「PLASMA」に関連した英語例文の一覧と使い方(549ページ目) - Weblio英語例文検索

Cooling water flows in a space part 21 formed between the 1st quartz glass 15 and 2nd quartz glass 20 and then, the 1st quartz glass 15 is prevented from the thermal effect due to the radiant heat based on the thermal plasma or the like and the strong acid is hardly stuck on the surface of the 1st quartz glass 15.例文帳に追加

第１石英ガラス１５と第２石英ガラス２０との間に形成される空間部２１に冷却水が流されているので、第１石英ガラス１５は熱プラズマ等に基づく輻射熱による熱的影響を受けることがなく、第１石英ガラス１５表面には強酸が殆ど付着しない。 - 特許庁

To provide a porous film which is porous while taking advantage of the characteristics of in-liquid plasma such as being high in reaction speed, safe and easy to handle, less liable to be affected by the thermal expansion due to high heat insulation property, and excellent in heat resistance, and a device and a method for producing the same.例文帳に追加

この発明は、反応速度が高く、安全で取り扱いやすいという液中プラズマの特性を生かしながら、しかも、多孔質であって高い断熱性により、熱膨張の影響を受けにくく、優れた耐熱性が実現できる多孔質膜およびその生成装置と生成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A ashing method removes resist having an altered layer 4 formed on a surface by ion implantation and a non-altered layer 3 formed on a lower side of the altered layer 4, forms an applied film 5 to cover a face of a substrate on which the resist is formed, and removes the resist and the applied film 5 from the substrate by plasma treatment using reactive gas.例文帳に追加

イオン注入により表面に形成された変質層４とその下の未変質層３とを有するレジストを除去するアッシング方法であって、基板の前記レジストが形成された面を覆うように塗布膜５を形成し、前記レジストと前記塗布膜５とを反応性ガスを用いたプラズマ処理により除去する。 - 特許庁

To provide a method for producing a polyester monofilament for a screen gauze excellent in the uniformity of gauze-extended strength on being used as a screen gauze-printing on applying paste used as a dielectric substance or an electrode on a substrate plate in a CD-printing and graphic printing or in the production of plasma display, and the polyester monofilament for the screen gauze.例文帳に追加

ＣＤ印刷やグラフィック印刷、プラズマディスプレイ製造時に基板に誘電体や電極として使われるペーストを塗布する際のスクリーン紗印刷に用いた際に、紗張り強度均一性に優れたスクリーン紗用ポリエステルモノフィラメントの製造方法およびスクリーン紗用ポリエステルモノフィラメントを提供する。 - 特許庁

To provide a method of chipping, a semiconductor wafer in which a thin part is formed by plasma etching and it is difficult to apply a dicing method for the chipping, wherein there is a low possibility that a wafer is damaged in handling, it is unnecessary to increase a production process and the number of semiconductor devices to be taken can be increased.例文帳に追加

プラズマエッチングによって肉薄部を形成されてチップ化にダイシング法を適用することが困難な半導体ウェハをチップ化する方法であって、取扱い時にウェハを破損する可能性が低く、製造工程を増やす必要がなく、且つ半導体デバイスの取れ個数をより多くできる方法を提供する。 - 特許庁

A film-forming gas, comprising an alkoxy compound having a Si-H bond, or a siloxane having a Si-H bond, and an oxygen containing any one of O2, N2O, NO2, CO, CO2 or H2O, is turned into a plasma and is made to react, and a silicon-containing insulation film 24 is formed.例文帳に追加

