「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(552ページ目) - Weblio英語例文検索

An apparatus for detecting the termination of the process includes a detecting means for detecting the frequency of the high-frequency power supplied to the plasma treatment apparatus 1, and an operation processing means for analyzing detected frequency data and judging the termination of the process on the basis of the rate of change of the oscillation frequency.例文帳に追加

また、プロセス終了検出装置は、プラズマ処理装置（１）に供給される高周波電力の発振周波数を検出する周波数検出手段と、検出された周波数データを解析し且つ発振周波数の変化率に基づいてプロセスの終了を判別する演算処理手段とを備えている。 - 特許庁

By inserting the metallic substrate 32 into the recessed part 33 of the susceptor 31 in this way, the height of the metallic substrate 32 is made equivalent to that of the low state, so that an ideal diamond film can be deposited on the bar-shaped metallic substrate 32 having height by using a diamond film deposition system in a microwave plasma CVD method.例文帳に追加

このようにサセプタ３１の凹部３３に金属基板３２を挿入するようにすれば、金属基板３２の高さが低い場合と等価にできるようになるから、マイクロ波プラズマＣＶＤ法ダイヤモンド成膜装置を用いて高さのある棒状の金属基板３２に理想的なダイヤモンド成膜が形成できるようになる。 - 特許庁

To provide a coating machine of coating liquid, a method for applying a coating liquid, a manufacturing apparatus of plasma display panel, and a method for manufacturing the same that never generate any defects in coating such as adhesion, color mixture, unevenness of coating liquid to a partition upper portion and can easily perform a high quality of coating.例文帳に追加

微細な隔壁間の凹部に塗液を塗布する場合においても、塗液の隔壁上部への付着、混色、塗布ムラ等の塗布欠点を発生させず、高品位に塗布することが容易な塗液の塗布装置および塗布方法ならびにプラズマディスプレイパネルの製造装置および製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent conductive film, wherein an initial work function can be enlarged and such a large work function can be maintained for a long period of time, a manufacturing method of an organic EL device using the transparent conductive film as an anode, and a plasma treatment device suitable for manufacturing such a transparent conductive film.例文帳に追加

初期的な仕事関数を大きくでき、かつ、かかる大きな仕事関数を長期間にわたって維持することのできる透明導電膜の製造方法、この透明導電膜を陽極として用いた有機ＥＬ装置の製造方法、およびかかる透明導電膜の製造に適したプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

An equiaxial crystallization accelerating agent consisting of ≥1 kind among MgAl2O4, CaS, CeS, TiN, Ce2O3, TiC and SiC is blown to the surface of molten steel by using working gas for a plasma heater in a tundish or ladle for continuous casting of steel and the molten steel obtained by the same is continuously cast.例文帳に追加

鋼の連続鋳造用タンディッシュ、或いは取鍋において、プラズマ加熱装置の作動ガスを用いて、ＭｇＡｌ_2 Ｏ_4 、ＣａＳ、ＣｅＳ、ＴｉＮ、Ｃｅ__2 Ｏ_3 、ＴｉＣおよびＳｉＣの内、少なくとも１種類以上からなる等軸晶化促進剤を溶鋼表面に吹き付け、これにより得られた溶鋼を連続鋳造する。 - 特許庁

A piezoelectric element piece used for this application has a water-repellent treated film formed by a spray or dipping method using a fluoride paint, or formed by a reduced or atmospheric pressure plasma processing method using a gas containing fluorine or fluorine compound so as to surround an adhesive surface fixed to a plug.例文帳に追加

プラグに固定される接着面を囲むように、フッ化物系塗料をスプレー法またはディッピング法により撥水処理膜が形成、あるいは、フッ素またはフッ素化合物を含んだガスを用いて減圧プラズマ処理法または大気圧プラズマ処理法により撥水処理膜が形成された圧電素子片を用いる。 - 特許庁

