producing a plasma display panel in which a fluorescent substance layer or a reflection layer is formed easily and accurately even for a minute cell structure, and in which the fluorescent substance layer or the reflection layer is formed evenly in the channels between the partition walls formed in stripes, or such a layer is formed also on the sides of the partition walls.例文帳に追加

微細なセル構造の場合でも、容易に精度良く蛍光体層や反射層を形成することができ、且つ隔壁がストライプ状の場合に、隔壁間の溝に蛍光体層や反射層を均一的に形成することができ、更に、隔壁の側面に対しても容易にこれを形成できるＰＤＰの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the floor frame of steel construction suitable for a plant such as a semiconductor manufacturing plant or a manufacturing plant of plasma displays and liquid crystal panels, where strict vibration specifications are required, the girders 1 and the beam 3 laid between the girders 1 are connected by brace members 4 to reduce the design span L_2 of the beam 3 to the spacing L_1 of the girders 1.例文帳に追加

半導体製造工場、プラズマディスプレイや液晶パネルの製造工場など厳しい振動スペックが要求される工場に好適な鉄骨造の床架構であって、大梁１と大梁１間に架設された小梁３とを方杖部材４で連結することによって、大梁１の間隔Ｌ_１に対し、小梁３の設計スパンＬ_２を小さくしてある。 - 特許庁

The first filler metal manufacturing method comprises a welding step of forming a weld layer 12 on an outer face of a cylindrical base member 10 by using a plasma powder welding method, a separating step of separating the cylindrical weld layer 12 by removing the base member 10, and a working step of cutting out a ring-shaped filler metal 14 from the weld layer 12.例文帳に追加

本発明に係る溶加材の製造方法の１番目は、筒状基材１０の外面に、プラズマ粉末溶接法を用いて溶着層１２を形成する溶接工程と、基材１０を除去し、筒状の溶着層１２を分離する分離工程と、溶着層１２からリング状の溶加材１４を切り出す加工工程とを備えている。 - 特許庁

After a film surface is oxidized for granting hydrophilic property thereto, by previously subjecting the surface of a precursor polymer film capable of graft polymerization under an oxidizing atmosphere to plasma treatment, a hydrocarbon-based polymer capable of introducing proton conductive functional groups, as a side-chain polymer, is graft-polymerized with the precursor polymer film to introduce the proton conductive functional groups into side-chain polymer units.例文帳に追加

グラフト重合可能な前駆体ポリマ膜の表面を予め酸化雰囲気下でプラズマ処理することにより膜表面を酸化して親水性を付与した後、その前駆体ポリマ膜に側鎖ポリマとしてプロトン伝導性官能基を導入可能な炭化水素系ポリマをグラフト重合し、側鎖ポリマ単位にプロトン伝導性官能基を導入する。 - 特許庁

A selector 10 of plasma mass, magnetic coils 20a, 20b, mounted on a cylindrical chamber 12 for forming a uniform magnetic field in the shaft line direction in the chamber, and segmented quadrupole electrodes are arranged in a direction orthogonal to the chamber shaft line, so as to form an uniform cyclotron electric field in a chamber 12 and to intersect with the magnetic field.例文帳に追加

プラズマ質量の選別器１０は、円筒形のチャンバ１２に取り付けられてチャンバ内に軸線方向に均一の磁界を形成するための磁気コイル２０ａ，２０ｂとセグメントに分けられた四極電極がチャンバ１２内に不均一なサイクロトロン電界を形成し磁界と交差するようにチャンバ軸線に対して直角に配向される。 - 特許庁

When the airtight container 1 of this yaw rate sensor is rotated around the z-axis and a yaw rate is applied to the airtight container 1, Coriolis force is applied to positive ions and negative ions of plasma respectively, the positive ions and negative ions alternately reach different sides of detecting electrodes 3a, 3b, and the differential voltage corresponding to the yaw rate is generated between the detecting electrodes 3a, 3b.例文帳に追加