Ｓｉ−Ｈ結合を有するアルコキシ化合物、又はＳｉ−Ｈ結合を有するシロキサンと、Ｏ_2、Ｎ_2Ｏ、ＮＯ_2、ＣＯ、ＣＯ_2、又はＨ_2Ｏのうち何れか一の酸素含有ガスとからなる成膜ガスをプラズマ化し、反応させて、シリコン含有絶縁膜２４を形成することを特徴とする成膜方法による。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device is characterized by forming a wiring before conducting sealing with a resin and modifying a runner portion 14 to be hydrophobic by carrying out hydrophobic atmospheric pressure plasma treatment utilizing hydrophobic gas through a mask 20 on the runner portion 14 on the surface of a substrate 10 on which an electronic component 17 is mounted.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、樹脂封止前に、配線が形成され、電子部品１７が搭載された基板１０の表面のランナー部１４に、マスク２０を介して疎水性ガスを利用した疎水性大気圧プラズマ処理を行ってランナー部１４を疎水性に改質したことを特徴する。 - 特許庁

A fine channel such as micro and nano channels is formed by growing vertically a nano wire using plasma CVD or thermal CVD and metal nano fine particles arranged in a pattern on a substrate as growth nuclei after vapor-depositing the metal nano fine particles in a pattern for the growth nuclei of the nano wire on the substrate.例文帳に追加

基板上にナノワイヤの成長核となる金属ナノ微粒子をパターン蒸着した後、プラズマＣＶＤ若しくは熱ＣＶＤを用いて、基板上にパターン配置された金属ナノ微粒子を成長核として、ナノワイヤを垂直成長させて、マイクロ流路やナノ流路の微細流路を製造する。 - 特許庁

To provide a gas barrier film having an excellent gas barrier property as compared with a conventional gas barrier film since even when a gas barrier layer is formed by a plasma CVD method, a substrate is not etched, an irregularity is not generated in the gas barrier property and adhesion of the substrate to a laminate is not decreased.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法によりガスバリア層を形成した場合であっても、基材がエッチングされることがなく、ガスバリア性にムラが生じたり、基材と積層体との密着性が低下することがなく、さらに、従来のガスバリアフィルムと比べて、極めて優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁

In a plasma display panel having a main structure made up by sealingly together bonding two confronting substantially rectangular glass panels, a back panel 1 and a front panel 2, with a seal material 3 in between, cutout parts 9A to 9H are provided in corner parts of the glass panels positioned in the vicinity of thermo-compression bonded parts 10.例文帳に追加

対向する２枚の略矩形状のガラスパネルである背面パネル１と前面パネル２とがシール材３を介して封着して成る主構造を有するプラズマディスプレイパネルにおいて、ガラスパネルの頂部のうち熱圧着部１０の近傍に位置する頂部において切り欠き部９Ａ〜９Ｈを設ける。 - 特許庁

An organic coating film 13 having low oxygen plasma resistance and a low dielectric constant is utilized for the formation of the multilayered wiring structure of the semiconductor device by forming the film 13 after multilayered wiring is formed, and an inter-wiring interlayer insulating film 7 is selectively removed in a self-aligning way by using the multilayered wiring as a mask.例文帳に追加

多層配線を形成後、配線をマスクとし、自己整合的に配線間の層間絶縁膜７を選択除去した後、塗布型有機低誘電率膜１３を形成することで、酸素プラズマ耐性が低い塗布型有機低誘電率膜１３を半導体装置の多層配線構造の形成に利用する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which gives a resist pattern having high sensitivity and high resolution as ≤0.15 μm and having a square cross section in the production of a semiconductor device and to provide a positive photoresist composition showing small dimensional shift when a pattern is transferred to a lower layer in an oxygen plasma etching process of a two-layer resist method.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において高感度且つ0.15μｍ以下の高解像力を有し、矩形形状を有するレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物、２層レジスト法において酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The channel 68 is formed along the inner surface of the member, and covers the outer surface of the tube to carry a microwave-absorbing cooling liquid to the outer surface of the tube, whereby an electric field enters the tube by the medium adjoining to the channel 68, and plasma can be maintained in the tube while the liquid flows through the channel.例文帳に追加

チャネル６８は、部材の内表面に沿って形成され、マイクロ波吸収冷却液を管の外表面上に運ぶために管の外表面を覆い、チャネル６８に隣接した媒体により、電界が管に入り、液体がチャネルを流れている間、管内にプラズマを持続させることが可能になる。 - 特許庁