The plasma treatment device is provided with a replacement timing detection means 64 that detects replacement timing of the electrostatic chuck 10 while detecting a state of the residual charges attracting a semiconductor wafer W, when lifting up the semiconductor wafer W from the electrostatic chuck 10 after stopping application of a DC voltage from a DC power supply 13.例文帳に追加

直流電源１３からの直流電圧の印加を停止して静電チャック１０から半導体ウエハＷを持ち上げる際に、半導体ウエハＷを吸着する残留電荷の状態を検出し、静電チャック１０の交換時期を検出する交換時期検出手段６４を具備している。 - 特許庁

Further, when applying the plasma processing to the object to be processed having a conductive layer by using the opposing electrodes composed of a pair of roll electrodes facing each other, the object to be treated having the conductive layer is placed between the pair of the roll electrodes so as to contact with either of the pair of the roll electrodes.例文帳に追加

また、互いに対向する一対のロール電極からなる対向電極を用いて、導電層を有する被処理体をプラズマ処理するにあたり、一対のロール電極の電極間に、導電層を有する被処理体を、それらロール電極対のいずれか一方のロール電極に接触させる。 - 特許庁

After a spin on glass material containing silicon and/or silicon compound and organic solvent is applied on a substrate, an amorphous spin on glass film is formed by raising the density of the spin on glass material under the condition that crystallization does not occur in a plasma formed by a gas whose main component is oxygen.例文帳に追加

シリコン及び／又はシリコン化合物と有機溶媒を含有するスピンオングラス材料を基板に塗布した後に、酸素を主成分とするガスにより形成されたプラズマ中で結晶化が生じない条件下で、前記スピンオングラス材料塗膜を高密度化することによりアモルファススピンオングラス膜を形成する。 - 特許庁

In the method, a feed gas, containing halogenated silicon and hydrogen is be introduced into a vacuum container whose one internal portion is covered with a solid containing silicon, plasma is generated in space inside the vacuum container, and than the silicon-based film is formed on a substrate inside the vacuum container.例文帳に追加

本発明は、その内部の少なくとも一部がシリコンを含む固体により覆われた真空容器の内部に、ハロゲン化シリコン及び水素を含む原料ガスを導入し、前記真空容器内部の空間にプラズマを生起させ、前記真空容器の内部に備えられた基板の上に、シリコン系膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a weatherability testing machine capable of performing a weatherability evaluation test in a more markedly short time than a conventional testing machine utilizing ultraviolet irradiation and imparting a weatherability evaluation test results higher in correlation with outdoor natural exposure than those of the conventional methods that use irradiation of radicals formed by remote plasma.例文帳に追加

従来の紫外線照射を利用した試験装置よりも格段に短時間で耐候性評価試験が実施可能であり、従来のリモートプラズマにより生成したラジカルの照射を用いた方法よりも屋外自然曝露との相関性が高い耐候性評価試験結果を与える耐候性試験装置を提供する。 - 特許庁

The method for forming electrical isolation includes a step of forming multiple wiring lines 16 on the surface of the substrate, and that of a primary layer 48 composed of amorphous carbon by PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) method so that air may be filled and air gap may be arranged between adjoining wiring lines under the primary layer 48 on the wiring lines 16.例文帳に追加

複数の配線ライン１６を基板表面の上に形成すること、および前記配線ライン１６の上に、第１層４８の下であって隣りあう配線間には、空気が満たされ空隙を設けるように、非晶質炭素である第１層４８をプラズマ助長化学気相（ＰＥＣＶＤ）により形成すること、を含む。 - 特許庁

To provide a plasma display device capable of enhancing image quality on a display screen and reducing noise and radiant noise caused by discharge, by preventing a discharge gas particle in a charged condition which serves as a priming particle from driving into an adjacent picture element, and by dissolving a tailing phenomenon and a flickering phenomenon on the display screen.例文帳に追加

隣接画素へのプライミング粒子となる荷電状態の放電ガス粒子の飛び込みを防止し、表示画面における尾引き現象やチラツキ現象を解消し、表示画面における画像品質の向上と、誤放電によるノイズや輻射ノイズの低減を図ることが可能なプラズマ表示装置を提供すること。 - 特許庁