気密容器１がｚ軸周りに回動して、該気密容器１にヨーレートが作用すると、プラズマの正イオンと負イオンにそれぞれのコリオリ力が加わって、これらの正イオンと負イオンが各検出電極３ａ，３ｂのうちの相互に異なる側に交番して到達し、各検出電極３ａ，３ｂ間に該ヨーレートに対応する差電圧が発生する。 - 特許庁

CR time constant circuits (CR1-CR4) having an inverse temperature characteristic to that of each driver semiconductor integrated circuits are connected across input terminals (HIN and LIN) of the driver semiconductor integrated circuits (IC1 and IC2) for converting a display data signal of a small amplitude into a high voltage pulse capable of inducing electric discharge between electrodes of a plasma display panel (10).例文帳に追加

小振幅の表示データ信号をプラズマディスプレイパネル（１０）の電極間で放電を誘起可能な高電圧パルスに変換するドライバ半導体集積回路（ＩＣ１，ＩＣ２）の入力端子（ＨＩＮ，ＬＩＮ）に、各ドライバ半導体集積回路の温度特性と逆の温度特性を有するＣＲ時定数回路（ＣＲ１〜ＣＲ４）を接続するようにした。 - 特許庁

A film is deposited on the surface of a substrate 60 by plasma CVD method by applying a radio frequency from a high frequency power supply 16 between a holding electrode 30 for supporting the substrate 60 and a shower head electrode 14, supplying first gas from the shower head electrode 14 to the substrate 60, and supplying second gas from a gas supply pipe 50 to the surface of the substrate 60.例文帳に追加

基板６０を支持する保持電極３０とシャワーヘッド電極１４間に高周波電源１６から高周波を印加し、シャワーヘッド電極１４から第１のガスを基板６０に供給し、ガス供給管５０から基板６０の表面に第２のガスを供給し、基板６０の表面にプラズマＣＶＤ法により膜を成膜する。 - 特許庁

This biosensor is manufactured by irradiating, with plasma, a light reflection face of an optical block having at least three faces of a light incident face molded of the resin, the light reflection face and a light emitting face, by forming thereafter the first metal layer, and by forming the second metal layer in a side opposite to the light reflection face with respect to the first metal layer.例文帳に追加

樹脂により成型された光入射面、光反射面及び光出射面の少なくとも３面を持つ光学ブロックの光反射面に対してプラズマ照射を行い、次いで第一の金属層を形成し、該第一の金属層に対して光反射面とは反対側に第二の金属層を形成することによって作製されるバイオセンサー。 - 特許庁

Transparent electrodes 22a, 23a in a scanning electrode 22 and a sustaining electrode 23 are provided with parallel electrodes 221, 222, and electrodes 231, 232, respectively, and, by being equipped with short-circuiting parts 223, 233 short-circuiting these electrodes at the center of a discharge cell 37, an increase of the discharge current is limited and the leakage of the plasma discharge is prevented.例文帳に追加

走査電極２２および維持電極２３における透明電極２２ａ、２３ａはそれぞれ平行な電極２２１、２２２および電極２３１、２３２を有し、それらの電極を放電セル３７の中央部において短絡する短絡部２２３、２３３とを有することで、放電電流の増加を制限し、プラズマ放電の漏洩を抑制する。 - 特許庁

An aluminum film 121a which is a metal film is formed on a polycrystalline semiconductor film 103a, and plasma oxidizing treatment is performed to the aluminum film, whereby an aluminum oxide film 104 is formed by oxidizing the aluminum film, and a silicon oxide film 100a is formed between the polycrystalline semiconductor film 103a and the aluminum oxide film.例文帳に追加