The waveform of a driving voltage in which the last sustaining pulse voltage Vsn (V) in the sustenance period just before an initialization period when the applying of an initializing pulse voltage Vr (V) is performed is made smaller than a previous sustaining pulse voltage Vst (V) is used as the waveform of the driving voltage to be outputted by the driving part of a plasma display device.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置の駆動部が出力する駆動電圧の波形として、初期化パルス電圧Ｖｒ（Ｖ）の印加が行われる初期化期間の直前の維持期間での最後の維持パルス電圧Ｖｓｎ（Ｖ）をそれ以前の維持パルス電圧Ｖｓｔ（Ｖ）より小さくした駆動波形を用いる。 - 特許庁

In the method of dry-etching the silicon nitride film 103 for dry-etching the silicon nitride film 103, the silicon nitride film 103 is dry-etched with no generation of plasma by using a process gas at least containing a hydrogen fluoride gas (HF gas) and a fluorine gas (F_2 gas) for an object to be processed 100 with the silicon nitride film 103 formed.例文帳に追加

窒化珪素膜１０３をドライエッチングする窒化珪素膜１０３のドライエッチング方法であって、窒化珪素膜１０３が形成された被処理体１００に対して、少なくともフッ化水素ガス（ＨＦガス）とフッ素ガス（Ｆ_２ガス）とを含む処理ガスを用いて、プラズマを生成することなく、窒化珪素膜１０３をドライエッチングする。 - 特許庁

A production method of the magnetic recording medium in which at least a magnetic layer, a protective film layer and a lubricant layer are sequentially laminated on a non-magnetic substrate is characterized in that the protective film layer is surface treated using a gas activated by plasma generated at a pressure in the vicinity of atmospheric pressure.例文帳に追加

非磁性基板上に少なくとも磁性層、保護膜層、潤滑剤層を順次積層する磁気記録媒体の製造方法において、大気圧近傍の圧力下で発生するプラズマによって活性化されたガスを用いて保護膜層を表面処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The electronic part mounting device 1 is equipped with a chamber 2 subjecting a board 91 and an electronic part 92 to plasma cleaning, a mounting mechanism 3 mounting the electronic part 92 on the board 91, and a transfer robot 4 transferring the board 91 and the electronic part 92 from the chamber 2 to the mounting mechanism 3.例文帳に追加

電子部品装着装置１において基板９１および電子部品９２にプラズマ洗浄を施すチャンバ２、電子部品９２を基板９１に装着する装着機構３、および、基板９１および電子部品９２をチャンバ２から装着機構３へと搬送する搬送ロボット４を設ける。 - 特許庁

To provide a plasma display device constituted to correct a white balance while suppressing luminance degradation on a low light emission times region side where electric power consumption is suppressed by APL and to correct the white balance to bluish white on a high light emission times region side where electric power consumption is not suppressed and the light emission times increase.例文帳に追加

ＡＰＬにより消費電力が抑制される低発光回数領域側での輝度低下を抑えながらホワイトバランスを補正し、そして、消費電力が抑制されずに発光回数が増加する高発光回数領域側で、青味を帯びた白色にホワイトバランスを補正するようにしたプラズマディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

The laser beam irradiation is performed so that an arbitrary irradiation area on the thin film irradiated with the laser beam partly overlaps with a next irradiation area on the thin film irradiated with the laser beam, and when a plasma display panel is viewed from its front, overlapping parts 74 of the irradiation areas are formed so as to come into line with barrier ribs 32.例文帳に追加

レーザビームは、任意のレーザビームが照射される薄膜上の照射領域と、続くレーザビームが照射される薄膜上の照射領域とが一部重合するように照射され、プラズマディスプレイパネルの前面から見たとき、この照射領域の重合部７６が、隔壁３２に一致して形成されている。 - 特許庁