A fluorescent film on which a mixture composed of a fluorescent material and reactive wring polymer composition is applied is adhered to a rear plate of a plasma display panel having barrier ribs, and the fluorescent film is pressed to the barrier ribs using a jig with a rugged shape opposite to the rugged shape formed by the barrier ribs.例文帳に追加

隔壁を有するプラズマディスプレイパネル用背面板に、蛍光体と反応硬化型高分子組成物からなる混和物を支持体フィルムに塗布した蛍光体フィルムを貼り付け、前記隔壁が形成する凹凸形状と反対の凹凸形状を具備した治具を用いて、前記蛍光体フィルムを前記隔壁に圧着する。 - 特許庁

In a plasma CVD method using high frequency discharge, the amorphous silicon nitride film is formed by using mixed gas containing silane gas, hydrogen gas, and at least one of ammonium gas or nitrogen gas while the distance between electrodes is 50-100 mm, and the flow rate ratio (H_2/SiH_4) of hydrogen gas to silane gas is 0.5-3.0.例文帳に追加

高周波放電を利用したプラズマＣＶＤ法において、シランガスと、水素ガスと、アンモニアガスまたは窒素ガスの少なくとも一方とを含む混合ガスを用いて、電極間距離を５０〜１００ｍｍとし、シランガスに対する水素ガスの流量比（Ｈ_2／ＳｉＨ_4）を０．５〜３．０として非晶質窒化珪素膜を成膜する。 - 特許庁

To provide a PDP in which cross talks caused by error discharge affected by the adjoining discharge cells as a result of high minuteness is resolved and the discharge start voltage is lowered, and a highly fine quality image of low drive voltage is displayed, in the plasma display panel (PDP) which is used for the image display such as a computer and a television set.例文帳に追加

コンピュータおよびテレビ等の画像表示に使用されるプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）において、高精細化に伴い隣接する放電セルの影響による誤放電に起因するクロストークを解決し、尚且放電開始電圧を低下せしめ、高精細で低駆動電圧の優れた画質を表示するＰＤＰを実現する。 - 特許庁

In this method, raw-material powder of metal or metallic compound is heated and melted by high-temperature plasma in a prescribed gaseous atmosphere to undergo spheroidizing, and the resultant spheroidized intermediate spherical powder is heat-treated in a prescribed gaseous atmosphere, by which the spherical powder of metal and metallic compound having required composition and structure can be formed.例文帳に追加

金属又は金属系化合物の原料粉末を所定ガス雰囲気中で熱プラズマにより加熱溶融して球状化する方法、球状化した中間球状粉末を、所定ガス雰囲気中で加熱処理して、所要の組成や組織を有する金属及び金属系化合物の球状粉末を生成する。 - 特許庁

An antenna 3 made up of a plurality of antenna pieces 3a concentrically disposed in one plane and different in diameter from each other, a high-frequency power supply 1 for antenna for supplying high-frequency power to the antenna 3, and a vacuum container 7 for introducing thereinto a process gas G to be turned into plasma by using the antenna 3 are provided.例文帳に追加

同一平面内に同心状に配置された互いに径の異なる複数のアンテナ片３ａから成るアンテナ３と、アンテナ３に高周波電力を供給するアンテナ用高周波電源１と、アンテナ３を用いてプラズマ化されるプロセスガスＧが内部に導入される真空容器７と、を備える。 - 特許庁

In the case of applying microprocessing to holes and trenches by dry-etching the interlayer insulating film in a plasma environment, fluorocarbon compound gas is employed for etching gas which is halogen group gas (halogen elements are F, I and Br) wherein at least one of the I and Br is 26% or below of the total amount of halogen in terms of an atomic composition ratio and a remaining material is F.例文帳に追加

プラズマ雰囲気中でドライエッチングしてホール、トレンチを微細加工する際に、エッチングガスとして、ハロゲン系ガス（ハロゲンは、Ｆ、Ｉ、Ｂｒ）であって、Ｉ及びＢｒの少なくとも一方が、原子組成比でハロゲンの総量の２６％以下で、残りがＦであるフッ化炭素化合物ガスを用いる。 - 特許庁