多結晶半導体膜１０３ａ上に金属膜であるアルミニウム膜１２１ａを形成し、前記アルミニウム膜にプラズマ酸化処理を施すことにより、前記アルミニウム膜を酸化して酸化アルミニウム膜１０４を形成するとともに、前記多結晶半導体膜１０３ａと前記酸化アルミニウム膜との間に酸化珪素膜１００ａを形成する。 - 特許庁

To reduce a high-frequency current flowing through a load circuit without increasing the thickness of an insulating substance, to feed high-frequency power of a predetermined level even with a low working pressure of plasma, and to facilitate the generation of discharge between electrodes without increasing the thickness of the insulating substance.例文帳に追加

絶縁物の厚さを厚くすることなく負荷回路に流れる高周波電流を少なくすることができ、また、プラズマの動作圧力が低いときでもプラズマに予め定めた一定レベルの高周波電力を供給することができ、さらに、絶縁物の厚さを厚くすることなく電極間の放電を発生し易くすることができるようにする。 - 特許庁

The plasma reactor in liquid 1 has a vessel 2 to hold a liquid 3, an electromagnetic wave irradiation means 5 for irradiating the liquid 3 with electromagnetic waves, an air-bubble generating means 4 for generating air bubbles in the liquid, and a reducer supplying means 7 for supplying the reducer into the liquid 3.例文帳に追加

上記の課題を解決するために、本発明に係る液中プラズマ反応装置１は、液体３を保持するための容器２と、液体３中に電磁波を照射するための電磁波照射手段５と、液体中で気泡を発生させるための気泡発生手段４と、液体３中に還元剤を供給する還元剤供給手段７を有するものである。 - 特許庁

To provide a plasma display panel, and a method for manufacturing the same by arranging electrodes, dielectrics, and a separating wall between front and back plates which are opposite, and sealing the front and back plates with a sealing material, and to provide a glass composition for composing the sealing material.例文帳に追加

対向する前面板と背面板の間に電極と誘電体と隔壁が配設され、前面板と背面板が封着部材で封着されたプラズマディスプレイパネルにおいて、前面板と背面板を良好に封着する製造方法と、その製造方法によって作製したプラズマディスプレイパネルを提供し、さらに封着部材を構成するガラス組成物を提供する。 - 特許庁

The device for driving the plasma display panel according to this invention is characterized in being provided with a sensing part for sensing an electric signal of an initialization waveform supplied to a display panel from a power source, and a control part for controlling the electric signal of the initialization waveform supplied to the display panel from the power source by the sensed electric signal.例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレーパネルの駆動装置は電圧源から表示パネルに供給される初期化波形の電気信号を感知する感知部と、前記感知された電気信号により前記電圧源から表示パネルに供給される初期化波形の電気信号を制御する制御部とを備えていることを特徴とする。 - 特許庁

The plasma display panel comprises a plurality of discharge cells, formed between a front substrate and a rear substrate, address electrodes which extend in a first direction corresponding to the discharge cells, and sustaining electrodes and scanning electrodes which extend in a second direction of crossing the first direction and are arranged alternately in the first direction, corresponding to the discharge cells.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルは、前面基板と背面基板との間に形成される複数の放電セルと、放電セルに対応して、第１方向に沿って伸張するアドレス電極と、第１方向と交差する第２方向に沿って伸張し、放電セルに対応して、第１方向に沿って交互に配列される維持電極と走査電極と、を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the soft contact lens having a hydrophilic surface includes subjecting a copolymer consisting of the hydrogel having a contact lens shape and containing the silicone to low-temperature plasma treatment by using active gas and/or inert gas, exposing the copolymer under an oxygen atmosphere and subjecting the copolymer to immersion treatment into an aqueous hydrophilic monomer solution at ≥100°C.例文帳に追加

コンタクトレンズ形状を有し、かつシリコーンを含むハイドロゲルからなる共重合体を活性ガスおよび／または不活性ガスを用いて低温プラズマ処理し、酸素雰囲気下に曝し、かつ１００℃以上の温度において親水性モノマー水溶液中に浸漬処理することを含む、親水化表面を有するソフトコンタクトレンズの製造方法。 - 特許庁