This plasma display uses a front filter, introducing a neon-cut filter for cutting a light in the vicinity of 585 nm, and its reflectance at each peak wavelength 436 nm B1, 547 nm C1, and 612 nm D1 by each RGB of a general fluorescent lamp is within plus or minus 4% to each average reflectance at above three points.例文帳に追加

プラズマディスプレイにおいて、５８５ｎｍ付近のネオンカットフィルタを導入した前面フィルタであって、一般的な蛍光灯のＲＧＢ毎のピーク波長４３６ｎｍＢ１、５４７ｎｍＣ１、６１２ｎｍＤ１での透過率が、上記三点での透過率の平均値に対して、プラスマイナス４％の範囲内とする。 - 特許庁

A carrier device 15 of a dry etching apparatus 1 carries a preprocessing tray 3 from main shelves 67b, 68b of a cassette 62 in a stock section 13 to a rotary stage 33, and after alignment processing at the rotary stage 33, carries the tray 3 to a plasma treatment section 11 through temporally placing sections 67c, 68c in the cassette 62.例文帳に追加

ドライエッチング装置１の搬送装置１５は、処理前のトレイ３をストック部１３のカセット６２の主棚部６７ｂ，６８ｂから回転ステージ３３に搬送し、回転ステージ３３でのアラインメント処理後のトレイ３をカセット６２の仮置き棚部６７ｃ，６８ｃを経てプラズマ処理部１１へ搬送する。 - 特許庁

To provide a glass composition which is used for forming a dielectric body or a partition wall of a plasma display panel, a fluorescent indicator tube or a field emission display, does not contain harmful matters and causes little environmental load, and to provide a glass paste composition which can greatly reduce the warping of the substrate by using this glass composition.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル、蛍光表示管、あるいはフィールドエミッションディスプレイの誘電体又は隔壁形成に用いられ、有害物を含有せず環境負荷が小さいガラス組成物、およびこのガラス組成物を用いることで基板の反りを大幅に低減させることができるガラスペースト組成物を提供する。 - 特許庁

This is the manufacturing method of the oxide conductive material adjusts a suspension containing a compound composed of an indium compound and two or more elements selected from a group composed of Sn, Zn, Mg, Ni, Al, Ga, Si, and Ge, obtains a vaporized mixture by supplying the suspension into thermal plasma, and cools the mixture.例文帳に追加

インジウム化合物、及びＳｎ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｇａ、Ｓｉ及びＧｅからなる群から選択される２以上の元素を含有する化合物を含む懸濁液を調製し、前記懸濁液を熱プラズマ中に供給して気化混合物とし、前記混合物を冷却する酸化物導電性材料の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a single crystal SiC by carbonization of a surface of a Si substrate allowing formation of a high quality single crystal 3C-SiC thin film on the surface of the Si substrate by using atmospheric pressure plasma at a lower temperature and a higher speed as compared with a conventional thermal method, and to provide a crystalline SiC substrate.例文帳に追加

大気圧プラズマを用いて、従来の熱的な手法に比べ、より低温で、かつ、より高速に高品位な単結晶３Ｃ-ＳｉＣ薄膜をＳｉ基板上に形成することが可能なＳｉ基板表面の炭化による単結性ＳｉＣの形成方法及び結晶性ＳｉＣ基板を提供する。 - 特許庁

As for this plasma display panel 1 in which a first dielectric layer 7 to cover a display electrode 6 composed of a scanning electrode 4 and a sustaining electrode 5 and/or a second dielectric layer 12 to cover a data electrode 11 are made as a multi-layered structure, the upper layer of the multi-layered structure does not cover the edge of the lower layer.例文帳に追加

走査電極４と維持電極５とからなる表示電極６を覆う第一誘電体層７および／または、データ電極１１を覆う第二誘電体層１２が、多層構造であるプラズマディスプレイパネル１において、多層構造の上層が、下層のエッジを覆わないように構成する。 - 特許庁