In the method of producing a layered product, a carbon-containing metal oxide thin film expressed by a formula MC_xO_y (M is metal or silicon; x is 0.05 to 0.5; and y is 1.0 to 2.0) is deposited on a polymer film by a CVD method using plasma generated under a pressure close to atmospheric pressure.例文帳に追加

高分子フィルム上に、大気圧近傍の圧力下で発生するプラズマを用いたＣＶＤ法により、ＭＣ_ｘＯ_ｙ（Ｍ＝金属又は珪素、ｘ、ｙが、ｘ＝０．０５〜０．５、ｙ＝１．０〜２．０）で表される炭素含有金属酸化物薄膜を成膜することを特徴とする積層体の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide an image display device capable of holding a picture quality disturbance level always constant without worsening it due to a cyclic pattern noise appearing when dither processing or error diffusion processing is carried out even if an average picture signal level (APL) continuously varies in an image display device which performs digitally limited half-tone display like a plasma display panel (PDP) display device.例文帳に追加

プラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）表示装置等のデジタル的に限られた中間調表示を行う画像表示装置に関して、平均映像信号レベル（ＡＰＬ）の変化によって、ディザ処理や誤差拡散処理特有の周期的パターンノイズの発生による画質妨害を減少させるようにする。 - 特許庁

The plasma display device has: a 1st panel 10; a 2nd panel 20 which is arranged opposite to the inner side of the 1st panel 10 and forms a sealed discharge space 4 with the 1st panel 10; and at least a pair of discharge maintaining electrodes 12 which are formed on the inner side of the 1st panel 10 and form a discharge gap between them.例文帳に追加

第１パネル１０と、第１パネル１０の内側に対向して配置され、間に密封された放電空間４を形成する第２パネル２０と、第１パネル１０の内側に形成され、相互間に放電ギャップを形成する少なくとも一対の放電維持電極１２と、を有するプラズマ表示装置である。 - 特許庁

To provide an air flow generating device, an air flow generating unit, an air flow generating method, and an air flow control method capable of consistently generating an air flow even under a high-temperature condition or a dust containing environment by the air flow induction phenomenon by discharge plasma, and controlling the aerodynamic characteristic or the like.例文帳に追加

放電プラズマによる気流誘起現象により高温下や含塵環境下においても安定して気流を発生させることができ、空気力学的特性の制御などを行うことが可能な気流発生装置、気流発生ユニット、気流発生方法および気流制御方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a plasma display panel that includes an inspection process, which can feedback quickly the inspection result of a phosphor layer to a coating process of a phosphor material, and can determine the type of defects, and also, which is low in facility cost and running cost, and an inspection method and an inspection device for phosphor layer.例文帳に追加

蛍光体層の検査結果を速やかに蛍光体材料の被着工程にフィードバックできると共に、設備コスト及びランニングコストが低く、欠陥の種類の判別が可能な検査工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法、並びに蛍光体層の検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method, the surface of an electrode 2 disposed on a pad of a semiconductor chip formed on a substrate 1 is cleaned with a plasma, ultrasonic waves are applied to the electrode 2 in a solder melt so as to remove an oxide film and the like from the surface of the electrode 2, and a solder bump 6 is directly formed on the surface of the electrode 2.例文帳に追加

基板１上に形成された半導体チップのパッド部の電極部２の表面をプラズマクリーニングし、次いで、はんだ溶融液中にて電極部２に超音波を印加してこの電極部２表面の酸化膜等を除去し、電極部２表面上に直接はんだバンプ６を形成する。 - 特許庁

To provide a method and a device for producing a filter for selectively removing leukocytes which selectively and efficiently removes the leukocytes from a cell suspension liquid represented by blood, especially minimizing the losses of erythrocytes, blood platelets and plasma contents.例文帳に追加