The matching circuit 30 is used in a semiconductor plasma processing system for feeding high frequency electric power to an electrode in a chamber through a power feeding path.例文帳に追加

整合器３０は、チャンバ内に設けられた電極に給電線路を介して高周波電力を供給する半導体プラズマ処理装置に用いられるものであって、２つの可変容量コンデンサ２２，２３と、コンデンサ２３の電極と給電線路の内部導体１６の端部との間に接続された銅板３１〜３３などで構成された分布定数回路とを備えたものである。 - 特許庁

The substrate 20 coated with the amorphous carbon film is produced by forming the amorphous carbon film 22 on the surface of the substrate 21 under a reduced pressure through a discharge plasma process, wherein an active layer 23 containing either or both of oxygen and nitrogen is formed in an interface between the substrate 21 and the amorphous carbon film 22.例文帳に追加

本発明にかかるアモルファスカーボン膜被覆基材２０は、基材２１の表面に減圧下で放電プラズマによりアモルファスカーボン膜２２を成膜してなるアモルファスカーボン膜被覆基材であって、前記基材２１とアモルファスカーボン膜２２との界面に、酸素、窒素のいずれか一方又は両方を有する活性処理層である活性処理層２３を含むものである。 - 特許庁

The gas barrier film is an amorphous carbon film wherein carbon formed by the plasma CVD from a starting raw material containing carbon atom is a main constituent element, or a silicon oxide-containing film formed from a starting raw material including an organosilicone compound and having an atomic Si/O ratio of 1/1.5-1/2.2.例文帳に追加

前記ガスバリア被膜は、炭素原子を含む出発原料からプラズマＣＶＤにより形成された炭素を主要構成元素とするアモルファスカーボン被膜、または有機珪素化合物を含む出発原料からプラズマＣＶＤにより形成されたＳｉ／Ｏ比が原子比で１／１．５〜１／２．２の範囲にあるケイ素酸化物含有被膜である。 - 特許庁

In a method of manufacturing the plasma display panel in which a dielectric layer 9 is formed to cover scanning electrodes 5 and sustain electrodes 6 both formed on a front-face substrate 4, and a protective layer 10 is formed on the dielectric layer 9, a process for forming the protective layer 10 is a film-forming process using magnesium oxide containing silicon carbide.例文帳に追加

前面基板４上に形成した走査電極５および維持電極６を覆うように誘電体層９を形成し、その誘電体層９上に保護層１０を形成したプラズマディスプレイパネルの製造方法において、保護層１０を形成する工程が炭化珪素を含む酸化マグネシウムを用いた成膜工程である。 - 特許庁

The method to remove the impurities in the plasma display device comprises a step of manufacturing the upper substrate 36 and the lower substrate 38, and a step of cleaning to remove the impurities from the upper substrate 36 and the lower substrate 38 by discharging and/or heating in an inert gas atmosphere.例文帳に追加

上部基板３６及び下部基板３８を製作する段階と、不活性ガス雰囲気で放電を実行するクリーニング工程及び熱を加えてヒーティングさせるヒーティング工程の少なくとも何れか一つの工程により上部基板３６及び下部基板３８の不純物を除去する洗浄段階と、を順次行ってＰＤＰの不純物を除去する。 - 特許庁

To solve the problem that, in a plasma display device, when emission sustaining operations of the number equal to or larger than prescribed times are performed in an emission sustenance period, since normal writing operations are no performed in succeeding emission sustenance periods and emission sustaining operations are not performed, gradient property is degraded.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置において、発光維持期間において所定の回数以上の発光維持動作が行われた場合に、後続の発光維持期間において正常な書き込み動作が行えず、発光維持動作が行われないために階調性が劣化するという課題が生じていたが、本発明はこの階調性の劣化を防ぐことを目的とする。 - 特許庁