The production method of the optical film is based on an atmospheric pressure plasma discharge apparatus and method and, therein, the surface treatment is performed by using a surface treatment means disposed on at least one part in the processes from an unwinder of base film or the base film formed with thin film to a winder thereof.例文帳に追加

大気圧プラズマ放電処理装置及び方法による光学フィルムの製造方法において、基材フィルムまたは薄膜形成された基材フィルムのアンワインダーからワインダーまでの工程内の少なくとも一箇所に設けた表面処理手段により表面処理を行うことを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁

A Faraday shield 9 shielding a capacity coupling between the high frequency induction antennas and the plasma and making an inductive coupling is endowed with a power supply of an output from a high frequency power source 45 for the Faraday shield controlled by a phase controller 44 via a matching unit 46, based on monitoring by a phase detector 47-2.例文帳に追加

高周波誘導アンテナとプラズマ間の容量結合を遮断し誘導結合させるファラデーシールド９には、位相検出器４７−２による監視の基に、位相制御器４４から制御を受けたファラデーシールド用高周波電源４５からの出力が整合器４６を介して電源供給される。 - 特許庁

The control means 71 monitors a fluctuation of the detecting output of an exhaust gas sensor 4 in a combustion cycle equivalent time of an internal combustion engine 1 and a control signal is outputted to the high voltage generating device 6 in a manner to match with a fluctuation of the detecting output and a feed power to the plasma discharge device 3 is controlled.例文帳に追加

制御手段７１は、内燃機関１の燃焼サイクル相当時間内での排ガスセンサ４の検知出力の変動を監視しており、この検知出力の変動に合せて、高電圧発生装置６に制御信号を出力してプラズマ放電装置３への供給電力を制御する。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of symmetrically and uniformly generating a plasm density distribution throughout the center part and an outer periphery by forming openings for entering a processing gas at the center part of the lower part in a reaction chamber and a side surface thereof and by providing fan-shaped antennas below the reaction chamber.例文帳に追加

反応チャンバ内の下部中央部及び側面に処理ガスの流入口を形成し、反応チャンバ下部に扇形アンテナを具備することでプラズマ密度分布を中央部と外郭にかけて対称的でかつ均一に発生させることができる誘導結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

The organic gas treatment component is formed by providing electrodes 2 on both surfaces of a honeycomb body 5 carrying an adsorbent for the organic gas and insulating a space between the electrode 2 and the body 5 with an insulator 3 such as a mica, and an electric source of high voltage is connected so as to cause plasma between the electrodes 2 of the organic gas treatment element.例文帳に追加

有機ガスの吸着剤を担持したハニカム体５の両面に電極２を設け、電極２とハニカム体５との間をマイカなどの無機絶縁材３で絶縁した有機ガス処理素子を備え、有機ガス処理素子の電極間２にプラズマを発生させる高圧電源を接続するようにした。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor 28 is provided with a conductive base material 71, a photosensitive layer 73 provided on the conductive base material 71 and a protective layer 76 provided on the photosensitive layer 73 and formed so that metal oxide fine particles 76a produced by plasma process, are contained in a binder resin 76b.例文帳に追加

本発明に係る電子写真感光体２８は、導電性基材７１と、導電性基材７１上に設けられた感光層７３と、感光層７３上に設けられており、プラズマ法により生成された金属酸化物微粒子７６ａをバインダ樹脂７６ｂ中に含む保護層７６と、を備える。 - 特許庁

To obtain an electrostatic chuck that can increase the plasma- resistance property of an electrostatic chuck base, without damaging attraction force by the Johnson-Rahbek effect, can suppress generation of impurity elements that become the contamination source for a body to be attracted and generation leakage current accompanying reduction of resistivity, and can be used over a wide temperature range.例文帳に追加

ジョンソンラーベック力による吸着力を損なうことなく、静電チャック基材の耐プラズマ性を高め、被吸着体に対して汚染源となる不純物元素の発生、及び、抵抗率の低下に伴うリーク電流の発生を抑制でき、幅広い温度範囲で使用できる静電チャックを提供する。 - 特許庁