血液に代表される細胞浮遊液から白血球を選択除去するためのフィルターであって、特に、赤血球、血小板、及び血漿成分の損失を極めて少なく抑えつつ、白血球を選択的に、かつ効率よく除去するための白血球選択除去フィルターを製造するための方法、および装置を提供すること。 - 特許庁

The polymeric laminate has the sheet member comprising either one of an ethylene/vinyl acetate thermoplastic elastomer foam and a 1,2- polybutadiene type thermoplastic elastomer foam both of which have plasma treated surfaces, the polymeric sheet member and the urethane adhesive layer interposed between both sheet members.例文帳に追加

表面をプラズマ処理をした、エチレン−酢酸ビニル系熱可塑性エラストマー発泡体もしくは１，２−ポリブタジエン系熱可塑性エラストマー発泡体のいずれかよりなるシート部材と、高分子シート部材と、前記シート部材と前記高分子シート部材との間に介在するウレタン系接着層と、を有する高分子積層体。 - 特許庁

The stripping composition is effective to strip photoresists, residues generated from plasma process such as organic, metal-organic materials, inorganic salts, oxides, hydroxides or complexes in combination with or exclusive of organic photoresists at low temperatures without redepositing any substantial amount of metal ions.例文帳に追加

その剥離用組成物は、プラズマ処理で発生した有機、金属−有機物質、無機塩類、酸化物、水酸化物又は有機ホトレジストと組み合わされた複合物又は有機ホトレジストを除く複合物からホトレジスト、残留物を、低温で実質的な量の金属イオンを再析出させることなく剥離するのに有効である。 - 特許庁

This semisynthetic thrombocyte gel includes: a multi-thrombocyte plasma; at least one kind of thrombocyte activator material; and polymer having biocompatibility selected from a group composed of carbomeres, polyalkylene glycols, poloxamers, polyester, polyeters, polyanhydrides, polyacrylates, polyvinyl acetates, polyvinyl pyrrolidon, polysaccharideses and derivatives thereof.例文帳に追加

多血小板血漿と、少なくとも一種の血小板活性化物質と、カルボマー類、ポリアルキレングリコール類、ポロキサマー類、ポリエステル類、ポリエーテル類、ポリ酸無水物類、ポリアクリレート類、ポリ酢酸ビニル類、ポリビニルピロリドン類、多糖類及びそれらの誘導体を含む群から選択される生体適合性を有するポリマーとを含む半合成の血小板ゲル。 - 特許庁

To provide an antireflection film which can improve the visibility of a plasma display panel(PDP) by reducing the reflection of outside light and suppressing the occurrence of double and triple images and shields electromagnetic waves and IR emitted from PDP and to provide PDP and a front plate for PDP each using the film.例文帳に追加

外光反射を抑え、かつ二重像、三重像の発生を抑えることによりプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の視認性を改良することができ、しかもＰＤＰから放出される電磁波、赤外線を遮断し得る反射防止フィルム、該フィルムを用いたＰＤＰおよびＰＤＰ用前面板を提供すること。 - 特許庁

In the plasma display panel, a dielectric layer 9 is formed so as to cover scanning electrodes 5 and sustaining electrodes 6 formed on a substrate (a front substrate 4), and a protective layer 10 is formed on the dielectric layer 9.例文帳に追加

基板（前面基板４）上に形成した走査電極５および維持電極６を覆うように誘電体層９を形成し、この誘電体層９上に保護層１０を形成したプラズマディスプレイパネルであって、保護層１０は０．１重量ｐｐｍ〜２０重量ｐｐｍの濃度範囲の珪素を含む酸化マグネシウムである。 - 特許庁

The magnetron plasma magnetic field generator comprises a dipole ring magnet, having a plurality of columnar anisotropic segment magnets disposed in a ring state, and each of the segment magnets is split in the length direction of the ring magnet, and the temperature of the divided segment magnet is controlled.例文帳に追加

本発明は、複数の柱状の異方性セグメント磁石をリング状に配置したダイポールリング磁石を備えたマグネトロンプラズマ用磁場発生装置に関し、上記複数のセグメント磁石の夫々は、上記ダイポールリング磁石の長さ方向に２分割され、分割されたセグメント磁石の温度を夫々制御する構造を有する。 - 特許庁