On the plasma display panel having a plurality of first, second, and third row electrodes X, Y, Z, in which a pair of electrodes for display discharge are constructed by the first row electrode X and the second row electrode Y, the third row electrode Z is utilized for a light shielding body intentionally shielding a part of light emitting area in a cell.例文帳に追加

複数の第１、第２および第３の行電極Ｘ，Ｙ，Ｚを有し、第１の行電極Ｘと第２の行電極Ｙとによって表示放電のための電極対が構成されるプラズマディスプレイパネル１において、第３の行電極Ｚをセル内の発光領域の一部を意図的に隠す遮光体として利用する。 - 特許庁

The laminated molded body is produced by pultrusion-extending an amorphous thermoplastic polyester resin sheet at temperatures between the glass transition temperature of the polyester resin plus or minus 20°C to obtain a drawn thermoplastic polyester resin sheet, subjecting both sides of the drawn thermoplastic polyester resin sheet to discharge plasma treatment and laminating a layer of a thermoplastic resin on both sides.例文帳に追加

非晶状態の熱可塑性ポリエステル系樹脂シートを、該熱可塑性ポリエステル系樹脂のガラス転移温度−２０℃〜該熱可塑性ポリエステル系樹脂のガラス転移温度＋２０℃の温度で引抜延伸した延伸熱可塑性ポリエステル系樹脂シートの両面に、放電プラズマ処理が施された後に熱可塑性樹脂層が積層されている積層成形体。 - 特許庁

This method for purifying neutral plasmin comprises purifying plasminogen derived from blood plasma or a genetic recombination material by a well-known procedure, then bringing the purified plasminogen into contact with the plasminogen activator, so as to activate the plasminogen into the plasmin, and further subjecting a plasmin-containing fraction to affinity chromatography containing an ω-amino acid and gel filtration chromatography.例文帳に追加

血漿または遺伝子組み換え体由来のプラスミノーゲンを公知の方法により精製した後、プラスミノーゲン活性化因子と接触させて当該プラスミノーゲンをプラスミンへ活性化した後、プラスミン含有画分をオメガ−アミノ酸を含んでなるアフィニティークロマトグラフィーおよびゲルろ過クロマトグラフィーに付すことにより前記課題を解決した。 - 特許庁

In the metal barrier rib for the plasma display formed of a metal substrate with a large number of through holes, an insulating layer-an Al layer-a reaction preventive layer is formed from the surface side.例文帳に追加

多数の貫通孔を有する金属基板を用いてなるプラズマディスプレイ用隔壁において、表面側から絶縁層—Al層—反応防止層が形成されているプラズマディスプレイ用金属隔壁であり、好ましくは、絶縁層が、Al_2O_3、SiO_2、ZrO__2、MgO、TiO_2、ガラスのうちの少なくとも一種を主体とし、更に好ましくは絶縁層の厚みが、0.5〜10.0μmであるプラズマディスプレイ用金属隔壁である。 - 特許庁

In manufacturing the focus ring used for the plasma device, this focus ring is manufactured by growing the single crystalline silicon, where the concentration of oxygen between lattices is 5×1017 atom/cm3 and not more than 1.5×1018 atoms/cm3, by Czochralski method, and processes that single crystalline silicon into annular form.例文帳に追加

および、プラズマ装置に用いられるシリコンフォーカスリングの製造方法において、チョクラルスキー法により格子間酸素濃度が５×１０^１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以上１．５×１０^１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３以下である単結晶シリコンを成長させ、該単結晶シリコンを円環状に加工し、シリコンフォーカスリングを製造するシリコンフォーカスリングの製造方法。 - 特許庁