To execute surface treatment by generating microwaves or high-frequency plasma in a tube-shaped material in which at least the inner wall has electric conductivity, repeatedly applying a pulse bias of the negative potential to the tube-shaped material and thereby irradiating or impregnating the inner wall of the tube with ions and to improve various characteristics thereof.例文帳に追加

少なくとも内壁が導電性である管形状物内にマイクロ波あるいは高周波プラズマを生成し、管形状物に繰り返し負電位のパルスバイアスを印加することによって管内壁にイオンを照射あるいは注入することによって表面処理を施し、様々な特性を改善することにある。 - 特許庁

To reduce the number of working processes and failure rate, in a mask arranging apparatus adopted for various apparatus executing thin film formation by plasma and etching to a relatively large substrate such as a glass substrate for liq. crystals or the like, by separating the functions such as a temp. controlling mechanism from a mask as maintenance parts.例文帳に追加

液晶用ガラス基板等の比較的大型の基板に対して、プラズマによる薄膜形成やエッチングを行う各種装置に採用されるマスク配設装置おいて、メンテナンス部品であるマスクから温度調節機構等の機能を分離することによって、作業工数や故障率を低減させることを目的とする。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation processing device allowing accurate measurement of the quantity of electron beam emitted from an electron beam tube by reducing generation of the abnormal plasma inside a chamber due to introduction of a power supply line, which is used for supplying electric power to a power driving part such as a heater, into the chamber.例文帳に追加

ヒータ等の電力駆動部に電力を供給するための電力供給線をチャンバー内に導入したことによって生ずるチャンバー内の異常プラズマの発生を抑制し、電子線管から出射される電子線量を正確に測定することを可能にした電子線照射処理装置を提供すること。 - 特許庁

The pattern formation method includes a step of providing affinity for liquid by means 102 for selectively generating plasma on a liquid-repellent thin film, for example, a semiconductor film, on a substrate having insulating property, for example, a glass substrate, and discharging a drop composition onto the surface having affinity for liquid by drop discharge means 103.例文帳に追加

絶縁性を有する基板、例えばガラス基板上に撥液性の薄膜、例えば半導体膜に選択的にプラズマを発生する手段１０２によって親液性にし、前記親液性表面に、液滴吐出手段１０３により液滴組成物を吐出して、パターンを作製する工程を含む。 - 特許庁

The dielectric film forming method is provided with a process for improving the surface of a SiO_2 film 2 by irradiating the SiO_2 film 2 with plasma 3 and a process for forming an SBT raw-material film 5 by depositing mist of SBT raw-material 4 on the improved surface of the SiO_2 film 2.例文帳に追加

この誘電体膜の形成方法は、被成膜面としてのＳｉＯ_2膜２にプラズマ３を照射することによって、ＳｉＯ_2膜の表面を改質する工程と、その改質されたＳｉＯ_2膜の表面上に、霧状のＳＢＴ原料４を堆積することによって、ＳＢＴ原料膜５を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

Impurity such as steam is added to the composition of oxygen plasma to reduce the electric charges on the exposed metal plug to prevent corrosion of the metal plug when the substrate 200 is wet-cleaned, which improves the phenomenon of increase in contact resistance or a broken wire which is often observed in a conventional technology.例文帳に追加

酸素プラズマの組成中に水蒸気のような不純物を添加することにより露出された金属プラグに蓄積される電荷を減少させて、湿式洗浄時に金属プラグの腐蝕が発生することを防止し、従来技術に見られたコンタクト抵抗値の増大もしくは断線という現象を改善する。 - 特許庁

To manage the temperature of a collector mirror (1;5) for focusing short-wavelength radiation generated from a plasma 2 which allows an efficient thermal connection to be produced, between an optically active mirror surface (12) and a thermostat system, without the disadvantages related to spatial requirements or high-precision manufacture of the collector mirror (1;5).例文帳に追加