The method is implemented by immunologically measuring the annexin V and/or the annexin IV preferably in the blood, or more preferably in the blood plasma by using an antibody (including an antibody total molecule or a partial segment having antibody activity ) specific to each annexin.例文帳に追加

被検試料となる体液には血液、唾液、尿、脳脊髄液等が含まれるが、好ましくは血液、より好ましくは血漿中のアネキシンＶ及び／又はアネキシンＩＶをそれぞれのアネキシンに特異的な抗体（抗体全分子又は抗体活性を有する部分断片を含む）を用いて免疫学的に測定することにより実施される。 - 特許庁

The high efficiency heat conducting circuit board for electrically connecting an electronic part (5) includes a plurality of conductive contactors (4) for electrically connecting a metal oxide layer (3) formed of a micro arc oxidation on a metal substrate (2) and the electronic part (5) formed by plasma ion plating on the metal oxide layer (3).例文帳に追加

電子部品（５）を電気的に接続する高効率熱伝導回路基板は、金属基板（２）の上にマイクロアーク酸化により形成した金属酸化物層（３）と、金属酸化物層（３）の上にプラズマイオンメッキにより形成した、電子部品（５）を電気的に接続する複数の導電性接触子（４）とを含む。 - 特許庁

The surface of the substrate A transferred by a transferring means 3 is cleaned and made difficult to be charged by an atmospheric pressure plasma treatment means 1, and then the surface of the substrate A is cleaned by spraying dry ice particles on the surface of the substrate A by a dry ice particle spraying means 2.例文帳に追加

搬送手段３により搬送される基板Ａに対して、大気圧プラズマ処理手段１により、その基板Ａの表面を洗浄するとともに難帯電化し、その後、ドライアイス粒子噴射手段２により、その基板Ａの表面にドライアイス粒子を噴射させ、その基板Ａの表面を洗浄する。 - 特許庁

The plasma in a discharge tube 11 can be stabilized by low power by specifying the diameter or direction of a gas jet orifice 21a into the discharge tube 11 or by forming a rectifying part due to the gap 22 between the gas jet orifice 21a and a head 27, and specifying the size of the gap 22.例文帳に追加

放電管１１内へのガス噴出口２１ａの直径を特定し、或いはその方向を特定し、或いは、ガス噴出口２１ａとヘッド２７との間隙２２による整流部を形成し、その間隙２２の大きさを特定することにより、放電管１１内におけるプラズマを低電力で安定化させることができる。 - 特許庁

The device has the thin film transistor, in which the microcrystal is deposited through a plasma CVD method by using a first material gas containing such an element in which a number of atoms are polymerized to form a polymer when they are joined in a vapor phase, as well as a second material gas that does not form a polymer in a vapor phase.例文帳に追加

画像表示装置は気相中で結合した場合に多数の原子が重合することによってポリマーを形成する元素を含有する第１原料気体と、気相中でポリマーを形成することのない第２原料とを用いてプラズマＣＶＤ法によって微結晶を成膜した薄膜トランジスタを備える。 - 特許庁

While external heating like a heating furnace or rotary kiln is general as the heating method, a research by microwave heating in which heating is effected from the inside is practiced in recent and is used in manufacturing, and a solution means implementing activation/heating by a microwave plasma heating is attempted in order to make the heating system further effective.例文帳に追加

加熱方法としては加熱炉やロータリーキルンのような外部加熱が一般的であるが、最近では内部から加熱されるマイクロ波加熱による研究が行われ、製造に使われているが、この加熱方式をさらに効果的にするためにマイクロ波プラズマによる加熱で炭化・賦活を行うことによる解決手段を試みた。 - 特許庁

The capacity coupling type plasma processing device comprises an upper electrode divided into an inside upper electrode 60 and an outside upper electrode 62 in a radial direction, and a first and a second direct current voltages V_C, V_E independent of two variable DC power source 80, 82 are applied simultaneously to both of upper electrodes 60, 62.例文帳に追加