In the driving method and device of a plasma display panel, when a cell to be displayed is selected by applying voltages whose polarities are opposite to each other to two electrodes opposed across a discharge space in the effective display area, a fixed voltage is supplied to dummy electrodes arranged at the outside of the effective display area during an address period selecting the cell.例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレーパネルの駆動方法及び装置は有効表示領域の内で放電空間を挟んで対向する２電極に相互反対の極性の電圧を印加して表示すべきセルを選択する際に、有効表示領域の外側に配置されたダミー電極にセルを選択するアドレス期間の間に一定の電圧を供給する。 - 特許庁

In the method of forming discharge plasma by microwaves or high frequency by introducing gas into a vacuum chamber, and etching the thin film of the material containing porous silica accumulated on the substrate by applying negative bias voltage to the substrate, the etching is performed using the fluoric gas not having double coupling as etching gas.例文帳に追加

真空チャンバー内にガスを導入してマイクロ波や高周波により放電プラズマを形成すると共に基板に負のバイアス電圧を印加して、基板上に堆積したポーラスシリカを含有する材料の薄膜をエッチングする方法において、 エッチングガスとして二重結合を持たないフッ素系ガスを使用してエッチングを行うことを特徴としている。 - 特許庁

A manufacturing method of DLC film composed of a first layer and a second layer, including steps of forming the first layer, on the film-deposited substrate, by radical particles generated by the thermal decomposition of hydrocarbon raw gas and forming the second layer by ion particles generated in the plasma of the hydrocarbon raw gas.例文帳に追加

炭化水素系原料ガスの熱分解により発生させたラジカル粒子により被成膜基板上に第１層を形成する工程と、該炭化水素系原料ガスのプラズマ中で発生させたイオン粒子により第２層を形成する工程とを含むことを特徴とする第１層および第２層から構成されるＤＬＣ膜の製造方法。 - 特許庁

In this formation method of silicon-based thin films for introducing a feed gas, where silicon fluoride and hydrogen are contained into a vacuum vessel, and for forming the silicon-based thin films on a substrate introduced into the vacuum vessel by a high-frequency plasma CVD method, light emission intensity due to SiF α (440 nm) is to be higher than that due to Hα (656 nm).例文帳に追加

真空容器内にフッ素化シリコンと水素を含む原料ガスを導入し、前記真空容器内に導入した基板上に高周波プラズマＣＶＤ法を用いてシリコン系薄膜を形成する方法であって、ＳｉＦα（４４０ｎｍ）に起因する発光強度が、Ｈα（６５６ｎｍ）に起因する発光強度以上であることを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacture of the glass material for molding by forming a hydrocarbon such as acetylene into plasma in a film forming chamber 2 in which a pre-molded glass lump W is arranged to form a carbon-containing film on the surface of the glass lump W, the film forming chamber 2 is tightly closed to stop the introduction of the hydrocarbon into the film forming chamber 2 during the formation of the carbon-containing film.例文帳に追加

予備成形したガラス塊Ｗを配置した成膜室２内でアセチレンなどの炭化水素をプラズマ化してガラス塊Ｗの表面に炭素含有膜を形成した成形用ガラス素材を製造するにあたって、炭素含有膜の形成中、成膜室２を密閉し、成膜室２内への炭化水素の導入を停止する。 - 特許庁

After having formed a metal mode film 102 with an Al-O molecule on the silicon substrate 101, a sputtering state in a target 203 is stopped by stopping the supply of a high-frequency power with respect to the target 203 or the like, and a state that the surface of the metal mode film 102 on the silicon substrate 101 is irradiated with plasma 110 of Ar and oxygen is brought about.例文帳に追加

シリコン基板１０１上に、Ａｌ−Ｏ分子によるメタルモード膜１０２を形成した後、ターゲット２０３に対する高周波電力の供給を停止するなどにより、ターゲット２０３におけるスパッタ状態を停止し、シリコン基板１０１上のメタルモード膜１０２表面に、Ａｒと酸素のプラズマ１１０が照射される状態とする。 - 特許庁