空間要件または集光鏡（１；５）の高精度の製作のための要件に関連する欠点を生じずに、効率的な熱連結を光学的に活性な鏡面（１２）とサーモスタットシステムとの間に形成し、プラズマ（２）から生成される短波長放射線を集束するための集光鏡（１；５）の温度を管理する。 - 特許庁

A method for manufacturing the electrophotography photoreceptor comprises, generating plasma between a substrate 112 in a reactive vessel 111 and the reactive vessel 111 of which the high frequency power is supplied, and sequentially layering a blocking underlayer, a photoconductive layer, and a non single-crystal hydrocarbon-film as a surface layer, in this order on the substrate 112.例文帳に追加

反応容器１１１内の基体１１２と、高周波電力が供給された反応容器１１１との間にプラズマを発生させ、基体１１２上に、下部阻止層、光導電層、及び表面層としての非単結晶炭化水素膜をこの順番で積層して電子写真感光体を製造する。 - 特許庁

In a planar antenna 66 for introducing microwaves for generating plasma from a plurality of slots 84 into a treatment vessel, capable of being evacuated and having a base therein on which a member to be processed is placed, the slots 84 are surrounded by a curve into a planar shape.例文帳に追加

被処理体Ｗを載置する載置台２４を内部に設けて真空引き可能になされた処理容器２２内に対して、複数のスロット８４からプラズマ発生用のマイクロ波を導入するための平面アンテナ部材６６において、前記スロットの平面形状は、曲線により囲まれた形状になされている。 - 特許庁

To provide a display device which is large in signal transmission rate in the display device and has large effect when used for a large-screen and high-definition plasma display etc., wherein the number of signal lines can be reduced and electromagnetic disturbance generated from a signal path can be supressed so as to attain cost reduction.例文帳に追加

本発明は、表示装置内部での信号伝送レートが大きく大画面高精細となるプラズマディスプレイなどに使用されて効果の大である表示装置に関するものであり、信号線数を削減すると共に信号経路から発生する電磁妨害を抑制できコスト低減を可能とする表示装置を提供する。 - 特許庁

The thick film forming paste for manufacturing the plasma display free from disconnection, chipping or the generation of pinholes is supplied by manufacturing the thick film forming paste by preparing an organic vehicle by previously dissolving components soluble in a binder, screening with a ≤5 μm opening mesh and further adding solid components.例文帳に追加

予めバインダーに溶解可能な成分を溶解させ有機ビヒクルを製造した後、これを目開き５μｍ以下で濾過し、さらに固形成分を加えて、厚膜形成用ペーストを製造することにより、断線やかけ、ピンホールのないプラズマディスプレイを製造するための厚膜形成用ペーストを供給することができる。 - 特許庁

Hydrogen ions which are accelerated by a gas discharge plasma or which are extracted from an ion source are injected into the surface of a mixed molten metal of a nuclear fusion substance and an electron donor catalyst inside an electrode, united atoms are formed by a cohesive force acting between atoms inside the molten metal, and a nuclear fusion reaction is induced.例文帳に追加

電極内の核融合物質と電子ドナー触媒の混合溶融金属表面にガス放電プラズマで加速又はイオン源から引出した水素イオンを注入して、前記溶融金属内の原子間に働く凝集力による融合原子形成で核融合反応を誘発させること。 - 特許庁

The bed sheet is produced by forming a hydrophilic layer 2 on one side of a base material 1 composed of woven or nonwoven fabric of polyester fiber by a discharge plasma graft-polymerization treatment of acrylic acid as a polymerizable monomer, porosifying individual fibers 3 constituting the hydrophilic layer 2, and including a noble metal into the hydrophilic layer 2.例文帳に追加

ポリエステル繊維製の織布又は不織布からなる基材１の片面に、アクリル酸を重合性単量体とする放電プラズマグラフト重合処理によって親水層２を形成するとともに、親水層２を構成する個々の繊維３を多孔質化し、この親水層２に貴金属を含有させて敷布を得る。 - 特許庁