この容量結合型プラズマ処理装置は、上部電極を径方向で内側上部電極６０と外側上部電極６２とに二分割し、２つの可変直流電源８０，８２より独立した第１および第２直流電圧Ｖ_C，Ｖ_Eを両上部電極６０，６２に同時に印加するようにしている。 - 特許庁

To provide a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a plasma display device, in which reduction in damage to the substrate is made possible by eliminating electrification on the substrate, that is generated at sandblast process and partition wall of high manufacturing yield, high quality and high precision can be made, and also low cost and high quality display can be realized.例文帳に追加

サンドブラスト時に発生する基板への帯電を解消することにより、基板へのダメージ軽減を可能とし、高歩留りで高品質及び高精度な隔壁を形成することができ、低コストで高品位な表示を可能とするプラズマディスプレイ表示装置の製造装置および製造方法を提供することにある。 - 特許庁

In the vacuum treatment system, the vacuum treatment method using plasma generated by high frequency power and the substrate holder, a standing wave suppressing means for reducing the standing wave ratio of high frequency electric field standing waves generated on the holder, or on the holder and on the substrate placed on the holder is composed.例文帳に追加

高周波電力によって生起されたプラズマを用いて基体上に真空処理装置、真空処理方法及び基体ホルダーにおいて、ホルダー上、または該ホルダー及び該ホルダーに載置された基体上に生じる高周波電界定在波の定在波比を小さくするための定在波抑制手段を構成する。 - 特許庁

A solution or suspension of a substance containing, in a composition, an element constituting a metal or semiconductor or ions formed of the element is applied to a surface of a substrate, dried, and thereafter subjected to an exposure process by atmospheric-pressure hydrogen plasma, whereby thin-film growth nuclei for forming a thin film are formed on the substrate.例文帳に追加

金属若しくは半導体を構成する元素、又はその元素からなるイオンを組成中に含む物質の溶液又は懸濁液を、基板上に塗布し、乾燥させた後、大気圧水素プラズマにて曝露処理することにより、基板上に薄膜を形成するための薄膜成長核を形成する。 - 特許庁

To provide a treatment device and a treatment method for a treated substance capable of preventing drop-out and stably changing industrial waste into gas plasma and ionizing it, starting operation again without waiting for a long time after drop-out, and reducing a working load in taking out the treated object.例文帳に追加

処理が必要な産業廃棄物などをイオン化して処理する際に、ドロップアウトを防ぎ、安定的なガスプラズマ化及びイオン化を行うことができ、ドロップアウト後の再度稼働では長時間待つことなくかつ被処理物取り出しの作業負荷も軽減できる処理物質の処理装置および処理方法を提供する。 - 特許庁

The plasma display device comprises; a sustain pulse controller 600 which outputs a pulse number signal for controlling the number of sustain pulses according to the total operating time; a timing controller 640 which outputs a timing signal according to the pulse number signal; and an electrode driving part 650 which outputs the sustain pulses according to the timing signal.例文帳に追加

総動作時間によってサステインパルスの個数を調節するためのパルス個数信号を出力するサステインパルス調節部６００と、そのパルス個数信号に応じてタイミング信号を出力するタイミングコントローラ６４０、及び、そのタイミング信号に応じてサステインパルスを出力する電極駆動部６５０を備える。 - 特許庁

A rise in the temperature of the surface of a substrate 5 can be prevented by indirectly cooling the surface of the substrate 5 by providing a cooling holder 11 in the position opposite to the substrate 5 during consecutive plasma treatments and sealing a gas having a high heat conductivity in the space between the substrate 5 and the holder 11 spaced therefrom.例文帳に追加

連続処理の間に冷却プロセスとして基板５の対面に冷却ホルダー１１を有し、基板５と隙間をもってこの冷却ホルダー１１との間に熱伝導の良いガスを封入することで基板５表面を間接的に冷却することで基板５表面の温度上昇を防止することが実現できる。 - 特許庁