The electric field can be uniformly applied to each part of the surface of the base material 3 having a complicated shape such as a cylindrical shape, the gas can be fed thereto, and as a result, substantially uniform plasma is formed on the entire surface for film deposition of the base material 3, and the hard carbon film with the uniform film thickness and film quality can be deposited at a high speed.例文帳に追加

これにより、円筒状などの複雑な形状を有する基材３に対しても、表面の各部位に均一に電界を印加し、ガス供給することが可能になり、その結果、基材３の被成膜面の全面にほぼ均一なプラズマを形成し、均一な膜厚、膜質を有する硬質炭素膜を高速に形成することが可能になった。 - 特許庁

In the erroneous display preventing method of a plasma display, a read-out data signal is supplied from an initial data holding circuit 12 to a mute signal generating circuit 16 in response to the rising of a logic voltage and also a rising/falling detection signal is supplied from the rising/falling detecting circuit 181 of a driving high voltage circuit 18 to the mute signal generating circuit 16.例文帳に追加

ロジック電圧の立ち上がりに応答して初期データ保存回路１２から読み出しデータ信号がミュート信号発生回路１６に供給されると共に、駆動用高圧回路１８の立ち上がり／立ち下り検出回路１８１から立ち上がり／立ち下り検出信号がミュート信号発生回路１６に供給される。 - 特許庁

In the radiation image conversion panel that has a phosphor sheet where the stimulable phosphor layer is placed by a gas phase lay-up pattern and a protective layer which is placed so as to cover the surface of the stimulable phosphor layer on a support (substrate), the protective layer is formed after the plasma treatment is given to the surface of the stimulable phosphor layer.例文帳に追加

支持体（基板）上に、輝尽性蛍光体層が気相堆積型により設けられている蛍光体シートと該輝尽性蛍光体層の表面を被覆するように設けられる保護層を有する放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層の表面をプラズマ処理した後、該保護層を設けることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

Thus, as the density of the active seed of a plasma near the fringe of the board is apt to reduce, for example, even if the density of the active seed near the fringe of the board is increased by influences of an exhaust stream in the process container, the density difference of the active seed is suppressed small between a region near the fringe and the inside region.例文帳に追加

これにより基板の周縁部近傍にあるプラズマの活性種の密度が小さくなろうとするので、例えば処理容器内の排気流の影響によって基板の周縁部近傍の活性種の密度が大きくなろうとしても、周縁部近傍と内側領域との間の活性種の密度差を小さく抑えられる。 - 特許庁

The manufacturing method comprises a step for forming a fin-shaped projection 5 using plasma etching on a single-crystal silicon layer 3 of the SOI wafer, a step for forming a sacrificial oxide film 6 on the top surface containing the damage arising on the projection 5, a step for eliminating the sacrificial oxide film 6 by wet-etching, and a reflow step for heating a buried oxide layer 2 for reflow.例文帳に追加

ＳＯＩウエハにおける単結晶シリコン層３にプラズマエッチングを施して、フィン状の突起部５を形成する工程と、突起部５に生じたダメージを含む表面に犠牲酸化膜６を形成する工程と、犠牲酸化膜６をウエットエッチングにより除去する工程と、埋め込み酸化物層２を加熱してリフローさせるリフロー工程とを含む。 - 特許庁

In the plasma display panel having a front glass substrate 1 and a back glass substrate 6 facing each other through a discharge space S, and a protective layer formed at a position facing the discharge space S of the front glass substrate 1, the protective layer contains a CVD magnesium oxide layer 4 formed by chemical deposition and a crystal magnesium oxide layer 5.例文帳に追加

放電空間Ｓを介して対向する前面ガラス基板１および背面ガラス基板６と、前面ガラス基板１の放電空間Ｓに面する位置に形成された保護層とを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、保護層が、化学蒸着によって形成されるＣＶＤ酸化マグネシウム層４と、結晶酸化マグネシウム層５を含んでいる。 - 特許庁